公开(公告)号：CN1526850A

公开(公告)日：2004-09-08

申请号：CN200410007838.X

申请日：2004-03-04

Applicant: 精工爱普生株式会社

Inventor： 中楯真

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/042 ,  B29C65/1403 ,  B29C65/1406 ,  B29C65/1409 ,  B29C65/1412 ,  B29C65/1445 ,  B29C65/1448 ,  B29C65/1467 ,  B29C65/1483 ,  B29C65/4845 ,  B29C65/4855 ,  B29C65/4875 ,  B29C65/489 ,  B29C65/7826 ,  B29C65/7855 ,  B29C66/1122 ,  B29C66/324 ,  B29C66/472 ,  B29C66/71 ,  B29L2031/737 ,  H01L51/0011 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/24273 ,  B29C65/00 ,  B29K2023/00 ,  B29K2033/08 ,  B29K2067/00 ,  B29K2069/00 ,  B29K2071/00 ,  B29K2081/06

Abstract: 提供一种掩膜及其制造方法、制造装置、发光材料的成膜方法、电光学装置及电子仪器。本发明的掩膜：具备形成了开口的基体材料；形成有多个贯通孔，同时对应于上述开口而与上述基体材料接合的掩膜构件；和以所定间隔保持上述基体材料与上述掩膜构件的隔离子。