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公开(公告)号：CN104409317B
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：CN201410237600.X
申请日：2014-05-31
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明提供一种平面型场致发射背光源，包括阳极基板，阴极基板、设置于阳极基板和阴极基板之间的隔离柱以及连接阳极基板和阴极基板的封框体，其特征在于：所述阳极基板由一玻璃基板、设置于玻璃基板表面的透明导电层和设置于透明导电层表面的带有若干个填充圈的荧光粉层所组成；所述阴极基板由一玻璃基板、设置于玻璃基板表面的阴极电极和栅极电极、电子发射源和设置于栅极电极表面的荧光粉所组成。本发明将荧光粉层设置于平面型场发射结构的阳极基板和栅极电极表面，能有效地提高背光源的电子发射效率和发光效率；同时，还将隔离柱设置于填充圈内，有效地解决了场发射背光源隔离柱安置对准问题，从而优化场发射背光源的工艺流程，降低制造成本。
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公开(公告)号：CN104409317A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410237600.X
申请日：2014-05-31
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明提供一种平面型场致发射背光源，包括阳极基板，阴极基板、设置于阳极基板和阴极基板之间的隔离柱以及连接阳极基板和阴极基板的封框体，其特征在于：所述阳极基板由一玻璃基板、设置于玻璃基板表面的透明导电层和设置于透明导电层表面的带有若干个填充圈的荧光粉层所组成；所述阴极基板由一玻璃基板、设置于玻璃基板表面的阴极电极和栅极电极、电子发射源和设置于栅极电极表面的荧光粉所组成。本发明将荧光粉层设置于平面型场发射结构的阳极基板和栅极电极表面，能有效地提高背光源的电子发射效率和发光效率；同时，还将隔离柱设置于填充圈内，有效地解决了场发射背光源隔离柱安置对准问题，从而优化场发射背光源的工艺流程，降低制造成本。
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公开(公告)号：CN104409172A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410237626.4
申请日：2014-05-31
Applicant: 福州大学
IPC: H01B13/00
CPC classification number: Y02P80/30
Abstract: 本发明公开了一种网格状透明导电电极的制作方法，包括以下几个步骤：S1：利用计算机设计网格状导电阵列结构的三维数字模型；S2：利用软件沿模型的高度方向分割形成各截面的二维轮廓图；S3：根据二维轮廓图形成相应的扫描路径；S4：利用3D打印设备按照扫描路径打印第一导电层；S5：利用3D打印设备在已经成形所述第一导电层上按照扫描路径打印所述第二导电层；S6：重复步骤（S4）或（S5）或交替重复步骤（S4）和（S5），形成所述网格状导电阵列，S7：清理所述基板表面的导电材质。本发明采用3D制造网格状导电阵列，既解决了材料浪费，工序复杂，精确度低的问题，又克服了导电阵列结构单一的问题。
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公开(公告)号：CN104407442A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410237590.X
申请日：2014-05-31
Applicant: 福州大学
CPC classification number: G02B27/2214 , G02B3/0018 , G02B3/0025
Abstract: 本发明涉及集成成像3D显示技术领域，尤其涉及一种集成成像3D显示微透镜阵列及其3D制作方法。所述集成成像3D显示微透镜阵列包括第一组微透镜阵列，只在部分位置上设置有微透镜；第二组微透镜阵列，与第一组微透镜阵列平面间距为d，并且与第一组微透镜阵列的透镜位置互补；一孔光栅，设置于所述第一组微透镜阵列与所述第二组微透镜阵列之间。该微透镜阵列结构既可以提高集成成像3D显示场景的深度，又可以减少杂散光对记录图像和重构图像的影响，提高显示图像质量。
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公开(公告)号：CN104407441A
公开(公告)日：2015-03-11
申请号：CN201410237588.2
申请日：2014-05-31
Applicant: 福州大学
CPC classification number: G02B27/2214 , G02B3/0043 , G02B5/1866
Abstract: 本发明涉及集成成像3D显示技术领域，尤其涉及一种集成成像3D显示微透镜阵列及其制作方法。所述集成成像3D显示微透镜阵列包括第一组微透镜阵列，只在部分位置上设置有微透镜；第二组微透镜阵列，与第一组微透镜阵列平面间距为d，并且与第一组微透镜阵列的透镜位置互补；一孔光栅，设置于所述第一组微透镜阵列与所述第二组微透镜阵列之间。该微透镜阵列结构既可以提高集成成像3D显示场景的深度，又可以减少杂散光对记录图像和重构图像的影响，提高显示图像质量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103972007A
公开(公告)日：2014-08-06
申请号：CN201410215325.1
申请日：2014-05-21
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明涉及一种TiO2纳米管三极型场发射电子源及其制备方法。所述TiO2纳米管三极型场发射电子源以垂直基底生长于阴极或栅极特定位置的TiO2纳米管为场发射阴极材料，其制备方法包括以下步骤：首先采用微接触印刷在平面基板的特定位置上均匀印刷ZnO籽晶层；然后采用水热法在印刷有ZnO籽晶层的位置上生长ZnO纳米棒；接下来以ZnO纳米棒为模板在其外围生长一层TiO2薄膜；最后将ZnO纳米棒顶端的TiO2薄膜刻蚀，并通过湿法刻蚀溶解掉ZnO纳米棒，在平面基板的电极形成TiO2纳米管。该方法制备的三极型场发射电子源器件，TiO2纳米管长径比高、且密度可控，性能良好。
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公开(公告)号：CN104064658B
公开(公告)日：2017-11-17
申请号：CN201410322061.X
申请日：2014-07-05
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明提供一种LED显示屏及其3D显示装置，利用短波长LED芯片阵列发出光穿过短波通滤光膜，照射光转换材料发光，或直接射出，实现彩色显示。在此基础上，设置扩散膜、增亮膜和视差屏障光栅，实现3D显示。相对现有技术，本发明只需对一种LED芯片进行驱动，驱动电路简单，稳定可靠。由于是利用量子点等材料的光致发光实现显示，且光通过扩散膜和增亮膜后，每个像素由点光源变成面光源，观看柔和，色域高，且能有效减少莫尔条纹。
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公开(公告)号：CN104411103B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410237615.6
申请日：2014-05-31
Applicant: 福州大学
IPC: H05K3/06
Abstract: 本发明涉及一种图形化厚膜银浆导电层的制造方法，包含以下步骤：1、选取一平板基底，并对平板基底进行清洗；2、在平板基底表面沉积一层过渡层；3、在过渡层表面涂覆一层厚膜银浆浆料，并高温焙烧形成厚膜银浆导电层；4、在厚膜银浆导电层表面沉积一层保护层；5、光刻胶涂覆、曝光、显影和固膜，在保护层表面形成图形化光刻胶；6、刻蚀无光刻胶覆盖的保护层；7、刻蚀无保护层覆盖的厚膜银浆导电层，得到图形化厚膜银浆导电层；8、去除光刻胶，然后刻蚀图形化厚膜银浆导电层表面的保护层；9、对图形化厚膜银浆导电层进行表面处理，形成最终的图形化厚膜银浆导电层。该方法不仅可以提高图形化厚膜银浆导电层的精细度，还能避免因高温加热而导致图形化导电层收缩。
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公开(公告)号：CN104407441B
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201410237588.2
申请日：2014-05-31
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明涉及集成成像3D显示技术领域，尤其涉及一种集成成像3D显示微透镜阵列及其制作方法。所述集成成像3D显示微透镜阵列包括第一组微透镜阵列，只在部分位置上设置有微透镜；第二组微透镜阵列，与第一组微透镜阵列平面间距为d，并且与第一组微透镜阵列的透镜位置互补；一孔光栅，设置于所述第一组微透镜阵列与所述第二组微透镜阵列之间。该微透镜阵列结构既可以提高集成成像3D显示场景的深度，又可以减少杂散光对记录图像和重构图像的影响，提高显示图像质量。
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公开(公告)号：CN103955014B
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201410215140.0
申请日：2014-05-21
Applicant: 福州大学
Abstract: 本发明涉及一种微透镜阵列的制作方法，包括：（1）设计生成所需微透镜阵列模型，并根据所需微透镜阵列的参数设置相应激光功率、激光束斑大小、激光停留时间；（2）提供一洁净基板并采用激光打点的方法在基板上制作微凹形阵列；（3）将硅橡胶预聚物均匀涂覆在微凹形阵列表面，固化分离后制备硅橡胶微透镜阵列；（4）将硅橡胶微透镜阵列转移到其他材料上，制备不同材料微透镜阵列；（5）对微透镜阵列进行后续抛光处理。利用该方法可制备高精度、大面积微透镜阵列，且制作成本低。
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