公开(公告)号：CN107032829A

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201611015782.1

申请日：2016-11-18

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J.H.韦弗 ,  G.S.科曼 ,  A.克贝德 ,  D.G.邓 ,  J.G.马南特

IPC: C04B41/85 ,  C04B41/87

CPC classification number: C23C16/045 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C04B41/85 ,  F01D5/005 ,  F01D5/282 ,  F01D5/284 ,  F05D2300/6033 ,  C04B35/80 ,  C04B41/4592 ,  C04B41/5027 ,  C04B41/5062 ,  C04B41/522 ,  C04B41/4523 ,  C04B41/4572 ,  C04B41/4531 ,  C04B41/50 ,  C04B41/5059 ,  C04B41/87 ,  C04B35/71 ,  C04B41/4529 ,  C04B41/0072

Abstract: 本发明涉及在修复周期期间保护特征的方法。具体而言，一种方法可包括将掩模应用至CMC结构，以及使具有应用的掩模的结构经历修复过程。在一个实施例中，将掩模应用至CMC结构可包括将掩模应用至CMC结构的特征。

公开(公告)号：CN106938937A

公开(公告)日：2017-07-11

申请号：CN201611052691.5

申请日：2016-11-25

Applicant: 通用电气公司

Inventor： D.G.邓 ,  J.A.鲁德 ,  P-A.布伊 ,  G.S.科曼 ,  J.S.瓦图利

IPC: C04B35/84 ,  C04B41/87 ,  C04B41/89

CPC classification number: B28B1/14 ,  C04B35/80 ,  C04B35/806 ,  C04B41/85 ,  C04B2235/3826 ,  C04B2235/6028 ,  C04B2235/614 ,  C04B2235/616 ,  C23C16/26 ,  C23C16/342 ,  C23C16/345 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C04B41/87 ,  C04B41/89 ,  C04B35/565 ,  C04B41/5064 ,  C04B41/5066 ,  C04B41/5001

Abstract: 本申请提供了用于处理陶瓷纤维用于制造陶瓷基质复合物(CMC)的方法及设备。一种方法可包括提供至少一个框架，其包括延伸横跨其空腔的单向陶瓷纤维的平面阵列。该方法还可包括以下中的至少一个：经由化学气相沉积(CVD)过程将涂层沉积在至少一个框架的陶瓷纤维上；以及以包括陶瓷基质前体成分的浆料浸渍陶瓷纤维来形成至少一个CMC预浸料坯。在一些实施例中，平面阵列的陶瓷纤维可包括涂层，并且该方法可包括以包括陶瓷基质前体成分的浆料浸渍涂覆的陶瓷纤维来形成至少一个CMC预浸料坯。

公开(公告)号：CN105473821A

公开(公告)日：2016-04-06

申请号：CN201480047991.7

申请日：2014-07-28

Applicant: 通用电气公司

Inventor： J.韦弗 ,  D.G.邓

IPC: F01D5/00 ,  C04B41/53 ,  C04B41/91

CPC classification number: B08B3/08 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5353 ,  C04B41/91 ,  F01D5/005 ,  F01D5/288 ,  F05D2240/11 ,  F05D2300/6033 ,  Y02T50/672 ,  C04B35/565 ,  C04B35/806 ,  C04B35/83

Abstract: 本公开总体上涉及去除陶瓷基体复合材料的涂层和粘合涂层的方法。更具体地，本公开涉及例如通过使陶瓷基体复合材料与至少一种氢氧化物在特定温度下接触并从所述陶瓷基体复合材料去除粘合涂层，从陶瓷基体复合材料去除粘合涂层的方法。