公开(公告)号：CN114242613A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202111056125.2

申请日：2021-09-09

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大 ,  小林健司 ,  泽岛隼 ,  吉田武司 ,  根来世 ,  折坂昌幸

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(1)具备：筒状护罩(53A)，接住从衬底(W)向外侧飞溅的液体；腔室(12)，包围护罩(53A)；间隔板(81)，将腔室(12)内的护罩(53A)周围的空间上下隔开；以及排气管，将护罩(53A)内侧的气体与间隔板(81)下侧的气体吸引到在腔室(12)内配置在比间隔板(81)更靠下方的上游端内，并排出到腔室(12)的外部。间隔板(81)包含：外周端(81o)，从腔室(12)的内周面(12i)向内侧离开；以及内周端，包围护罩(53A)。护罩升降单元通过使护罩(53A)升降，而改变从间隔板(81)的内周端(内周面(83i))到护罩(53A)的最短距离。

公开(公告)号：CN112753094A

公开(公告)日：2021-05-04

申请号：CN201980061928.1

申请日：2019-08-20

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具备送液配管(41)、供给配管(43)、回流配管(44)、调整阀(47)、及控制部(3)。控制部(3)能够将调整阀(47)的开度切换为第1开度及第2开度中的任一开度。第1开度表示将由送液配管(41)引导的药液的全部或一部分供给至供给配管(43)的开度。第2开度表示将供给配管(43)内的药液的全部或一部分供给至回流配管(44)的开度。

公开(公告)号：CN119852212A

公开(公告)日：2025-04-18

申请号：CN202510072038.8

申请日：2021-02-26

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  宫川纱希 ,  小林健司

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(5lAl)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(5lAl)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。

公开(公告)号：CN112753094B

公开(公告)日：2025-01-14

申请号：CN201980061928.1

申请日：2019-08-20

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明的基板处理装置(100)具备送液配管(41)、供给配管(43)、回流配管(44)、调整阀(47)、及控制部(3)。控制部(3)能够将调整阀(47)的开度切换为第1开度及第2开度中的任一开度。第1开度表示将由送液配管(41)引导的药液的全部或一部分供给至供给配管(43)的开度。第2开度表示将供给配管(43)内的药液的全部或一部分供给至回流配管(44)的开度。

公开(公告)号：CN118872032A

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN202380028060.1

申请日：2023-03-17

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 青木陆太 ,  山口贵大 ,  远藤亨 ,  续木凉介 ,  上前昭司

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/304

Abstract: 在基板处理装置(100)中，控制部(102)基于第一流量计(112b)的测量结果计算从第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)而供给至贮存槽(116)的第一成分液体的第一供给量，基于第二流量计(114b)的测量结果计算从第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)而供给至贮存槽(116)的第二成分液体的第二供给量；在成分液体供给期间中基于第一供给量以及第二供给量来控制第一成分液体供给部(112)以及第二成分液体供给部(114)，成分液体供给期间为第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)供给第一成分液体的期间以及第二成分液体供给部(114)经由第二配管(114a)供给第二成分液体的期间中的至少一个期间。

公开(公告)号：CN117501413A

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN202280042202.5

申请日：2022-04-15

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 岛野达矢 ,  山口贵大 ,  远藤亨 ,  青木陆太

IPC: H01L21/304

Abstract: 本发明提供能够进行更适当的异常处理的技术。基板处理方法具有设定工序、基板处理工序、检测工序(S1)以及第一异常处理工序(S4)。在设定工序中，将用于规定对基板的一系列处理的复数个处理内容中的一个处理内容以与复数个处理内容中的各个处理内容对应的方式设定为跳转目的地。在基板处理工序中，对基板开始一系列处理。在检测工序(S1)中检测异常。在第一异常处理工序(S4)中，当检测到异常时，从与执行中的处理内容即执行内容对应地设定的跳转目的地开始进行一系列处理。

公开(公告)号：CN109786284B

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN201811278721.3

申请日：2018-10-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大

IPC: H01L21/67

公开(公告)号：CN115116886A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210026498.3

申请日：2022-01-11

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 伊藤明 ,  山口贵大

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L33/48

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。能通过从配置在绕旋转轴旋转的衬底的一个主面的正下方，且从衬底的端面朝旋转轴侧离开的位置的发光元件射出的光，将衬底的周缘部有效加热，而在短时间内执行处理液的处理。本发明的发光元件以发光面朝向衬底的周缘部的方式，相对于水平面倾斜配置。因此，从发光元件的发光面射出的光照射到衬底的下表面周缘部或其附近区域。

公开(公告)号：CN113314435A

公开(公告)日：2021-08-27

申请号：CN202011373950.0

申请日：2020-11-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 泽岛隼 ,  山口贵大 ,  小林健司

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

Abstract: 本发明涉及一种衬底处理装置。所有处理单元中，处理室、药液配管空间及排气室沿着搬送空间排列配置，且从搬送空间侧观察时，在处理室的一侧配置着药液配管空间，并以隔着处理室与药液配管空间对向的方式配置着排气室。由于排气室隔着处理室与药液配管空间对向配置，因此能够防止排气管妨碍配管通过的通路，所述配管是用来向保持在保持旋转部上的衬底供给药液。另外，以往是由2种处理单元构成，而本发明中通过1种处理单元即可解决。因此，能够使零件在所有处理单元中共通化。

公开(公告)号：CN109786284A

公开(公告)日：2019-05-21

申请号：CN201811278721.3

申请日：2018-10-30

Applicant: 株式会社斯库林集团

Inventor： 山口贵大

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置，所述方法包括如下步骤：基板旋转步骤，使基板以水平姿态进行旋转；处理液提供步骤，对通过所述基板旋转步骤被旋转的基板的上表面提供处理液；液膜状态监测步骤，对于提供给所述基板的上表面的处理液在所述基板的上表面形成液膜的状态进行监测；基板旋转速度变更步骤，在所述处理液提供步骤的执行中，根据所述液膜状态监测步骤所监测的所述液膜的状态，相应地改变所述基板的旋转速度。