一种低成本、易成型的硅基外延磁光薄膜及制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119902389A

    公开(公告)日:2025-04-29

    申请号:CN202510320435.2

    申请日:2025-03-18

    Applicant: 福州大学

    Abstract: 本发明公开了一种低成本、易成型的硅基外延磁光薄膜及制备方法和应用,其采用原位共生技术将具强磁光效应但极易团聚的ZnFe2O4纳米粒子均匀分散于有固定孔隙的ZIF‑8中,并用PgC5Cu作为桥联剂对ZIF‑8表面进行修饰,之后将其均匀分散于紫外光胶中制成胶液,再将所得胶液均匀涂覆在硅基上,经紫外固化成功构建出具有优异磁光特性的硅基外延薄膜材料。本发明制备方法相对简便且可操作性强,所制得的薄膜材料在磁光性能方面表现突出,在磁光存储、磁光传感器以及光电集成、微纳光学器件等多种领域展现出良好的应用潜力,为磁光薄膜研究与器件开发提供了一种极具价值的新型材料。

Patent Agency Ranking