公开(公告)号：CN1156732C

公开(公告)日：2004-07-07

申请号：CN00801419.1

申请日：2000-07-11

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 冈本英司 ,  关琢巳 ,  泷泽圭二

IPC: G02F1/1335 ,  G09F9/35

Abstract: 在可以进行反射式显示的彩色液晶装置中，为了实现良好的显示特性和高可靠性，在具有绝缘性的基板(1)上，顺序形成反射膜(2)、遮光膜(13)、着色层(4)、保护膜(6)和透明电极(7)。其中，着色层(4)是为了覆盖反射膜(2)而形成的，所以，可以使反射膜(2)不与药液等接触。此外，由于着色层(4)是为了覆盖遮光膜(13)而形成的，所以，不仅可以抑制遮光膜(13)的表面反射，而且对遮光膜(13)要求的光学浓度小也可以。特别是在反射式显示中，由于光2次通过遮光膜，所以，在以反射式显示为主时，遮光膜(13)的光学浓度更小点也可以。因此，可以减小遮光膜(13)的厚度。

公开(公告)号：CN1384395A

公开(公告)日：2002-12-11

申请号：CN02121713.0

申请日：2002-04-03

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 渡边吉祥 ,  关琢巳 ,  直野秀昭 ,  田口聪志

IPC: G02F1/136 ,  H01L21/324

CPC classification number: G02F1/1365 ,  H01L45/00

Abstract: 本发明提供一种能使非线性元件的非线性进一步提高的非线性元件的制造方法,电光学装置和电子仪器。在形成液晶装置的元件基板(20)时,在底层形成工序(a)中在元件基板(20)的表面上形成底层(61)后在第一金属膜形成工序(b)中形成由至少含Ta的金属膜构成的第一金属膜(62)。接着在绝缘膜形成工序(c)中对第一金属膜(62)在含水蒸气的氛围中进行高压退火处理,从而在第一金属膜(62)的表面上形成绝缘膜(63)。然后在第二金属膜形成工序中,在绝缘膜(63)的表面上形成第二金属膜,制造非线性元件。

公开(公告)号：CN101324720A

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：CN200810109467.4

申请日：2008-06-12

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 关琢巳 ,  内田浩辅

IPC: G02F1/1335

CPC classification number: G02F1/133555 ,  G02F1/133371 ,  G02F1/133512 ,  G02F1/13363 ,  G02F2001/133565 ,  G02F2413/01 ,  G02F2413/09

Abstract: 本发明提供一种适合在单元内配置相位差层而减轻对比度的降低的液晶装置以及电子设备。液晶装置(100)通过作为一对基板的元件基板(10)和对置基板(20)来夹持液晶层(50)，具有跨过多个子像素(SG)的反射显示区域(R)而选择性地形成在滤色器(22)上的带状的相位差层(26)。带状的相位差层(26)形成为其两个端部(26a、26b)位于显示区域(E)的外侧的设置有遮光膜(61)的非可视区域(60)内。

公开(公告)号：CN1249501C

公开(公告)日：2006-04-05

申请号：CN03160089.1

申请日：2003-09-26

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 关琢巳 ,  北川笃史

IPC: G02F1/1335 ,  G02F1/1362

CPC classification number: G02F1/136227 ,  G02F1/133553 ,  G02F1/133555 ,  G02F1/136209

Abstract: 本发明提供一种有效利用了防止或者抑制对半导体元件的光入射的遮光层的电光装置。本发明的液晶显示装置，在具备像素电极(9)的元件基板(10)和与元件基板相对的对置基板(20)之间夹持电光材料(50)而构成，其特征在于：在元件基板(10)上，形成有驱动像素电极(9)的半导体元件(30)、覆盖该半导体元件(30)的绝缘膜(17、18)、被形成在该绝缘膜(17、18)上的反射板(14)，反射板(14)具备开口部(14a)而构成，另一方面，在半导体元件(30)的元件基板(10)一侧，形成有遮蔽对该半导体元件(30)的光入射的遮光层(13)，该遮光层(13)，在和反射板(14)的开口部(14a)大致相同的区域上具备开口部(13a)。

公开(公告)号：CN1217429C

公开(公告)日：2005-08-31

申请号：CN96190271.X

申请日：1996-04-01

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 高野靖 ,  关琢巳 ,  吉水靖博 ,  井上孝

IPC: H01L49/00

CPC classification number: H01L45/00 ,  G02F1/1365

Abstract: 在包括Ta电极层(16)、阳极氧化膜(18)和Cr电极层(20)的MIM型非线性元件(50)的制造方法中，首先在透明基片(12)上设有氧化钽膜(14)，在其上设有Ta电极层(16)、在其上设有阳极氧化膜(18)。之后进行热处理。热处理的最终降温工序是在含有水蒸汽的气氛中进行。之后，形成设有Cr电极层(20)的MIM型非浅性元件(50)。通过在含有水蒸汽的气氛中进行热处理，能够提高MIM型非线性元件的非线性特性，也能够提高断开时的电阻值特性。

公开(公告)号：CN1315011A

公开(公告)日：2001-09-26

申请号：CN00801179.6

申请日：2000-06-21

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 冈本英司 ,  关琢巳 ,  泷泽圭二 ,  直野秀昭

IPC: G02F1/1333 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明是夹持液晶层的一对基板中的位于与观察侧相反的一侧的液晶装置用基板,其一个表面具有平坦的平坦区域和形成了微细的山部和谷部的粗糙表面区域。而且,以包含上述平坦区域的平面以下的高度形成了粗糙表面区域中的上述山部的顶部。