防反射用光学元件以及原盘的制造方法

    公开(公告)号:CN101930086A

    公开(公告)日:2010-12-29

    申请号:CN201010235766.X

    申请日:2009-02-27

    CPC classification number: G02B1/118 G02F2201/38

    Abstract: 本发明提供了防反射用光学元件以及用于制造该防反射用光学元件的原盘的制造方法。本发明的光学元件通过在基体表面以小于等于可视光的波长的细微间隔配置多个由凸部或凹部构成的构造体而形成。各构造体被配置成在基体表面构成多列轨迹,且形成准六边形格子图案、四边形格子图案或准四边形格子图案。构造体的底面的长轴方向与轨迹的延伸方向平行,构造体对基体表面的填充率大于等于65%。

    光学记录还原介质和制造光学记录还原介质的母盘模片

    公开(公告)号:CN1267915C

    公开(公告)日:2006-08-02

    申请号:CN02802462.1

    申请日:2002-06-26

    CPC classification number: G11B7/24079 G11B7/24082 G11B7/261

    Abstract: 光学记录还原介质具有沿着记录轨道形成的凹槽(2),并且通过照射具有预定波长λ的光可以对光学记录还原介质进行记录和/或还原。当假定n表示从光入射端面延伸到光学记录还原介质的凹槽(2)的介质的折射系数时,凹槽(2)的相位深度x满足以下不等式:λ/16.14n≤x≤λ/4.99n并且所述凹槽(2)的宽度w和轨道间距p之间的比值w/p满足以下不等式:0.391≤(w/p)≤0.594其中所述轨道间距大于300nm并且小于325nm。

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