公开(公告)号：CN102163004B

公开(公告)日：2014-04-09

申请号：CN201110089474.4

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请公开了一种曝光装置、曝光方法和器件制造方法。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN102323724A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN201110268975.9

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101231477B

公开(公告)日：2010-11-17

申请号：CN200810082276.3

申请日：2003-12-05

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  高岩宏明 ,  荒井大

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。

公开(公告)号：CN101436000A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200810173386.0

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN100452293C

公开(公告)日：2009-01-14

申请号：CN200480021856.1

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN1890779A

公开(公告)日：2007-01-03

申请号：CN200480035901.9

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂 ,  星加隆一 ,  石泽均

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN104122760A

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201410333238.6

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN102323724B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201110268975.9

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101644900B

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN200810173396.4

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN1890779B

公开(公告)日：2011-06-08

申请号：CN200480035901.9

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂 ,  星加隆一 ,  石泽均

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。