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公开(公告)号:CN101899688B
公开(公告)日:2012-09-05
申请号:CN201010235190.7
申请日:2010-07-24
Applicant: 福州大学
IPC: C25D3/48
Abstract: 本发明提供了一种用于镀金的无氰型镀金电镀液,该无氰型镀金电镀液的主要组分为:金的无机盐,主络合剂巴比妥或其盐,辅助络合剂有机多膦酸。使用该无氰型镀金电镀液的操作条件为:pH范围为10~14,电流密度0.05A/dm2~0.4A/dm2,温度20~50度。本发明的优点在于镀液毒性低或无毒,镀液稳定性好,配置方法简单,成本低,与镍、铜等金属基底置换速率低,镀层结合力良好且光亮,能满足装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用。
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公开(公告)号:CN102383154A
公开(公告)日:2012-03-21
申请号:CN201110369733.9
申请日:2011-11-21
Applicant: 福州大学
IPC: C25D3/48
Abstract: 本发明提供了一种无氰镀金电镀液,该无氰镀金电镀液的主要组分为:金的无机酸,主络合剂烷烃化合物,辅助络合剂非营养性甜味剂。本发明的优点在于:所需原料成本低,配制方法简单易行,镀液本身无毒或低毒,镀液稳定性好,镀液属于中性,且本身具有一定的缓冲能力,长时间放置镀液的pH值不会发生大的变化,与镍、铜等金属基底置换速率低,镀前无需预镀金,电流密度适用范围比较宽,电沉积后所得镀层结合力良好且光亮,能满足日常装饰性电镀和功能性电镀等多领域的应用,镀液废水不含氰化物,处理相对简单,对人体和环境的危害较小。
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