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公开(公告)号：CN109940865B
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201910280138.4
申请日：2015-10-28
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质，所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性，所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1％。
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公开(公告)号：CN111168984A
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN202010025666.8
申请日：2015-10-28
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。
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公开(公告)号：CN107894691A
公开(公告)日：2018-04-10
申请号：CN201711174780.1
申请日：2014-12-04
Applicant: 迪睿合株式会社
CPC classification number: B29C33/424 , B29C33/38 , B29C33/3842 , B29C35/0805 , B29C35/0888 , B29C41/28 , B29C59/04 , B29C59/046 , B29D11/0074 , B29K2909/08 , B29L2011/00 , C03C15/00 , C03C2218/34 , G03F7/0002 , G03F7/24 , G11B7/261
Abstract: 提供能够均匀地转印微细图案的圆筒基体材料、原盘及原盘的制造方法。使用由圆筒形状的石英玻璃构成且内部应变以双折射量为小于70nm/cm的圆筒基体材料（11）。在该圆筒基体材料（11）的外周表面成膜抗蚀剂层，并在抗蚀剂层形成潜影，使形成潜影的抗蚀剂层显影，并以显影的抗蚀剂层的图案为掩模进行蚀刻，形成由在圆筒基体材料（11）的外周表面排列多个的凹部或凸部构成的结构体（12）。
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公开(公告)号：CN119183551A
公开(公告)日：2024-12-24
申请号：CN202380030901.2
申请日：2023-03-28
Applicant: 迪睿合株式会社
Inventor： 菊池正尚
Abstract: 本发明的课题是在母盘的外周面上高精度地形成具有任意的三维形状的凹凸结构的图案。解决方案为一种母盘的制造方法，其包括：在基材的外周面上形成抗蚀剂层的工序；将二维绘制出具有三维形状的物体的输入图像分割成多个小区域的工序；基于含有所述物体的每个所述小区域内的所述物体的部分图像的浓淡而阶段性地确定朝每个该小区域照射的激光束的强度，并基于该确定结果而生成与所述物体对应的曝光控制信号的工序；基于所述曝光控制信号而用所述激光束照射所述抗蚀剂层，从而形成深度根据所述部分图像的浓淡而变化的抗蚀剂图案的工序；以及使用所述抗蚀剂层作为掩模，在所述基材的所述外周面上形成与所述物体的三维形状对应的凹凸图案的工序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117111412A
公开(公告)日：2023-11-24
申请号：CN202311084749.4
申请日：2017-09-05
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 本发明提供一种在外周面上包括凹部或凸部以高精度连续排列的凹凸结构的母盘及转印物。本发明的该母盘包括圆筒或圆柱形状的基材；以及在所述基材的外周面形成的凹凸结构；所述凹凸结构是在所述基材的周向上凹部或凸部以可见光区域的波长以下的点间距且螺旋状地连续排列的结构；所述凹部或凸部在所述基材的轴向上相邻的周之间具有规定的相位差而排列。该转印物在片状基材上形成有形成在上述的母盘的外周面上的所述凹凸结构的反转形状。
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公开(公告)号：CN114103279A
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN202111050795.3
申请日：2015-10-28
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 本发明提供一种填料填充膜、片状膜、层叠膜、贴合体和填料填充膜的制造方法。为了解决上述课题，根据本发明的观点，提供一种填料填充膜，其具有膜主体、在膜主体的表面形成的多个凹部和填充在各个凹部中的填料，凹部的开口面的直径至少大于可见光波长，凹部的排列图案具有沿着膜主体的长度方向的周期性，膜主体的一个端部中的填料的填充率与膜主体的其他部分中的填料的填充率之差小于0.5％。
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公开(公告)号：CN110435125A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910739177.6
申请日：2015-10-28
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 提供一种转印物、层叠膜、片状转印物、其应用和使用其的设备。所述转印物具备基材、以及转印于所述基材的表面的多个微小固体物质，所述微小固体物质的排列图案具有沿着所述基材的长度方向的周期性，所述微小固体物质的缺损率相对于所述微小固体物质的总数小于1％。
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公开(公告)号：CN109791248A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780060314.2
申请日：2017-09-27
Applicant: 迪睿合株式会社
Abstract: 本发明提供一种新型改良的光学体、光学体的制造方法及发光装置，其目的在于能够使来自光源的光以更多样的形态发射。为了实现上述目的，根据本发明的构思而提供一种光学体，其包括：基材；以及第一凹凸结构，在基材的至少一个表面上形成，从基材的侧面取出向基材的内部入射的内部传播光；第一凹凸结构的凹凸的平均周期为可见光波段的最小值以上且10μm以下。
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