公开(公告)号：CN101155463A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200710163060.5

申请日：2007-09-29

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  国立大学法人东北大学

Inventor： 堀口贵弘 ,  大见忠弘 ,  平山昌树

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  C23C16/511

Abstract: 本发明提供一种抑制气体的流速的微波等离子体处理装置。微波等离子体处理装置(100)具有：通过缝隙天线(30)透过微波的由多个电介质零件(310)构成的电介质窗；固定在梁(26)下面的多个气体喷嘴(27)；供给规定的气体的气体供给部；用透过电介质窗的微波使规定的气体成为等离子体，对被处理体进行处理的处理室(U)。各电介质零件(31)具有：具有第一气孔率的第一多孔材料(31Ph)；和连接于第一多孔材料(31Ph)并且具有小于第一气孔率的第二气孔率的第二多孔材料(31P1)。气体供给部通过第一多孔材料(31Ph)，从第二多孔材料(31P1)将氩气导入处理室内(U)，并从气体喷嘴(27)将硅烷气体导入处理室内(U)。

公开(公告)号：CN101155462A

公开(公告)日：2008-04-02

申请号：CN200710161767.2

申请日：2007-09-25

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 堀口贵弘

IPC: H05H1/46

Abstract: 本发明涉及微波等离子体处理装置、其制造及使用方法、一体型槽形成部件，实现阻断处理室内与大气的连通的密封部件的配置合理化。微波等离子体处理装置(100)具备将微波通过槽(37b)并进行传播的槽天线(30)；和利用传播过槽天线(30)的微波将规定的气体等离子体化，对被处理体实施等离子体处理的处理室(U)。在波导管(33)的下部设置有一体型槽形成部件(37)，该一体型槽形成部件(37)是在将填充有电介质部件的槽(37b)嵌入到用于嵌入槽(37b)的框体(37a)中的状态下一体地形成。在由金属构成的框体(37a)与盖主体(21)之间，配设有O型环(50)。由此，阻断处理室(U)和大气的连通，对处理室(U)内进行真空密封。

公开(公告)号：CN101090598A

公开(公告)日：2007-12-19

申请号：CN200710109175.6

申请日：2007-06-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 堀口贵弘

IPC: H05H1/46 ,  H01L21/02

CPC classification number: C23C16/511 ,  C23C16/45565 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32229

Abstract: 本发明涉及微波等离子体处理装置，利用波长可变物质，使波导管长度最优。微波等离子体处理装置(100)包括波导管(30)、有多个槽缝(31)的槽缝天线(32)、多个电介体(33)和处理室(U)。微波依次在波导管(30)、槽缝(31)、电介体(33)传播，供给到处理室(U)，使气体等离子体化，处理基板(G)。在波导管(30)内端面(C)附近填充氧化铝(50)及特氟隆(35)。由于管内波长(λg)在氧化铝(50)中比特氟隆(35)中短，当微波在波导管(30)中传播时，与只填充特氟隆(35)相比，从波导管(30)端面(C)至最短槽缝中央间的物理特性上的长度保持为λg/4，并能缩短其间的机械长度。结果，没有波导管端部的死空间(D)，能够等间隔配置电介体(33)。