-
公开(公告)号:CN209388088U
公开(公告)日:2019-09-13
申请号:CN201821788344.3
申请日:2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种电致变色显示面板及电子纸,该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板,所述电致变色像素阵列包括若干阵列排布,独立控制的电致变色单元,所述电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层,所述黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极,所述彩色结构层设置在黑色结构层一侧。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色,又能显示其他颜色,其显示颜色丰富,且结构简单,易于制备,节约了生产成本、提高了产品质量。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN212391692U
公开(公告)日:2021-01-22
申请号:CN201821788481.7
申请日:2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种电致变色显示面板及电子纸,包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板,电致变色像素阵列包括电致变色单元,电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层,黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极,彩色结构层包括横向排布的RGB结构单元或RGBW结构单元;其中,第一电极具有与第二电极相对的第一相对面,第二电极具有与第一电极相对的第二相对面,第一相对面和/或第二相对面上设有不平整面。本实用新型既能显示黑色,又能显示其他颜色,其显示颜色丰富,并在电极上设有不平整面,使两电极之间的电场的分布更均匀,从而加强其导电性效果、加快变色层的变色效果,且结构简单,易于制备。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN212391691U
公开(公告)日:2021-01-22
申请号:CN201821788356.6
申请日:2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
Abstract: 本实用新型涉及一种电致变色显示面板及电子纸,该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板,电致变色像素阵列包括若干阵列排布,独立控制的电致变色单元,电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层,黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极,彩色结构层包括若干横向水平排布的红色、绿色、蓝色滤光片,彩色结构层设置在黑色结构层一侧;第一电极具有与第二电极相对的第一相对面,第二电极具有与第一电极相对的第二相对面,第一相对面和/或第二相对面上设有若干微纳结构。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色,又能显示其他颜色,且其透明电极之间电场分布均匀,具有较佳的显示效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN211928362U
公开(公告)日:2020-11-13
申请号:CN201821788357.0
申请日:2018-11-01
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学 , 苏州工业园区中为柔性光电子智能制造研究院有限公司
IPC: G02F1/153 , G02F1/155 , G02F1/157 , G02F1/1516 , G02F1/1523
Abstract: 本实用新型涉及一种电致变色显示面板及电子纸,该电致变色显示面板包括依次设置的承印基底层、印刷油墨层、透光层、电致变色像素阵列和基板层,印刷油墨层附着在承印基底层上,电致变色像素阵列包括依次设置在透光层上的第一透明电极、黑色电致变色层和第二透明电极,黑色电致变色层包括若干电致变色黑子像素单元,通电时,所黑色电致变色层变成纯黑色,断电时,黑色电致变色层为透明色;印刷油墨层包括多个CMY彩色油墨点阵,电致变色显示面板通过印刷油墨层显示除纯黑色外的各种颜色;第一透明电极具有与第二透明电极相对的第一相对面,第二透明电极具有与第一透明电极相对的第二相对面,第一相对面和/或第二相对面上设有微纳结构。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN211786586U
公开(公告)日:2020-10-27
申请号:CN202020503405.8
申请日:2020-04-08
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本实用新型公开了一种光刻设备,包括激光输出装置、光路选择装置、检测模块和光刻模块,所述激光输出装置发射激光至所述光路选择装置,所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块。本实用新型还公开了一种光刻设备,利用上述光刻设备进行光刻。通过所述光路选择装置选择将激光反射至所述光刻模块或所述检测模块,以使光刻设备能实时检测曝光能量,保证了光刻效果,提高了光刻效率,提升了产品的良品率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN210348197U
公开(公告)日:2020-04-17
申请号:CN201921717535.5
申请日:2019-10-14
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种温度控制装置,安装于激光直写设备上,激光直写设备包括架体、设置在架体内用以进行激光直写的工作区域、位于工作区域上方的密闭区域、位于工作区域下方的温控区域及与工作区域、温度控制装置信号连接的控制器,温度控制装置包括:温度传感器,设置在工作区域内以检测工作区域内的温度;冷水机,与温度传感器信号连接;风道机构,竖向设置在工作区域内且连接温控区域及密闭区域;冷凝翅片,设置在温控区域内且连接冷水机及风道机构;风扇,设置在风道机构上;风机过滤器,设置在密闭区域内且用以将流向至工作区域的气流过滤。本申请的温度控制装置能够集成至激光直写设备上,且控温精度高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN208833940U
公开(公告)日:2019-05-07
申请号:CN201820790299.9
申请日:2018-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B6/00 , G02F1/13357 , G02B27/22 , G02B27/26 , H04N13/31
Abstract: 本实用新型涉及显示技术,特别涉及背光板、包含该背光板的防窥视显示装置以及包含该背光板的用于实现裸眼三维图像显示的装置。按照本实用新型一个方面的背光板包含:导光板,其包含位于导光板上表面、下表面或内部的第一微结构,该第一微结构具有周期性分布的第一单元,所述光源发出的光束经所述第一微结构散射至导光板的外部;以及光学膜,其设置于经第一微结构散射至导光板外部的光束的传播方向上并且包含位于光学膜表面的第二微结构,该第二微结构具有周期性分布的第二单元,经所述第一微结构散射至导光板的外部的光束经第二微结构变换为准直光束或会聚光束。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN207833126U
公开(公告)日:2018-09-07
申请号:CN201721210196.2
申请日:2017-09-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 一种3D显示装置,包括背光结构、二维图像显示器二维图像显示器和光场调制器,二维图像显示器设置于背光结构与光场调制器之间,光场调制器设置于二维图像显示器的显示面前方。本实用新型的3D显示装置能解决由于匹配间隙,导致光场调制器中的纳米像素与二维图像显示器上的像素对准误差问题。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN207502824U
公开(公告)日:2018-06-15
申请号:CN201721617035.5
申请日:2017-11-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/01
Abstract: 本实用新型涉及一种光波导镜片及显示装置,该光波导镜片包括波导衬底、中转元件、至少一个输入元件和至少一个输出元件,所述中转元件、输入元件和输出元件设置在所述波导衬底上。该光波导镜片和显示装置通过在输入元件和输出元件中设置一个中转元件,该中转元件为衍射式浮雕光栅,光束通过输入元件射入至中转元件后,进行两次相消的反射衍射,使其在第二方向上扩展,最后通过输出元件在第一方向上进行扩展,完成输出图像的2D扩展。并且,通过设置单片或双片或者三片光波导镜片,该光波导镜片和显示装置能够实现单色显示和/或彩色显示。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
-
公开(公告)号:CN205942088U
公开(公告)日:2017-02-08
申请号:CN201620007579.9
申请日:2016-01-06
Applicant: 苏州大学
Abstract: 本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制与光刻系统,该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组,4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件,光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间,该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制,在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本实用新型通过子元件实现对子波面的分立、实时调控,通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出,通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中,实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。
-
-
-
-
-
-
-
-
-