液晶装置以及液晶装置的制造方法

    公开(公告)号:CN102135685A

    公开(公告)日:2011-07-27

    申请号:CN201110028169.4

    申请日:2011-01-26

    Inventor: 山田周平

    CPC classification number: G02F1/133734

    Abstract: 本发明涉及一种液晶装置以及液晶装置的制造方法。该液晶装置具备:设置于第1基板的液晶层侧的第1取向膜和设置于第2基板的液晶层的第2取向膜。第1取向膜具有第2无机层,该第2无机层与液晶层接触地配置于第1无机层的液晶层侧,其柱状结构的方位角和第1无机层不同。第2取向膜具有第4无机层,该第4无机层与液晶层接触地配置于第3无机层的液晶层侧,其柱状结构的方位角和第3无机层不同。第2无机层的厚度相对于第1无机层的厚度的比率和第4无机层的厚度相对于第3无机层的厚度的比率不同。

    液晶装置及投影机
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100474048C

    公开(公告)日:2009-04-01

    申请号:CN200610146570.7

    申请日:2006-11-15

    CPC classification number: G02F1/133371 G02F1/133512

    Abstract: 本发明提供一种液晶装置,其可以延长液晶(50)直至发生劣化的时间,使可靠性提高。其具有:一对基板(10、20),配置于一对基板(10、20)间的液晶(50),和配置于液晶(50)的周围的密封材料(52);在前述密封材料(52)的内周缘的内侧,通过在对向基板(20)设置凹部(62)形成液晶贮留部(60)。该液晶贮留部(60),在与遮光膜(23)相重叠的位置形成。

    燃料电池和燃料电池的制造方法

    公开(公告)号:CN1323452C

    公开(公告)日:2007-06-27

    申请号:CN200410003948.9

    申请日:2004-02-10

    Abstract: 一种燃料电池和燃料电池的制造方法,在喷出装置(120a)、(120b)中,在第一基板上形成第一气体流道。接着,在第一基板上,在喷出装置(120c)中形成第一集电层,在喷出装置(120d)中形成第一气体扩散层。接着,在第一基板上,在喷出装置(120e)中形成第一反应层,在喷出装置(120f)中形成电解质膜。在喷出装置(120g)中形成第二反应层,在喷出装置(120h)中形成气体扩散层,在喷出装置(120i)中形成第二集电层。然后,将在喷出装置(120j)、(120k)中形成了第二气体流道的第二基板配置在第一基板上的给定位置,完成燃料电池的制造。根据本发明,能够确保反应气体流动的空间。

    液晶装置及投影机
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1967329A

    公开(公告)日:2007-05-23

    申请号:CN200610146570.7

    申请日:2006-11-15

    CPC classification number: G02F1/133371 G02F1/133512

    Abstract: 本发明提供一种液晶装置,其可以延长液晶(50)直至发生劣化的时间,使可靠性提高。其具有:一对基板(10、20),配置于一对基板(10、20)间的液晶(50),和配置于液晶(50)的周围的密封材料(52);在前述密封材料(52)的内周缘的内侧,通过在对向基板(20)设置凹部(62)形成液晶贮留部(60)。该液晶贮留部(60),在与遮光膜(23)相重叠的位置形成。

    液晶板的试验方法以及试验装置

    公开(公告)号:CN1749724A

    公开(公告)日:2006-03-22

    申请号:CN200510099874.8

    申请日:2005-09-08

    CPC classification number: G01N21/958 G01N2021/9513 G02F1/1309 G02F2203/69

    Abstract: 本发明提供一种能够谋求液晶板的耐光性的评价所需的时间的缩短的技术,它是用于试验包含一对基板和介于该基板间的液晶层的液晶板的耐光性的方法,该方法包含有:将激光(LB)的波长、照射能量或者照射时间中至少一个作为可变参数设定并在所述液晶板(100)的试验对象区域(AR)上照射该激光的第1工序;在所述液晶板上照射观察光(OB),并检测通过该液晶板后的该观察光的状态的第2工序;以与所述激光的所述可变参数的设定对应的所述观察光的状态的差异为基础,评价所述液晶板的耐光性的第3工序。

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