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公开(公告)号:CN205710907U
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201620628577.1
申请日:2016-06-23
Applicant: 武汉工程大学
Abstract: 本实用新型涉及一种基片升温装置,包括基片台、设在基片台上的加热系统、将基片台包围的水冷系统,基片台和水冷系统之间设有一圈或多圈耐高温隔热套,耐高温隔热套与基片台和水冷系统之间均存在间隙。该装置能减缓热量散失、实现快速加热,在相同功率下温度更高、维持温度更稳定。
公开(公告)号:CN205710907U
公开(公告)日:2016-11-23
申请号:CN201620628577.1
申请日:2016-06-23
Applicant: 武汉工程大学
Abstract: 本实用新型涉及一种基片升温装置,包括基片台、设在基片台上的加热系统、将基片台包围的水冷系统,基片台和水冷系统之间设有一圈或多圈耐高温隔热套,耐高温隔热套与基片台和水冷系统之间均存在间隙。该装置能减缓热量散失、实现快速加热,在相同功率下温度更高、维持温度更稳定。