试样支承体、离子化法和质量分析方法

    公开(公告)号:CN116615647A

    公开(公告)日:2023-08-18

    申请号:CN202180083799.3

    申请日:2021-09-17

    Abstract: 本发明的试样支承体是用于试样的成分的离子化的试样支承体。试样支承体具备:基板;设置在基板上,具有与基板为相反侧的表面的多孔质层;以及将表面分隔为第1区域和第2区域的分隔部。多孔质层包含:具有在表面开口的多个孔的主体层。分隔部包含:以通过第1区域与第2区域之间的方式,在表面形成的分隔槽。

    试样支撑体
    12.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111094966B

    公开(公告)日:2023-07-11

    申请号:CN201880060456.3

    申请日:2018-08-22

    Abstract: 试样支撑体(1A)包括基板(2)、电离基板(3)、支撑部(5)和框架(7)。电离基板(3)在第2表面(3b)上具有用于滴落试样的多个测量区域(R)。在电离基板(3)的至少各测量区域(R)形成有在第1表面(3a)和第2表面(3b)开口的多个贯通孔(3c)。至少在第2表面(3b)上的贯通孔(3c)的周缘部设置有导电层(4)。框架(7)具有壁部(7b),壁部(7b)以从基板(2)与电离基板(3)相对的方向观察划分多个测量区域(R)的方式设置于第2表面(3b)上的各测量区域(R)的周缘部上。

    试样支撑体
    14.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113646866A

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202080024916.4

    申请日:2020-01-23

    Abstract: 本发明的试样支撑体是用于试样的电离的试样支撑体,具备:基板,其具有第一表面、及与第一表面为相反侧的第二表面、以及在第一表面及第二表面的各个开口的多个贯通孔;框架,其安装于基板,框架的热传导率为1.0W/m·K以下。

    试样支承体和试样支承体的制造方法

    公开(公告)号:CN111566479A

    公开(公告)日:2020-08-21

    申请号:CN201980006766.1

    申请日:2019-01-08

    Abstract: 本发明的试样支承体包括:具有彼此相对的第1表面和第2表面的基片;和至少设置在第1表面的导电层。在基片和导电层形成有在导电层的与基片相反侧的第3表面和第2表面具有开口的多个贯通孔。在第2表面、第3表面和多个贯通孔各自的内表面设置有对水的亲和性比基片高的保护膜。

    试样支撑体和试样支撑体的制造方法

    公开(公告)号:CN106796198B

    公开(公告)日:2020-06-30

    申请号:CN201680002978.9

    申请日:2016-08-26

    Abstract: 本发明的一个方面所涉及的试样支撑体(2)为表面辅助激光解吸电离法用的试样支撑体,具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和由导电性材料构成且至少覆盖一个面(21a)的导电层(23),贯通孔(S)的宽度(d3)为1~700nm,基板(21)的厚度(d1)为1~50μm。

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