公开(公告)号：CN101713067A

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200910179605.0

申请日：2009-09-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松永正信 ,  野寺伸武 ,  长谷部一秀

IPC: C23C16/54 ,  C23C16/455 ,  H01L21/00

CPC classification number: C23C16/345 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45542 ,  C23C16/45546 ,  H01L21/3141 ,  H01L21/3185

Abstract: 本发明提供一种成膜方法及成膜装置。在立式批量型CVD装置中，成膜方法构成为反复多次循环并将每次循环形成的薄膜进行层叠。循环是交替地进行以下工序：吸附工序，其用于使原料气体吸附在被处理基板的表面上；以及反应工序，其用于使反应气体与吸附原料气体发生反应。吸附工序构成为一边保持切断反应气体的供给一边隔着停止对处理区域供给原料气体的中间子工序来进行多次对处理区域供给原料气体的供给子工序。反应工序构成为一边保持切断原料气体的供给一边对处理区域连续供给反应气体。