公开(公告)号：CN118732159A

公开(公告)日：2024-10-01

申请号：CN202310331482.8

申请日：2023-03-30

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 田家裕 ,  长瀬健司 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02B6/122 ,  G02B6/12 ,  G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明的光学器件具有：基板；以及至少2个光波导，其形成于基板，且在光的传播方向上面向位于基板上的结合部，在垂直于光的传播方向的截面上，将一个光波导的、与其他光波导面对的侧面与基板所成的角度设为α，将一个光波导的、不与其他光波导面对的侧面与基板所成的角度设为β，满足：α＜β，其中，α≤90°，β≤90°。由此，在至少2个光波导内传播的光在接近结合部时倾向于向光波导间传播。由此，可以降低合波时光的传输损耗。

公开(公告)号：CN115910837A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202111160899.X

申请日：2021-09-30

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明涉及湿法处理装置、湿法处理方法以及薄膜器件的制造方法。湿法处理装置具备：容器，其至少一个面的一部分开口，并且在相互相对的一对内壁之间具有由用于各一块地收纳晶圆的保持槽构成的狭缝；浴槽，其用于使收纳于容器内的晶圆相对于液面以水平的方向浸没；以及运转装置，其使容器能够水平地往返移动。根据本发明，能够使晶圆在湿法处理面的整个面上均匀地进行湿法处理。

公开(公告)号：CN115413329A

公开(公告)日：2022-11-29

申请号：CN202180026047.3

申请日：2021-03-31

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕

IPC: G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明提供一种电光器件，其具备：基板；设置于所述基板上的规定区域并由铌酸锂或铌酸钽形成的光波导膜；缓冲层，与所述光波导膜邻接而形成；以及电极，对所述光波导膜施加电场，在所述规定区域外具备未透光的光波导膜。根据本发明的电光器件，能够抑制光的传播损耗。

公开(公告)号：CN115362407A

公开(公告)日：2022-11-18

申请号：CN202180025893.3

申请日：2021-03-31

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕 ,  宫田晋吾

IPC: G02F1/03

Abstract: 本发明提供一种电光器件，其具备：基板；光波导，由在所述基板上以脊状形成的电光材料膜构成；缓冲层，覆盖所述光波导而设置；以及上部电极，经由所述缓冲层设置于所述光波导上，所述缓冲层在所述光波导上的所述上部电极侧具有凹陷。根据本发明的电光器件，能够抑制光的传播损耗。

公开(公告)号：CN115145063A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202210309674.4

申请日：2022-03-28

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明提供一种光学器件，其具备：基板；光波导，其形成于基板；以及保护层，其邻接于光波导而形成，光波导具有与基板交叉的多个侧面，在光波导的至少一个侧面具有粗糙面。根据本发明的光学器件，能够降低光的传输损耗。

公开(公告)号：CN1988120A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200610168721.9

申请日：2006-12-19

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  川畑贤一

IPC: H01L21/60 ,  H01L21/48 ,  H05K3/32 ,  H05K3/46

CPC classification number: H01L25/16 ,  H01L23/5389 ,  H01L24/24 ,  H01L24/82 ,  H01L2224/24226 ,  H01L2224/73267 ,  H01L2224/82039 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01043 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/14 ,  H01L2924/30107 ,  H05K1/185 ,  H05K3/0044 ,  H05K3/4652 ,  H05K2201/0209 ,  H05K2201/09509 ,  H05K2201/09518 ,  H05K2201/10674 ,  H05K2203/025 ,  H05K2203/0554 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T29/49128 ,  Y10T29/4913 ,  Y10T29/49139 ,  Y10T29/49151 ,  Y10T29/49155

Abstract: 本发明提供一种IC内置基板的制造方法，该方法不会对嵌入到树脂层中的半导体IC芯片带来由热和加重(应力)所造成的损伤，还能应对衬垫电极数的增加和细间距化。首先，通过光刻和蚀刻来选择性地去除设于芯基板(11)的两面上的铜箔(12)，从而在芯基板(11)上形成布线和焊盘这样的导电图形(13)。接着，通过将半导体IC芯片(14)面朝上安装于芯基板(11)上的规定区域后，将其嵌入树脂薄片(16)内。然后，通过用保形加工选择性地去除形成于树脂薄片(16)的表面上的铜箔(17)，从而形成用于形成通孔的掩模图形。之后，通过以实施了保形加工的铜箔(17)为掩模的喷砂处理，形成通孔(19)。

公开(公告)号：CN116324596A

公开(公告)日：2023-06-23

申请号：CN202180066533.8

申请日：2021-09-29

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02F1/035

Abstract: 本发明提供一种光调制器，其具备：基板；形成于基板上的多个电光材料层；以及形成于电光材料层上的电极，电光材料层具有施加调制信号并图形化的RF部波导和施加直流偏压信号并图形化的DC部波导，在垂直于光的传播方向的截面上，DC部波导的截面积大于RF部波导的截面积。根据本发明的光调制器，能够抑制直流漂移。

公开(公告)号：CN115903134A

公开(公告)日：2023-04-04

申请号：CN202111160906.6

申请日：2021-09-30

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 田家裕 ,  长瀬健司 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02B6/125

Abstract: 本发明提供一种光学器件，具备：基板；形成于所述基板上的具有不同厚度的平板部的多个光波导路径。根据本发明的光学器件，能够抑制各个光波导路径中的传播损耗。

公开(公告)号：CN115145059A

公开(公告)日：2022-10-04

申请号：CN202110341709.8

申请日：2021-03-30

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 长瀬健司 ,  田家裕 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02F1/035 ,  G02F1/03

Abstract: 本发明提供一种光调制器，其具有：基板；形成于基板上的多个电光材料层；以及形成于电光材料层上的电极，电光材料层具有施加调制信号并图形化的RF部波导和施加直流偏压信号并图形化的DC部波导，在垂直于光的传播方向的截面上，RF部波导经由比RF部波导的宽度宽的连接部波导而连接于DC部波导。根据本发明的光调制器，能够抑制直流漂移。

公开(公告)号：CN114326251A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202011049946.9

申请日：2020-09-29

Applicant: TDK株式会社

Inventor： 田家裕 ,  长瀬健司 ,  A·R·M·宾拉奥 ,  王进武

IPC: G02F1/225

Abstract: 本发明提供一种电光器件，其具备：基板、形成于基板上的光波导、以及形成于光波导上的上部电极，电光器件还具备形成于基板和上部电极之间的缓冲层，光波导和缓冲层的边界部形成与光波导和缓冲层不同组成的氧化物层。根据本发明的电光器件，能够抑制光的传播损耗。