公开(公告)号：CN103357124B

公开(公告)日：2016-02-24

申请号：CN201310123504.8

申请日：2013-04-10

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 远竹聪 ,  梅泽真澄 ,  今川知久

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1043 ,  A61N5/103 ,  A61N5/1048 ,  A61N5/1049 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087

Abstract: 根据本发明，能够提供一种粒子线治疗系统，其在实施依次地变更从加速器射出的射束的能量的扫描照射方式时，能够抑制由于电磁铁的初始化动作而导致的治疗时间延长。照射控制装置（35）具备以下的方法，即按照各照射条件（能量条件）运算输送系统的偏向电磁铁（15、20A、20B、20C）的励磁电流设定值，与照射时序一致地设定适当的励磁电流值。更详细地说，照射控制装置（35）预先将与离子束的能量水平对应地决定的基准电流值存储在电流供给控制表（1）中，将与离子束的能量水平和能量的变更次数对应地决定的修正电流值存储在电流供给补偿值表（2、3）中，计算上述电磁铁的励磁电流值。

公开(公告)号：CN103357124A

公开(公告)日：2013-10-23

申请号：CN201310123504.8

申请日：2013-04-10

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 远竹聪 ,  梅泽真澄 ,  今川知久

IPC: A61N5/10

CPC classification number: A61N5/1043 ,  A61N5/103 ,  A61N5/1048 ,  A61N5/1049 ,  A61N5/1077 ,  A61N2005/1087

Abstract: 根据本发明，能够提供一种粒子线治疗系统，其在实施依次地变更从加速器射出的射束的能量的扫描照射方式时，能够抑制由于电磁铁的初始化动作而导致的治疗时间延长。照射控制装置（35）具备以下的方法，即按照各照射条件（能量条件）运算输送系统的偏向电磁铁（15、20A、20B、20C）的励磁电流设定值，与照射时序一致地设定适当的励磁电流值。更详细地说，照射控制装置（35）预先将与离子束的能量水平对应地决定的基准电流值存储在电流供给控制表（1）中，将与离子束的能量水平和能量的变更次数对应地决定的修正电流值存储在电流供给补偿值表（2、3）中，计算上述电磁铁的励磁电流值。

公开(公告)号：CN114340729A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202080062050.6

申请日：2020-06-24

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 藤井祐介 ,  青木学 ,  梅泽真澄

IPC: A61N5/10 ,  G01R33/42 ,  G01R33/48

Abstract: 本发明提供一种搭载有MRI装置的粒子线照射系统，能够将粒子线监视器接近MRI装置配置。具有：床(24)，其搭载照射目标(26)；照射装置(21)，其朝向照射目标照射粒子线；以及磁共振成像装置(150)，其拍摄照射对象(25)的图像。磁共振成像装置(150)具备：磁铁(50)，其在配置有照射目标(26)的摄像空间(55)产生静磁场；以及磁轭(60)，其配置于摄像空间(55)以外，供磁铁(50)产生的磁场的磁通通过。从摄像空间(55)观察，照射装置(21)配置于磁轭(60)的背面侧，从设置于磁轭(60)的贯通孔或设置于磁轭的间隙向照射目标照射粒子线。粒子线进入摄像空间的方向与由磁铁对摄像空间施加的静磁场的朝向交叉。

公开(公告)号：CN112955213A

公开(公告)日：2021-06-11

申请号：CN201980072285.0

申请日：2019-11-15

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 平山嵩祐 ,  藤本林太郎 ,  梅泽真澄 ,  藤井祐介 ,  小桥启司 ,  松浦妙子 ,  清水伸一

IPC: A61N5/10

Abstract: 本发明的质子线治疗系统(1)具有：照射喷嘴(25)，其用于对标靶(31A)照射粒子线；质子线照射控制装置(41)，其控制照射喷嘴(25)；剂量监视器(27B)，其测量照射到标靶(31A)的粒子线的照射量；位置监视器(27A)，其测量照射到标靶(31A)的粒子线的位置；以及照射中剂量分布评价系统(55)，其在照射中计算照射到标靶(31A)的粒子线的剂量分布。由此，支援医疗从业者在粒子线的照射过程中迅速且适当地进行粒子线治疗的中止、条件变更等对治疗的介入判断。

公开(公告)号：CN108348767B

公开(公告)日：2020-07-24

申请号：CN201580084308.1

申请日：2015-11-13

Applicant: 株式会社日立制作所

Inventor： 梅泽真澄 ,  藤高伸一郎 ,  高柳泰介

IPC: A61N5/10

Abstract: 本发明依赖于作为照射对象的患者(4)的患部(41)，能够基于预先的选择来选择实施光栅扫描方式和离散点扫描方式的其中一种照射方式，并且构成为能够由一台照射装置(500)来实施光栅扫描方式和离散点扫描方式的其中一种照射方式。由此，提供能够实现兼得更高精度的照射和高剂量率化的兼得的小型的粒子束治疗系统。

公开(公告)号：CN104548387B

公开(公告)日：2017-10-24

申请号：CN201410592195.3

申请日：2014-10-29

Applicant: 株式会社日立制作所 ,  国立大学法人北海道大学

Inventor： 平本和夫 ,  梅泽真澄 ,  藤高伸一郎 ,  白土博树 ,  清水伸一 ,  梅垣菊男

IPC: H05H7/22

CPC classification number: A61N5/1048 ,  A61N5/1043 ,  A61N5/1081 ,  A61N2005/1074 ,  A61N2005/1087 ,  G21K1/08 ,  G21K5/04

Abstract: 本发明提供一种带电粒子束系统，可以将带电粒子束系统小型化，并且可以提高离子束向照射目标的照射集中性以及照射剂量分布的控制性。通过离子源产生第一离子以及比第一离子重的第二离子。第一离子以及第二离子中的一种离子通过切换电磁铁的作用而入射到加速器，通过加速器被加速。包含这一种离子的离子束从加速器出射到射束输送系统，从照射装置照射到患者的患部(照射对象)。在离子束的照射中，比较照射目标的深度和各离子种类的最大水中射程，选择第一离子以及第二离子中、照射目标的深度为最长水中射程以下的离子。所选择的离子入射到加速器，照射到照射目标。