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公开(公告)号：CN105483432B
公开(公告)日：2017-08-25
申请号：CN201510881116.5
申请日：2015-12-03
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开了一种钛合金耐磨层，由TiAl2或TiAl3的钛铝中间合金、碳化钨、碳化硼和钛粉组成，在所述的耐磨层中，铝的质量百分比为4～12％，碳化钨的质量百分比为5～15％，碳化硼的质量百分比为1～3％，余量为钛。还提供了上述的一种钛合金激光熔覆用耐磨层的制备方法，先对钛合金样品进行表面清理、打磨；然后称取钛粉、钛铝中间合金粉、碳化钨粉和碳化硼粉制备混合粉末；在样品室中，采用激光在钛合金的表面利用混合粉末进行熔覆；熔覆的过程中采用惰性气体保护，熔覆后冷却；对钛合金熔覆层进行清理、打磨。本发明具有熔覆层硬度高、耐磨性好、适用钛合金范围广、处理效率高的优点。
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公开(公告)号：CN104911672B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201510247856.3
申请日：2015-05-15
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开一种用于制备WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层的微弧氧化溶液及制备方法和应用。所述用于制备WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层的微弧氧化溶液，按每升计算由1‑3gKOH、2‑6gNa2SiO3、1‑3gNaF、5‑15gNa2WO4、1‑3g三乙醇胺和余量去离子水组成。其制备方法即将KOH、Na2SiO3、NaF、Na2WO4和三乙醇胺加入到去离子水中搅拌混合均匀即得用于制备WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层的微弧氧化溶液。利用该微弧氧化溶液可在较高的电压和电流下在纯钛或钛合金样品表面快速成膜。该WO3掺杂的二氧化钛光催化膜层为多孔结构，具有高比表面积、更高的可见光吸收率，同时膜层制备成本低。
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公开(公告)号：CN103035831B
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201210322652.8
申请日：2012-09-03
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明提供一种在铝基板上加工LED绝缘层的制造方法，其特征在于,包括：(1)去油，用布擦拭铝基板的表面以去除该铝基板上的油污；(2)将保护膜覆盖住铝基板上不需要加工的表面；(3)微弧氧化，将覆盖保护膜后的铝基板放入电解液中进行微弧氧化，使铝基板上未被覆盖的表面产生了与该铝基板为一体的氧化铝绝缘层；（4）抛光，采用抛光装置对氧化铝绝缘层进行抛光，使氧化铝绝缘层的表面光洁，并控制该氧化铝绝缘层成一定厚度；（5）清洗，用水清洗抛光后的氧化铝绝缘层的表面；（6）干燥，将清洗后的氧化铝绝缘层自然干燥。
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公开(公告)号：CN103866232B
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：CN201410080085.9
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海理工大学
IPC: C23C14/06 , C23C14/35 , H01L31/18 , H01L31/0749
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开一种无镉的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的缓冲层的制备方法，所述无镉的铜铟镓硒薄膜太阳能电池自下而上依次为基体层、Mo层、铜铟镓硒层、i-ZnO层和n-ZnO层，其中i-ZnO层为缓冲层。所述缓冲层i-ZnO层采用射频磁控溅射方法制备，过程控制溅射室本底真空度5.0×10-4Pa，射频溅射功率200W，溅射氩气流量32sccm，基底温度25-350℃，溅射气压0.2-1.5Pa，得到的缓冲层i-ZnO层具有很好的ZnO（002）面c轴择优取向，晶粒尺寸均匀，与基底结合致密，可见光平均透过率可达86.9%；禁带宽度为3.225-3.25eV。具有制备过程简单，生产成本低，适于工业化生产。
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公开(公告)号：CN104087898A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201410341995.8
申请日：2014-07-18
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开一种具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层及制备方法。所述具有超高硬度、低摩擦系数的TiSiCN纳米复合涂层是采用多靶磁控溅射仪，由TiSiC复合靶材在依次经抛光、超声波清洗、离子清洗后的基体上进行磁控溅射反应沉积而形成的。所述TiSiC复合靶材中，按原子比计算，Ti为84%，Si和C的总原子量为16%。该TiSiCN纳米复合涂层的硬度为36.1-46.0GPa，与GCr15钢球的摩擦系数为0.30-0.38，可用在干式、高速切削加工刀具以及在摩擦磨损条件服役的部件表面，从而提高刀具及部件表面性能和使用寿命。其制备方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度高等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103878551A
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201410120368.1
申请日：2014-03-27
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明提供一种高强度铜镍硅引线框架材料的生产方法，其特征在于，包括以下工序：工序一，配制原料；工序二，熔炼；工序三，水平连续铸造；工序四，连续挤压；工序五，冷轧和时效：冷轧分为两个道次，在两个道次之间对坯料进行时效处理；工序六，精整。根据本发明所提供的高强度铜镍硅引线框架材料的生产方法，简化了传统生产方法的加工过程，降低了加工温度，因此可以降低设备投资和能源消耗，提高生产效率和产品成品率，完全符合生产企业可持续发展所需遵循的节能减排和高效生产的目标。
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公开(公告)号：CN103866232A
公开(公告)日：2014-06-18
申请号：CN201410080085.9
申请日：2014-03-06
Applicant: 上海理工大学
IPC: C23C14/06 , C23C14/35 , H01L31/18 , H01L31/0749
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开一种无镉的铜铟镓硒薄膜太阳能电池的缓冲层的制备方法，所述无镉的铜铟镓硒薄膜太阳能电池自下而上依次为基体层、Mo层、铜铟镓硒层、i-ZnO层和n-ZnO层，其中i-ZnO层为缓冲层。所述缓冲层i-ZnO层采用射频磁控溅射方法制备，过程控制溅射室本底真空度5.0×10-4Pa，射频溅射功率200W，溅射氩气流量32sccm，基底温度25-350℃，溅射气压0.2-1.5Pa，得到的缓冲层i-ZnO层具有很好的ZnO（002）面c轴择优取向，晶粒尺寸均匀，与基底结合致密，可见光平均透过率可达86.9%；禁带宽度为3.225-3.25eV。具有制备过程简单，生产成本低，适于工业化生产。
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公开(公告)号：CN103757597A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410044737.3
申请日：2014-02-07
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开一种TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层及制备方法。所述TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层由纳米复合结构的CrAlSiN层和TiN层交替沉积在基体上形成，靠近基体的一层为TiN层，最上层为纳米复合结构的CrAlSiN层；所述TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层厚度为2.0-3.2μm，所述纳米复合结构的CrAlSiN层厚度为1.2nm，所述的TiN层厚度为6.0nm。其制备方法包括清洗基体和交替溅射CrAlSiN层和TiN层等2个步骤。该TiN/CrAlSiN纳米复合多层涂层硬度较高，当Si与CrAl的原子比，即Si：CrAl为5:20时，其硬度高达39.7GPa。
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公开(公告)号：CN103305789A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201210510010.0
申请日：2012-12-02
Applicant: 上海理工大学
Abstract: 本发明公开了一种CrAlN/ZrO2纳米多层涂层及其制备方法。所述涂层由多个CrAlN层和ZrO2层构成，各CrAlN层和ZrO2层交替沉积在基体上，其总厚度约为2.0～4.0μm。其制备方法首先将基体表面抛光处理，经超声波清洗和离子清洗后，再采用反应溅射法在基体上交替溅射CrAlN层和ZrO2层。本发明的CrAlN/ZrO2纳米多层涂层可同时具有高硬度和高抗氧化性能，其最大硬度可达47.2GPa，由于ZrO2层的插入阻碍了Cr、Al原子向外部的扩散以及O原子向内部的扩散，因此提升了涂层的抗氧化性能，即使在空气中加热到1000℃保温30min，其硬度仍可保持36.8GPa。因此，该涂层可作为高速切削刀具及其它高温条件下服役耐磨工件的保护涂层，其制备方法具有工艺简单、沉积速度快、成本低、结合强度高等优点。
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公开(公告)号：CN102199785B
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201110179072.3
申请日：2011-06-29
Applicant: 上海理工大学
IPC: C25D11/26
Abstract: 本发明公开了一种钛合金耐磨涂层的微弧氧化溶液及其应用。所述的溶液包括溶质和溶剂，溶质为KOH、Na2SiO3、NaF、三乙醇胺及Na2B4O7，溶剂为去离子水。所述的应用即钛合金耐磨涂层的微弧氧化溶液对钛合金样品表面进行微弧氧化获得具有耐磨涂层的钛合金，即包括钛合金耐磨涂层的微弧氧化溶液的配制，钛合金样品表面除油、清洗，微弧氧化及微弧氧化后的钛合金表面的清洗及干燥等4个步骤。本发明的一种钛合金耐磨涂层的微弧氧化溶液在较高的电压和电流下快速成膜，从而显著提高了氧化膜的生长效率，且微弧氧化后形成的耐磨涂层硬度高，达到HV700以上，从涂层的生长效率及涂层的硬度和耐磨性上，优于现有微弧氧化工艺。
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