公开(公告)号：CN103889912A

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：CN201280050075.X

申请日：2012-10-09

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C03C15/02 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6776

Abstract: 本发明提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备以在支承玻璃基板(100)的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊(50)。研磨处理部具备第一～第四处理室(16、18、20、22)、第一～第三中转部(28、30、32)。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别以向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成。第一～第三中转部(28、30、32)以将各处理室连结起来的方式构成。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别具有可以沿与玻璃基板(100)的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。

公开(公告)号：CN104379526B

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：CN201380021332.1

申请日：2013-05-29

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00

CPC classification number: C03C15/00

Abstract: 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22)，多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板，处理室(16、18、20、22)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室(16、18、20、22)至少具有处理槽(161)与回收槽(162)。处理槽(161)构成为在与由搬送辊(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽(162)构成为回收从处理槽(161)溢出的化学研磨液。

公开(公告)号：CN104114509B

公开(公告)日：2016-08-24

申请号：CN201380007542.5

申请日：2013-01-28

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00

CPC classification number: C03C15/00 ,  B24B37/345 ,  B24B57/02

Abstract: 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备有多个搬送辊(50)以及多个喷射管(322)。多个搬送辊(50)构成为分别从下面支承玻璃基板(100)的同时向水平方向搬送玻璃基板(100)。喷射管(322)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板(100)至少从下侧喷射研磨液。此外，喷射管(322)以利用研磨液至少使化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。

公开(公告)号：CN103889912B

公开(公告)日：2016-01-20

申请号：CN201280050075.X

申请日：2012-10-09

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333

CPC classification number: C03C15/02 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/6776

Abstract: 本发明提供一种可以不使用夹具地对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式的化学研磨装置。化学研磨装置(10)至少具备搬送部及研磨处理部。搬送部具备以在支承玻璃基板(100)的底面的同时将其沿水平方向搬送的方式构成的多个搬送辊(50)。研磨处理部具备第一～第四处理室(16、18、20、22)、第一～第三中转部(28、30、32)。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别以向玻璃基板喷射相同组成的化学研磨液的方式构成。第一～第三中转部(28、30、32)以将各处理室连结起来的方式构成。第一～第四处理室(16、18、20、22)分别具有可以沿与玻璃基板(100)的搬送方向正交的方向摆动的喷射喷嘴。

公开(公告)号：CN104379526A

公开(公告)日：2015-02-25

申请号：CN201380021332.1

申请日：2013-05-29

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00

CPC classification number: C03C15/00

Abstract: 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备多个搬送辊(50)以及处理室(16、18、20、22)，多个搬送辊(50)构成为在水平方向搬送玻璃基板，处理室(16、18、20、22)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板进行化学研磨处理。处理室(16、18、20、22)至少具有处理槽(161)与回收槽(162)。处理槽(161)构成为在与由搬送辊(50)搬送的玻璃基板相比更高位置溢出化学研磨液。回收槽(162)构成为回收从处理槽(161)溢出的化学研磨液。

公开(公告)号：CN104114509A

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：CN201380007542.5

申请日：2013-01-28

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00

CPC classification number: C03C15/00 ,  B24B37/345 ,  B24B57/02

Abstract: 本发明提供一种不使用夹具也能够对玻璃基板实施化学研磨处理的单片式化学研磨装置。化学研磨装置(10)具备有多个搬送辊(50)以及多个喷射管(322)。多个搬送辊(50)构成为分别从下面支承玻璃基板(100)的同时向水平方向搬送玻璃基板(100)。喷射管(322)构成为对由多个搬送辊(50)搬送的玻璃基板(100)至少从下侧喷射研磨液。此外，喷射管(322)以利用研磨液至少使化学研磨处理空间内的全部的搬送辊的周面形成湿润状态的方式喷射研磨液。

公开(公告)号：CN103608309A

公开(公告)日：2014-02-26

申请号：CN201280029748.3

申请日：2012-06-29

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣 ,  柏原康宏

IPC: C03C15/00 ,  C03B33/02 ,  G02F1/1333 ,  G06F3/041

CPC classification number: G06F3/041 ,  G06F2203/04103

Abstract: 本发明提供一种能够从实施了坚固的强化处理的大型的玻璃基材稳定地获取多片玻璃基板的玻璃基板的制造方法。玻璃基板的制造方法包括第一化学研磨步骤及第二化学研磨步骤。在第一化学研磨步骤中，以规定的单面研磨量仅对玻璃基材(10)的第一主面实施化学研磨处理。在第二化学研磨步骤中，对第一主面及第二主面的双方实施化学研磨处理。然后，在第一主面形成的第一分区槽(102)及在第二主面形成的第二分区槽(104)在从玻璃基材(10)的厚度方向的中心线(110)偏离了相当于单面研磨量的偏离量(114)的位置贯通。

公开(公告)号：CN103459342A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：CN201280017721.2

申请日：2012-02-08

Applicant: 株式会社NSC

Inventor： 西山荣

IPC: C03C15/00 ,  C03C15/02 ,  C03C23/00

CPC classification number: C03C15/02

Abstract: 本发明的课题在于，提供一种能够安全地实现高品质的化学研磨处理的玻璃基板的化学研磨装置。其解决手段为，本发明的化学研磨装置具有：输送通路，其沿水平方向输送玻璃基板（GL）；研磨处理部（16）、（22），其对在输送通路移动中的玻璃基板喷射化学研磨液而对玻璃基板进行薄型化；洗涤处理部（24），其对经过研磨处理部（22）而被薄型化了的玻璃基板喷射洗涤液进行洗涤，其中，在向研磨处理部（16）导入玻璃基板的导入部设置有：旋转滚轮（43），其轻轻地保持玻璃基板的表面并进行旋转；喷射部（NZ1）、（NZ2），其从研磨处理部（16）的外侧向旋转滚轮（43）喷射水。