公开(公告)号：CN207540993U

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201721011974.5

申请日：2017-08-14

Applicant: 东莞天卫隐身技术有限公司 ,  东莞同济大学研究院

Inventor： 程凯扬 ,  魏泽勇 ,  黄瀛 ,  李宏强

IPC: G01N22/00

Abstract: 本实用新型涉及微波测试装置的技术领域，具体涉及一种吸波材料反射率的测试装置，包括测试仪、成对同轴设置的测试组件和成对同轴设置的摆动机构，各个测试组件包括伸缩臂和用于测试的发射器/接收器，伸缩臂的底端部对应与摆动机构的摆动轴固接，发射器/接收器安装在伸缩臂的顶端部；测试装置至少包括一个发射器和一个接收器，通过收缩其中一个伸缩臂的长度，就可以摆动控制两个伸缩臂的位置进行交叉互换，解决以往架设困难、适用性差的问题，另外，可通过单独对两个摆动机构进行控制，以使两个伸缩臂摆动不同的角度，通过两个伸缩臂不同的伸缩量，以使两个伸缩臂形成高度差，进而可相互交叉重叠,最终实现反射率双站RCS、角谱分布测试等功能。

公开(公告)号：CN206864639U

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201621480534.X

申请日：2016-12-30

Applicant: 东莞同济大学研究院 ,  东莞天卫隐身技术有限公司

Inventor： 张旭 ,  李宏强 ,  魏泽勇 ,  程凯扬

IPC: H01Q17/00

Abstract: 本实用新型涉及一种太赫兹电磁波吸收器，包括多个吸波功能单元，吸波功能单元呈方形体结构，包括导电膜层厚度为0.4～1.6μm；介质层厚度为20～30μm；吸收层厚度为0.4～1.6μm。吸收层是回转的鱼形线结构，包括4个结构相同的吸收单元，每个吸收单元包括吸收部和一个位于外部的耦合块，吸收部包括多条长吸收条，相邻两条长吸收条的一个端部之间设置有短连接吸收条，短连接吸收条交错设置在吸收部；相邻两条长吸收条之间的间距为0.2～0.4μm；吸收部的尾部与耦合块连接；耦合块的长度方向与吸收部的长度方向垂直设置，且耦合块与相邻的另一吸收单元的吸收部的首部连接。本实用新型可有效对太赫兹波段的电磁波进行吸收。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN206541918U

公开(公告)日：2017-10-03

申请号：CN201720094240.1

申请日：2017-01-24

Applicant: 东莞同济大学研究院 ,  东莞天卫隐身技术有限公司

Inventor： 张旭 ,  李宏强 ,  魏泽勇 ,  程凯扬

IPC: H01P1/219 ,  H01Q17/00

Abstract: 本实用新型涉及一种具有吸波功能的微波波段带通滤波器，属于无线通信和新型人工电磁材料技术领域。其包括：多个正方形的滤波单元，所述滤波单元由4个呈正方形设置的吸收单体拼接而成，吸收单体包括：位于底层的金属滤波层，其厚度为17～36μm；位于中间层的介质层，其厚度为2～6mm；位于表层且金属材质的耦合层，其厚度为17～36μm；其中，耦合层的中部设有通孔并将耦合层分成两部分，且耦合层呈对称结构；相邻的两个吸收单体的通孔方向垂直。本实用新型结构可以在S波段的高频部分或C波段的低频部分有透射，而在C波段的高频部分和X、Ku波段有很多吸收波段，从而大大提高了信噪比。

公开(公告)号：CN206863258U

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201621483825.4

申请日：2016-12-30

Applicant: 东莞同济大学研究院 ,  东莞天卫隐身技术有限公司

Inventor： 张旭 ,  李宏强 ,  魏泽勇 ,  程凯扬

IPC: G02B5/00

Abstract: 本实用新型涉及一种主要针对波长在400纳米至830纳米光谱范围内的光进行吸收的基于齿形结构的光吸收器。光吸收器包含多个回音壁型吸波单元，回音壁型吸波单元包含：位于底层的金属底层，厚度为：t金属2；位于中间层的介质层，厚度为t介质；t介质＝60～80nm；位于表层且金属材质的光耦合层，其厚度为t金属1；t金属1：t介质：t金属2＝1：(1.5～3)：(4～7.5)；所述光耦合层呈矩形设置，且中部设有矩形的耦合孔；光耦合层的4个侧面均设有至少两个矩形耦合凹孔，相邻的两个矩形耦合凹孔之间形成凸齿；位于同一侧面的所有矩形耦合凹孔的长度相等。本实用新型结构可有效对可见光以及近红外光进行吸收。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN205958926U

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：CN201620887356.6

申请日：2016-08-15

Applicant: 东莞同济大学研究院 ,  东莞科伏精密制造有限公司

Inventor： 李宏强 ,  魏泽勇 ,  曾威 ,  武超 ,  林彦霆 ,  黄宇宇

IPC: G03F7/20

Abstract: 本实用新型涉及一种光刻机，具体涉及一种曝光装置可旋转的光刻机。包括工作平台、PLC控制系统、曝光装置。组装时，X轴滑动平台与Z轴滑动平台通过滑动槽连接，X轴滑动平台和Z轴滑动平台分别与电机连接，实现平移，曝光装置设置在X轴靠后位置，曝光装置与电机连接，实现调节曝光装置与X轴的夹角，托盘与电机连接，曲面产品放置在托盘上，用设置在托盘的夹角固定，避免旋转过程中被甩出。通过曝光装置照射的光线的垂直入射，提高光刻的均匀性，实现光刻的高精度。