用于薄晶片处理的可移动真空载具

    公开(公告)号:CN102754199A

    公开(公告)日:2012-10-24

    申请号:CN201080063771.5

    申请日:2010-12-15

    CPC classification number: H01L21/677 H01L21/6838 H01L21/6875

    Abstract: 本发明提出可移动真空载具,该可移动真空载具可以用来支撑薄衬底,否则这些薄衬底因太易碎而不能传送和处理。本发明涉及薄半导体衬底的处理,并尤其具有在光伏太阳能电池、半导体微电子集成电路、微电子机械系统(MEMS)、光电器件(如发光二极管、激光器、光检测器)、数据存储器件等领域中的可应用性。

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