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公开(公告)号：CN116652393A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310572478.0
申请日：2023-05-18
IPC: B23K26/362 , B23K26/08 , B23K26/70 , B23K26/082 , G06T3/00
Abstract: 本申请涉及一种三维激光刻写方法、装置、计算机设备和系统。所述方法包括：依次获取刻写对象每层对应的二维灰度图；基于所述二维灰度图获取每个刻写点的刻写图像数据；依次控制位移台移动至每行所述刻写点对应的起始位置并控制所述位移台按照指定程序移动，在所述位移台到达指定位置时，控制数字微镜基于对应的所述刻写点的所述刻写图像数据进行并行激光刻写操作。通过本申请，解决了相关技术中刻写效率较低，并且刻写质量较差的技术问题，通过移动位移台去除了拼接步骤，并通过数字微镜并行进行激光刻写，进而提高了激光刻写的效率和质量。
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公开(公告)号：CN116642882A
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202310423940.0
申请日：2023-04-20
Abstract: 一种基于脉冲调制的干涉散射泵浦探测成像系统，包括飞秒激光器、分束镜、非共轴光参量放大器、全反镜、超连续谱产生装置、电控位移台、二向色镜、反射式物镜、凸透镜、单色仪、光电探测器、锁相放大器、窄带滤光片、空间滤波器、互补金属氧化物半导体和计算机等部件。本发明还包括一种基于脉冲调制的干涉散射泵浦探测成像系统。本发明将超快光谱技术与干涉散射成像方法相结合，实现对单颗粒样品的检测，可视化能量载体的传输，分布和弛豫过程。再利用非共轴光参量放大技术调制泵浦/探测脉冲，抑制激子漂白，最大化激发态吸收过程，实现飞秒时间分辨率下的激子共振干涉信号增强，可以提升泵浦探测成像系统的灵敏度。
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公开(公告)号：CN115826354B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202211447277.X
申请日：2022-11-18
Abstract: 本发明公开了一种基于硅氢加成反应的飞秒激光光刻胶及制备、图案化方法，该光刻胶包括含硅氢键化合物和含不饱和双键化合物，通过非线性双光子吸收，发生硅氢加成反应交联形成三维网状结构，显影后得到图案。本发明的光刻胶体系中无光引发剂，通过飞秒激光诱导共价键生成，无需催化剂即可进行硅氢加成反应，操作简单；同时，光刻胶体系中含硅氧烷结构，具有耐候性、耐氧化稳定性、耐腐蚀等特性，有助于增加与基材的附着力。
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公开(公告)号：CN116572533A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310259330.1
申请日：2023-03-13
IPC: B29C64/386 , B29C64/268 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光直写打印方法，包括：基于最大刻写长度刻写的直线中选取粗细均匀且连续的线段，作为转镜的有效刻写长度；根据预设打印参数和有效刻写长度，计算获得打印平台的单次移动距离；根据预设打印参数，有效刻写长度以及单次移动距离，生成一个或多个连续垂直分布于转镜扫描平面的二维刻写数据文件；根据预设的刻写功率，二维刻写数据文件输入至三维阵列打印系统中，通过刻写激光对打印平台上的刻写材料进行循环输出，获得所述三维结构对应的阵列打印件。本发明还提供了一种激光直写打印方法。本发明提供的方法可以有效解决实际三维刻写过程中耗时过长的问题。
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公开(公告)号：CN116564361A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310266267.4
申请日：2023-03-13
IPC: G11B7/0045 , G03F7/20 , G11B7/126 , G11B7/1353
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的高速刻录系统的光存储方法，所述光存储方法基于高速刻录系统实现，包括：一、编码包括数据信息和刻录坐标的待存储数据，获得对应的二进制编码；二、调整二进制编码，获得存储编码；三、校准高速数字输出卡和确定刻录基底面；四、根据存储编码生成对应的光强波形数据并存入校准好的高速数字输出卡中；五、校准物镜与刻录基底面之间的光学球差，控制刻录激光进行y轴方向的刻录操作；六、调节物镜焦距的偏移量，并重复步骤五，直至完成z轴方向上所有存储编码的刻录，获得三维体存储数据。本发明还提供了一种光存储装置。本发明提供的方法解决了现有技术中数据存储时间过长的问题，提高了刻录的成功率和精确性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116466547A
公开(公告)日：2023-07-21
申请号：CN202310304049.5
申请日：2023-03-21
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于光纤传输的超分辨直写式光刻系统，包括激光模块，抑制模块，合束模块，样品台以及位移台；所述激光模块，用于产生多路并行的圆形实心直写光束；所述抑制路模块，用于产生多路并行的环形光束；所述合束模块，用于将每一路中圆形实心直写光束和环形光束的光斑中心重合，获得刻写光束；所述样品台布置在位移台上，用于固定待刻写的样品；所述位移台，根据预设移动路线，在刻写过程中带动样品台上的样品做水平位移；所述刻写光束聚焦到样品上，引发光刻胶聚合反应生成刻写图案。本发明还提供了一种超分辨直写式光刻方法。本发明提供的系统可以有效提高刻写过程的刻写效率和刻写分辨率。
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公开(公告)号：CN116300332A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310136507.9
申请日：2023-02-20
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高通量光纤点阵成像直写系统，包括：光源、光纤调制器、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜、高精度位移台、控制单元；光源、光纤阵、准直镜、管镜一、管镜二、直写物镜依次同光轴布置，光纤阵中每一根单模光纤均配有光纤调制器；准直镜的后焦面和管镜一的前焦面重合，管镜一的准直端朝向准直镜，管镜二的准直端朝向直写物镜，管镜一和管镜二的成像面重合，管镜二的前焦面和直写物镜的入瞳重合，直写物镜的焦面与高精度位移台的上表面重合；控制单元用于控制光纤调制器和高精度位移台，实现设定图案的直写。本发明的结构简单、直写效率高、能直写任意图形。
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公开(公告)号：CN112731776B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202110048105.4
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置，包括偏振控制模块、准直扩束系统、激发光束阵列掩膜、偏振分光镜、四光束干涉形成的抑制光虚拟掩膜、聚焦高数值孔径物镜以及三维可控精密位移台等主要装置，所述的空间光调制器实时连续加载不同的计算全息图实现激发光束阵列子光束的开光，从而实现不同图案的直写。四光束两两呈一定角度干涉形成光学掩膜作为抑制光阵列，从而提高直写分辨率。这使得该系统的直写效果更加丰富，直写效率与分辨率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号：CN116233606A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310513844.5
申请日：2023-05-09
Abstract: 本申请提供一种光斑自动跟焦装置及其方法。该光斑自动跟焦装置包括光源、光学系统、物镜、物镜压电位移器、四象限光电探测器及控制系统，光源发出的入射光束经由光学系统和物镜通过入射光路入射到样品表面，其中，四象限光电探测器用于接收经样品表面反射并经由物镜和光学系统通过反射光路出射的反射光束，并将反射光束的光信号转换为四路电信号；控制系统用于基于四路电信号来确定入射到样品表面的入射光斑的离焦量，并基于入射光斑的离焦量来生成补偿控制信号给物镜压电位移器；物镜压电位移器用于基于补偿控制信号来控制物镜沿轴向移动以使入射光斑能够始终聚焦于样品表面。本申请能够自动控制物镜轴向运动以达到自动跟焦目标。
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公开(公告)号：CN115996515A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
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