公开(公告)号：CN1482854A

公开(公告)日：2004-03-17

申请号：CN03150181.8

申请日：2003-07-18

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 松田政幸 ,  熊泽光章 ,  石原庸一 ,  平井俊晴 ,  小松通郎

IPC: H05K9/00 ,  H05F1/02

CPC classification number: H05K9/0096 ,  C08K3/08 ,  C08K3/10 ,  C08K3/36 ,  C09D1/00 ,  C09D5/24 ,  C09D183/02 ,  C09D183/04 ,  H01B1/16 ,  H01B1/18

Abstract: 本发明公开了一种用于形成透明导电薄膜的涂层液，包括平均颗粒直径1－200nm的导电微粒、4－200nm的二氧化硅颗粒和极性溶剂。二氧化硅颗粒为由平均2－10个颗粒连接成的链式形式，其中碱的含量按碱金属M计不超过1000ppm。本发明还公开了一种带透明导电薄膜的基层，包括基质、在基质上形成并含有平均颗粒直径1－200nm的导电微粒和4－200nm的二氧化硅颗粒和或由平均2－10个颗粒连接而成的链式二氧化硅颗粒的透明导电微粒层，及设置在该微粒层上且折射系数低于透明导电微粒层的透明薄膜。本发明进一步公开了一种应用该带透明导电薄膜的基层的显示设备。该涂层液可形成具有低表面电阻、优良的抗静电性能、优良的电磁屏蔽性能、高薄膜强度和对基质的优良粘附性的透明导电薄膜。

公开(公告)号：CN1459348A

公开(公告)日：2003-12-03

申请号：CN03136718.6

申请日：2003-05-20

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 俵迫祐二 ,  金南宪 ,  平井俊晴

IPC: B22F9/24 ,  C03C17/06

Abstract: 本发明提供能用于形成防带电性和电磁屏蔽性优良，且制造可靠性和成本也非常理想的透明导电性覆膜的铟系金属微粒及其分散溶胶。该铟系金属微粒的特征是，平均粒径在2～200nm的范围内。上述铟系金属微粒可以只含有铟金属，也可以含有铟金属和选自Sb、Sn、Ag、Au、Zn、Cu、Bi、Cd的1种以上的金属成分。上述铟系金属微粒分散到水及/或有机溶剂而形成铟系金属微粒分散溶胶。该铟系金属微粒的制造方法的特征是，在含铟化合物及有机稳定剂、且溶剂中的醇含量在40重量％以上的混合醇溶液中加入还原剂。

公开(公告)号：CN1451475A

公开(公告)日：2003-10-29

申请号：CN03122008.8

申请日：2003-04-16

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 足立健太郎 ,  福田盛男

IPC: B01J21/06 ,  B01J35/04 ,  B01D53/86 ,  B01D53/94

Abstract: 提供一种蜂窝状结构体的挤出成型性优良的、由二氧化钛和/或钛复合氧化物的粉末构成的蜂窝状废气处理催化剂用原料以及使用该原料的、具有有机卤化合物的高分解活性和高脱氮活性的催化剂。一种蜂窝状废气处理催化剂用二氧化钛粉末以及使用该二氧化钛粉末的蜂窝状废气处理催化剂。其中所说的蜂窝状废气处理催化剂用二氧化钛粉末是由二氧化钛和/或钛复合氧化物组成的蜂窝状废气处理催化剂用二氧化钛粉末，其特征在于，具有下述性状：(a)采用粉末X射线衍射法测定的锐钛矿型二氧化钛结晶的(101)面的二氧化钛粉末相对于基准试样的峰强度比处于特定范围内；(b)锐钛矿型结晶(101)面的微晶粒径处于8～22nm的范围内；(c)含有0.3～5.0重量％的硫酸根(SO4)。

公开(公告)号：CN86104860A

公开(公告)日：1987-04-29

申请号：CN86104860

申请日：1986-08-05

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 佐藤护郎 ,  绪方政光 ,  井田孝德 ,  增田立男

IPC: B01J27/16 ,  B01J37/08 ,  C10G11/02

CPC classification number: B01J29/06 ,  C10G11/05

Abstract: 一种催化剂组合物，其制备方法是将磷加入到一种纤维状假勃姆石(直径为0.05～0.3微米，长度≥0.5微米)的水凝胶浆中，然后与一结晶硅铝酸盐沸石和一粘土矿物混合，再将此混合物进行喷雾干燥和煅烧。该组合物的总的孔体积(PV)为0.3～0.7立方厘米/克，直径为600埃或600埃以下的孔的体积(PVa)为0.1～0.3立方厘米/克，PVb/PVa比(PV-PVa-PVb)为0.5～2.0。该组合物用于重质油(特别是渣油)的流化催化裂化时具有优越的活性、选择性和金属容限。

公开(公告)号：CN100410341C

公开(公告)日：2008-08-13

申请号：CN200480014648.9

申请日：2004-06-04

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 吉田宣昭 ,  中岛昭

IPC: C09D183/00 ,  B32B27/28 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C09D183/04 ,  C09D183/14 ,  G02F1/133345

Abstract: 本发明提供可以形成耐擦伤性、耐酸性、耐碱性、耐水性、绝缘性优异，与电极膜或者由聚酰亚胺等疏水性强的树脂构成的膜(定向膜)等的粘合性也良好，而且韧性、柔性优异的透明被膜的透明被膜形成用涂布液。本发明的透明被膜形成用涂布液是在由水和有机溶剂构成的混合溶剂中分散基质形成成分得到的透明被膜形成用涂布液，其特征在于该基质形成成分含具有2个以上水解性基团的有机硅化合物或其水解产物。

公开(公告)号：CN101142501A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200580049061.6

申请日：2005-10-28

Applicant: 精工爱普生株式会社 ,  触媒化成工业株式会社

Inventor： 内藤修二 ,  木下淳 ,  沓掛裕辅 ,  竹下克义 ,  水野人志 ,  田中博和

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: B29D11/00865 ,  Y10T428/256

Abstract: 本发明涉及一种塑料透镜以及制造塑料透镜的方法，所述透镜表现出优异的耐候性和耐光性，并对形成在其上的有机抗反射薄膜具有最小的劣化影响。所述塑料透镜由塑料透镜基材、形成在所述塑料透镜基材上的硬质涂层和形成在所述硬质涂层上的抗反射膜构成，其中所述硬质涂层由涂层组合物形成，所述涂层组合物含有无机氧化物微粒和作为粘合剂的有机硅化合物，所述无机氧化物微粒含有氧化钛并具有金红石型微晶。

公开(公告)号：CN101096564A

公开(公告)日：2008-01-02

申请号：CN200710127923.3

申请日：2007-06-26

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 松田政幸 ,  熊泽光章 ,  平井俊晴

IPC: C09D183/00 ,  C09D133/00 ,  C09D4/02 ,  C09D7/12

Abstract: 本发明提供一种透明被膜形成用涂料，该透明被膜形成涂料可以形成与基材的密接性、强度、斥水性、耐白化性等优良的低折射率被膜，而且可以形成反映基材或下层表面的形状的透明被膜，例如当下层表面具有各种凸凹时，表面具有与该凸凹相同的凸凹的透明被膜，因此可非常适合用于形成防反射性能、防眩性能等均优良的透明被膜。该透明被膜形成用涂料含有低折射率微粒、基质形成成分、聚合引发剂和溶剂，其特征在于，(i)低折射率微粒经硅烷偶联剂处理，该经表面处理的低折射率微粒的折射率在1.20～1.45的范围内，该低折射率微粒的浓度以固形成分计在0.1～10重量％的范围内，(ii)基质形成成分为有机硅系树脂及/或丙烯酸系树脂，基质形成成分的浓度以固形成分计在0.5～20重量％的范围内。

公开(公告)号：CN101089056A

公开(公告)日：2007-12-19

申请号：CN200710109844.X

申请日：2007-05-31

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 熊泽光章 ,  村口良 ,  平井俊晴

IPC: C09D1/00 ,  C09D133/00 ,  C09D7/12 ,  C09D5/00 ,  C09C3/12 ,  C09C3/10 ,  C09C1/00

Abstract: 本发明提供一种透明被膜形成涂料，该透明被膜形成涂料可以涂布1种涂料一次，形成具有至少2种以上功能的透明被膜。该透明被膜形成涂料是含有以下成分的透明被膜形成涂料，(A)金属氧化物微粒(A)，该微粒的表面用有机硅化合物及/或具有疏水性官能基的多官能丙烯酸酯树脂进行了表面处理，且表面电荷量(QA)在5～80μeq/g的范围内；(B)基质形成成分，该成分含有疏水性基质形成成分，该疏水性基质形成成分包括有机硅化合物或其水解物、水解缩聚物，及/或具有疏水性官能基的多官能(甲基)丙烯酸酯树脂；(C)极性溶剂。其中，金属氧化物微粒(A)的作为固形成分的浓度(CPA)在0.1～20重量％的范围内，基质形成成分(C)的作为固形成分的浓度(CM)在1～50重量％的范围。

公开(公告)号：CN1989070A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200580024339.4

申请日：2005-07-19

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 村口良 ,  熊泽光章 ,  平井俊晴

IPC: C01B33/18 ,  C09D201/00

CPC classification number: C01B33/193 ,  C01B33/18 ,  C08K3/36 ,  C08K7/26 ,  C09C1/30 ,  C09D7/61 ,  C09D7/67 ,  C09D7/68 ,  Y10T428/2995 ,  Y10T428/31935

Abstract: 为了得到低折射率的二氧化硅类微粒，制成外壳内部具有多孔物质及/或空腔的中空球状二氧化硅类微粒。通过边调整二氧化硅源与除二氧化硅以外的无机氧化物源的添加比率，边使多孔复合氧化物微粒(一次粒子)成长，然后除去二氧化硅以外的无机氧化物，制备在外壳内部具有空腔的中空球状二氧化硅类微粒的分散液。然后根据需要清洗二氧化硅类微粒分散液后，在常温～300℃的范围内熟化，进一步在50～300℃的范围内进行水热处理。

公开(公告)号：CN1281491C

公开(公告)日：2006-10-25

申请号：CN200410084010.4

申请日：2004-10-13

Applicant: 触媒化成工业株式会社

Inventor： 村口良 ,  熊泽光章 ,  西田广泰 ,  平井俊晴

IPC: C01B33/18

CPC classification number: H01B1/08 ,  C01P2006/40 ,  C01P2006/60 ,  C09C1/3054 ,  Y10T428/2991

Abstract: 本发明提供一种折射率低并且具有导电性的氧化锑被覆氧化硅类微粒。此氧化锑被覆氧化硅类微粒由多孔质的氧化硅类微粒或内部具有空洞的氧化硅微粒上被覆氧化锑而形成。此氧化锑被覆氧化硅类微粒的折射率在1.35～1.60的范围内，体积电阻值在10～5000Ω/cm的范围内，平均粒径在5～300nm的范围内，氧化锑被覆层的厚度在0.5～30nm的范围内。