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公开(公告)号：CN114114674B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202210093399.7
申请日：2022-01-26
Abstract: 本发明公开了一种基于无惯性反馈校正的光束稳定装置，该装置包括两对光束偏转器、第一分光棱镜、第二分光棱镜、第一透镜、第二透镜、第一光电感应器、第二光电感应器和控制器等部件。本发明利用光束偏转器实现光束的位置和角度控制，完全消除控制执行部件中的机械运动，消除环境噪声的干扰。并且利用了声光偏转器的高响应频率（可以达到1 MHz以上）的优势，实现快速、高精度的光束角度漂移校正。利用本发明方法与装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN113654656B
公开(公告)日：2022-02-11
申请号：CN202111209478.1
申请日：2021-10-18
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种基于三光束干涉的光束漂移检测装置与方法，该装置包括分束镜、反射镜、道威棱镜、图像传感器等部件。装置将入射光束均分成三束光束，然后让三光束进行干涉形成干涉图案，将入射光束的微小角度与位置的变化转换为干涉图案的变化，位置角度变化将引起光栅条纹周期的变化，光束位置变化将引起干涉图案能量分布的变化。装置将结合图像传感器与分析算法，获得高精度光束漂移的检测，为高精密光学系统中光束的实时校正提供技术支持，可以广泛用于超分辨显微成像、高精度激光直写光刻等高精密激光技术中。
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公开(公告)号：CN113703170B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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公开(公告)号：CN113093480B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110403505.2
申请日：2021-04-15
Abstract: 本发明公开了一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜。该物镜由12片正光焦度镜片，8片负光焦度镜片共20片镜片构成，其中5片镜片采用火石玻璃、15片镜片采用冕牌玻璃构，且8片为超低色散镜片。该物镜数值孔径约为1.4、波长522nm‑790nm范围内光的垂轴色差小于5.1nm、物方视场角±4.2°，像方线视场约1mm，可将用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写的两波长激光聚焦在直径1μm以内，且两波长焦点在全视场范围内重合，达到边缘曝光抑制的效果，最终实现特征线宽小于衍射极限的超衍射极限激光直写。利用本发明聚焦得到的激光光斑，可广泛应用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写。
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公开(公告)号：CN113515017B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202110388078.5
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转（AOD）扫描的双光束高速激光直写方法和装置，该装置包括两路光，其中一路光在汇聚到样品面上产生实心光斑，用于激发光刻胶的聚合反应；另一路光汇聚到样品面上产生空心光斑，用于抑制或终止光刻胶聚合反应中的某个关键步骤，从而抑制光聚合反应。两束光进行对准合束后经过两个紧靠并互相垂直放置着的AOD，其中一个进行x方向扫描，另一个进行y方向扫描，两者同时实现光束在样品面上高速高精度的二维扫描。利用本发明，有望实现速度和分辨率分别达10^6点/s和亚50 nm的高速、超分辨激光直写，为超分辨激光微纳加工技术提高加工效率提供有力支撑。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117270327A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202311100405.8
申请日：2023-08-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于光栅光阀对互补的飞秒激光直写装置及方法，所述装置包括按光路依次设置的飞秒激光光源、第一光栅光阀GLV、4F光学系统、第二光栅光阀GLV、成像系统、以及放置有样本的位移台；所述飞秒激光光源入射到第一光栅光阀GLV上，第一光栅光阀GLV出射的一级衍射光通过4F光学系统后垂直入射到第二光栅光阀GLV表面，然后通过成像系统将第二光栅光阀GLV出射的一级衍射光聚焦置样品处进行扫描刻写。与现有技术相比，本发明具有兼具高效率、任意复杂结构及灰度结构灵活刻写的优点。
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公开(公告)号：CN112731776B
公开(公告)日：2023-06-20
申请号：CN202110048105.4
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供了一种双掩膜高通量激光超分辨激光直写方法和装置，包括偏振控制模块、准直扩束系统、激发光束阵列掩膜、偏振分光镜、四光束干涉形成的抑制光虚拟掩膜、聚焦高数值孔径物镜以及三维可控精密位移台等主要装置，所述的空间光调制器实时连续加载不同的计算全息图实现激发光束阵列子光束的开光，从而实现不同图案的直写。四光束两两呈一定角度干涉形成光学掩膜作为抑制光阵列，从而提高直写分辨率。这使得该系统的直写效果更加丰富，直写效率与分辨率进一步提高，有效解决了现有激光直写系统直写速度慢分辨率低等问题。
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公开(公告)号：CN116233606A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310513844.5
申请日：2023-05-09
Abstract: 本申请提供一种光斑自动跟焦装置及其方法。该光斑自动跟焦装置包括光源、光学系统、物镜、物镜压电位移器、四象限光电探测器及控制系统，光源发出的入射光束经由光学系统和物镜通过入射光路入射到样品表面，其中，四象限光电探测器用于接收经样品表面反射并经由物镜和光学系统通过反射光路出射的反射光束，并将反射光束的光信号转换为四路电信号；控制系统用于基于四路电信号来确定入射到样品表面的入射光斑的离焦量，并基于入射光斑的离焦量来生成补偿控制信号给物镜压电位移器；物镜压电位移器用于基于补偿控制信号来控制物镜沿轴向移动以使入射光斑能够始终聚焦于样品表面。本申请能够自动控制物镜轴向运动以达到自动跟焦目标。
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公开(公告)号：CN115248538B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211157008.X
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种DMD无掩膜光刻机的投影物镜镜头，从入射方向开始依次设置：具有正光焦度第一透镜组；光阑；具有负光焦度第二透镜组；具有正光焦度第三透镜组；其中：第一透镜组接收从DMD出射的光线，包含3个光焦度依次为负、正、负的透镜；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将其出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为正、负、正、负的透镜；第三透镜组收集从第二透镜组出射的光线，并将其聚焦于基底，第三透镜组包含4个光焦度依次为正、正、正、负的透镜；所述透镜均处于同一光轴。本发明能校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN114355621A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202210262638.7
申请日：2022-03-17
Abstract: 本发明公开了一种基于面阵探测器和艾里斑细分的多焦点非标记差分超分辨成像方法与装置，激光器发出的光被偏振分光镜分为偏振方向互相垂直的两束光，两束光分别被SLM的左右两个半屏加载的相位掩膜调制，两束光分别为实心光束和空心光束；之后实心光束和空心光进行合束，合束后的光束再被分为第一子光束和第二子光束，分别包含实心光束和空心光束，以一定角度入射到扫描振镜模块，并被物镜聚焦，形成第一焦斑组合和第二焦斑组合，从而在焦面上形成四个焦斑。基于时域转化为空域的方法，使用面阵探测器代替单点探测器，在相对较低成本下，可以实现对艾里斑4进行40个以上探测器的细分。同时，采用多焦点激发，进一步提升了系统的成像效率。
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