存储元件及使用该存储元件的储存装置

    公开(公告)号:CN101145600B

    公开(公告)日:2012-01-04

    申请号:CN200710163092.5

    申请日:2004-03-18

    Abstract: 公开了一种存储元件,其可以容易地进行信息的记录和读出并且能够以相对简单的制造方法容易地进行制造,以及一种使用该存储元件的储存装置。存储元件(10)包括第一电极(2)、第二电极(5)和位于所述第一和第二电极(2,5)之间的非结晶薄膜(4)。至少电极(5)包含银或铜,且非结晶薄膜(4)由锗和从硫、硒、碲和锑中选择的至少一种元素组成。一种储存装置包括许多此类存储元件(10)和连接到各存储元件(10)的第一和第二电极(2,5)的布线。

    光盘用原盘的制造方法和光盘的制造方法

    公开(公告)号:CN100380485C

    公开(公告)日:2008-04-09

    申请号:CN03801799.7

    申请日:2003-09-25

    CPC classification number: G11B7/261 Y10S425/81 Y10T428/24802

    Abstract: 一种光盘用原盘的制造方法和一种光盘的制造方法,该方法通过使用现有曝光系统,能够实现光盘的较高存储容量。制造光盘的方法的特征在于:使用形成有特定非均匀图案的原盘,所述图案是通过下列步骤形成的。在基片上形成抗蚀层,该抗蚀层由包含诸如W和Mo的过渡金属的不完全氧化物的抗蚀材料组成,不完全氧化物具有小于根据能够为过渡金属所拥有的化合价的理论配比成分的氧含量的氧含量,然后根据记录信号图案,使用激光束选择性曝光和显影抗蚀层,然后将非均匀图案传递到光盘上。

    制造生产光盘的母盘的方法和生产光盘的方法

    公开(公告)号:CN1692418A

    公开(公告)日:2005-11-02

    申请号:CN200380100324.2

    申请日:2003-12-24

    CPC classification number: G11B7/261 Y10S425/81

    Abstract: 制造生产光盘的母盘的方法包括:曝光过程,其中以记录激光辐射形成在衬底100上的无机抗蚀剂层101,通过对应于光盘上信息凹形和凸形图形的信息信号的信息信号调制该记录激光;以及之后的显影过程,其中在无机抗蚀剂层上执行显影处理以形成对应于无机抗蚀剂层的信息凹形和凸形图形的凹形和凸形图形;在曝光过程中,在抗蚀剂层的非记录区上执行试验曝光后,使评估激光辐射曝光部分,从反射光中评估抗蚀剂层的记录信号特征以基于评估结果确定记录激光的最佳焦点位置;因此从在抗蚀剂上的曝光部分的记录特征中预测并评估光盘的记录信号的特征(跳动值)以基于评估结果调节曝光聚焦位置,由此可制造具有适当凹形和凸形图形的母盘以及具有良好特征的光盘。

    存储设备
    15.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1664957A

    公开(公告)日:2005-09-07

    申请号:CN200510052645.0

    申请日:2005-03-07

    Abstract: 通过在写操作到选定的存储单元中时设置特定的条件,能够容易而准确地进行读数据操作。存储单元有这样的结构,在此结构中电极间材料层夹在第一电极和第二电极之间。通过改变第一电极和第二电极之间的电阻值来存储数据。将在高电阻状态下的存储元件的电阻值表述为R_mem_high;将在低电阻状态下的存储元件的电阻值表述为R_mem_low1;负载电路的电阻值表述为R_load;将第二电源线的电压设置为基准电压,读电压表述为Vread;阈电压表述为Vth_critical。在将数据写到存储单元中时,由于产生了低电阻状态,因此这些参数满足特定的关系。用与存储单元的存储元件有相同结构的元件来构成负载电路。

    制作用于制造光盘的母盘的方法和制造光盘的方法

    公开(公告)号:CN100440349C

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:CN200380100300.7

    申请日:2003-11-20

    CPC classification number: G11B7/261 G11B7/1267

    Abstract: 一种制作用于制造光盘的压模的方法包括:曝光步骤,用以与光盘上/中形成的信息凹出/凸入图案的信息信号对应的信息信号调制的记录激光束照射衬底(100)上形成的有机抗蚀层(101),以形成与光盘上的信息凹出/凸入图案对应的曝光图案,和显影步骤,显影有机抗蚀层以形成与该有机抗蚀层的凹出/凸入图案对应的凹凸图案。在曝光步骤中,将估计激光束施加到该有机抗蚀层上预定区域,利用该估计激光束的反射光来估计该有机抗蚀层的曝光图案的记录信号特性,并根据估计结果来控制该记录激光束的功率。从而将信息可靠地记录在目标光盘上。

    存储元件及使用该存储元件的储存装置

    公开(公告)号:CN101145600A

    公开(公告)日:2008-03-19

    申请号:CN200710163092.5

    申请日:2004-03-18

    Abstract: 公开了一种存储元件,其可以容易地进行信息的记录和读出并且能够以相对简单的制造方法容易地进行制造,以及一种使用该存储元件的储存装置。存储元件(10)包括第一电极(2)、第二电极(5)和位于所述第一和第二电极(2,5)之间的非结晶薄膜(4)。至少电极(5)包含银或铜,且非结晶薄膜(4)由锗和从硫、硒、碲和锑中选择的至少一种元素组成。一种储存装置包括许多此类存储元件(10)和连接到各存储元件(10)的第一和第二电极(2,5)的布线。

    存储器设备
    19.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1722302A

    公开(公告)日:2006-01-18

    申请号:CN200510069790.X

    申请日:2005-01-20

    Abstract: 本发明提供一种在高速条件下能记录多值数据和利用具有相对简单配置的驱动电路进行多值数据记录的存储器设备。存储器设备由包括根据电阻值状态保存信息的存储器元件和作为负载串联连接到存储器元件上的MIS晶体管的存储器单元构成;当分别把存储器单元由高阻值状态到低阻值状态的操作定义为写入和把存储器单元由低阻值状态改变到高阻值状态的操作定义为擦除时,通过控制在写入时施加到MIS晶体管上的栅极电压VG1、VG2和VG3等等,把写入之后的存储器元件的电阻值设置为多个不同的级别,以致分别把不同信息分配到多个级别的每一个中,并且在擦除之后分配到高阻值状态来分别存储三个值或更多值信息到每个存储器单元的存储器元件中。

    存储元件及使用该存储元件的储存装置

    公开(公告)号:CN1698203A

    公开(公告)日:2005-11-16

    申请号:CN200480000388.X

    申请日:2004-03-18

    Abstract: 公开了一种存储元件,其可以容易地进行信息的记录和读出并且能够以相对简单的制造方法容易地进行制造,以及一种使用该存储元件的储存装置。存储元件(10)包括第一电极(2)、第二电极(5)和位于所述第一和第二电极(2,5)之间的非结晶薄膜(4)。至少电极(5)包含银或铜,且非结晶薄膜(4)由锗和从硫、硒、碲和锑中选择的至少一种元素组成。一种储存装置包括许多此类存储元件(10)和连接到各存储元件(10)的第一和第二电极(2,5)的布线。

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