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公开(公告)号：CN1681758A
公开(公告)日：2005-10-12
申请号：CN03821667.1
申请日：2003-08-27
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 本发明公开一种制备4－烷基苯酚的方法，其包括如下步骤：在合成沸石存在下、在50～110℃的温度下使4－未取代的苯酚与烷基醇或烷基醚反应(第一步)；在第一步中使用烷基醇的情况下，除去生成的反应混合物的液相中所含的生成的水，或在第一步使用烷基醚的情况下，除去生成的反应混合物的液相中所含的生成的醇(第二步)；然后在90～150℃的温度下、在酸性催化剂存在下，在除去了生成的水或生成的醇的反应混合物中进行重排反应(第三步)。根据本发明，能够在工业上以良好的选择性和高产率有利地制备4－烷基苯酚。
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公开(公告)号：CN115244440B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202180020786.1
申请日：2021-03-11
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: G02B5/30 , C08J5/18 , G02F1/1335
Abstract: 偏振膜，其包含聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所示的单硼酸和在水的存在下能够转化为该单硼酸的化合物中的至少1种的含硼化合物(B)以及硼酸(C)，其中，源自含硼化合物(B)的硼元素含量（bt）为0.3～2.0质量%，硼元素总含量（T）为3.0～7.0质量%，且（bt）相对于(T)之比（bt/T）为0.10～0.30，从至少一个表面向内侧至相对于整体厚度为7.5%为止的范围的、源自含硼化合物（B）的硼元素浓度（bo）为2.2～10.0原子%。该偏振膜为高偏振性能且高透射率的偏振膜。【化学式1】#imgabs0#式（I）中，R1是碳原子数为1～20的一价脂肪族基，R1与硼酸基以硼‑碳键连接。
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公开(公告)号：CN117724199A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202410011707.6
申请日：2017-02-08
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: G02B5/30
Abstract: 在对聚乙烯醇膜按顺序至少实施溶胀步骤、染色步骤、第1交联拉伸步骤、第2交联拉伸步骤的偏振膜的制造方法中；前述聚乙烯醇膜中包含的聚乙烯醇的平均聚合度为2500～3500；在前述第1交联拉伸步骤中，在包含1～5质量％的硼酸的40～55℃的水溶液中，以该步骤中的拉伸倍率达到1.1～1.3倍且总拉伸倍率达到2.5～3.5倍的方式进行单轴拉伸；在前述第2交联拉伸步骤中，在包含1～5质量％的硼酸的60～70℃的水溶液中，以该步骤中的拉伸倍率达到1.8～3.0倍且总拉伸倍率达到6～8倍的方式进行单轴拉伸。由此，能够制造具有优异的偏振性能、而且收缩应力低的偏振膜。
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公开(公告)号：CN115244440A
公开(公告)日：2022-10-25
申请号：CN202180020786.1
申请日：2021-03-11
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: G02B5/30 , C08J5/18 , G02F1/1335
Abstract: 偏振膜，其包含聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所示的单硼酸和在水的存在下能够转化为该单硼酸的化合物中的至少1种的含硼化合物(B)以及硼酸(C)，其中，源自含硼化合物(B)的硼元素含量（bt）为0.3～2.0质量%，硼元素总含量（T）为3.0～7.0质量%，且（bt）相对于(T)之比（bt/T）为0.10～0.30，从至少一个表面向内侧至相对于整体厚度为7.5%为止的范围的、源自含硼化合物（B）的硼元素浓度（bo）为2.2～10.0原子%。该偏振膜为高偏振性能且高透射率的偏振膜。【化学式1】式（I）中，R1是碳原子数为1～20的一价脂肪族基，R1与硼酸基以硼‑碳键连接。
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公开(公告)号：CN114008497A
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202080046465.4
申请日：2020-06-25
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: G02B5/30
Abstract: 偏振膜，其包含：聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所示的单有机硼酸和在水的存在下能够转化为该单有机硼酸的化合物中的至少1种含硼化合物(B)、以及选自下述式(II)所示的二有机硼酸和在水的存在下能够转化为该二有机硼酸的化合物中的至少1种含硼化合物(C)，源自含硼化合物(B)的硼元素相对于源自含硼化合物(C)的硼元素的质量比(B/C)为4.0~8.0，源自含硼化合物(C)的硼元素含量相对于聚乙烯醇(A)100质量份为0.05~0.3质量份。该偏振膜在高温下的收缩力小，耐湿热性也优异。[式(I)中，R1是碳原子数为1~20的1价脂肪族基，R1与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。[式(II)中，R2是碳原子数为1~20的2价脂肪族基，R2与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110352369B
公开(公告)日：2021-12-17
申请号：CN201880016626.8
申请日：2018-03-07
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: G02B5/30 , B29C55/06 , B32B7/023 , B32B27/30 , C08J5/18 , G02F1/1335 , B29K29/00 , B29L7/00 , B29L11/00
Abstract: 制成偏振膜，其为包含含有碘系二色性染料的聚乙烯醇膜的偏振膜，其偏振度为99.5%以上，且满足下述式(1)和式(2)。这种偏振膜具有良好的偏振性能和色相，并且收缩应力也小、尺寸稳定性优异。B≤3.0 (1)、B＋0.035A≤3.9 (2)。其中，A为在80℃下加热4小时后的上述偏振膜的收缩应力(N/mm2)，B为上述偏振膜的单体b值。
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公开(公告)号：CN100357241C
公开(公告)日：2007-12-26
申请号：CN03821667.1
申请日：2003-08-27
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 本发明公开一种制备4-烷基苯酚的方法，其包括如下步骤：在合成沸石存在下、在50～110℃的温度下使4-未取代的苯酚与烷基醇或烷基醚反应(第一步)；在第一步中使用烷基醇的情况下，除去生成的反应混合物的液相中所含的生成的水，或在第一步使用烷基醚的情况下，除去生成的反应混合物的液相中所含的生成的醇(第二步)；然后在90～150℃的温度下、在酸性催化剂存在下，在除去了生成的水或生成的醇的反应混合物中进行重排反应(第三步)。根据本发明，能够在工业上以良好的选择性和高产率有利地制备4-烷基苯酚。
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公开(公告)号：CN114008497B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202080046465.4
申请日：2020-06-25
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: G02B5/30
Abstract: 偏振膜，其包含：聚乙烯醇(A)、选自下述式(I)所示的单有机硼酸和在水的存在下能够转化为该单有机硼酸的化合物中的至少1种含硼化合物(B)、以及选自下述式(II)所示的二有机硼酸和在水的存在下能够转化为该二有机硼酸的化合物中的至少1种含硼化合物(C)，源自含硼化合物(B)的硼元素相对于源自含硼化合物(C)的硼元素的质量比(B/C)为4.0~8.0，源自含硼化合物(C)的硼元素含量相对于聚乙烯醇(A)100质量份为0.05~0.3质量份。该偏振膜在高温下的收缩力小，耐湿热性也优异。[式(I)中，R1是碳原子数为1~20的1价脂肪族基，R1与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。[式(II)中，R2是碳原子数为1~20的2价脂肪族基，R2与有机硼酸基通过硼‑碳键连接]。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN107709496B
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201680036924.4
申请日：2016-06-22
Applicant: 株式会社可乐丽
IPC: C09J129/04 , C09J4/00 , C09J11/06 , C09J129/14 , C09J163/00 , C09J201/02 , G02B5/30
Abstract: 活性能量射线固化型的粘接剂，其为用于粘接包含PVA系聚合物的膜与保护膜的粘接剂，其包含PVA系聚合物(A)、阳离子聚合性化合物(B)和阳离子聚合引发剂(C)；粘接体，其为具备：包含PVA系聚合物的膜、保护膜、和粘接剂层的粘接体，其中，粘接剂层被配设于包含PVA系聚合物的膜与保护膜之间，粘接剂层为将上述粘接剂固化而得到；和，粘接体的制造方法，将包含PVA系聚合物的膜与保护膜借助上述粘接剂贴合后，照射活性能量射线从而使粘接剂层固化。由此，可以提供在包含PVA系聚合物的膜与保护膜之间的粘接中显示出高粘接力、此外可以得到耐水性优异的偏振板等粘接体的粘接剂、使用该粘接剂得到的粘接体、和该粘接体的制造方法。
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公开(公告)号：CN108603974A
公开(公告)日：2018-09-28
申请号：CN201780010637.0
申请日：2017-02-08
Applicant: 株式会社可乐丽
Abstract: 在对聚乙烯醇膜按顺序至少实施溶胀步骤、染色步骤、第1交联拉伸步骤、第2交联拉伸步骤的偏振膜的制造方法中；前述聚乙烯醇膜中包含的聚乙烯醇的平均聚合度为2500~3500；在前述第1交联拉伸步骤中，在包含1~5质量%的硼酸的40~55℃的水溶液中，以该步骤中的拉伸倍率达到1.1~1.3倍且总拉伸倍率达到2.5~3.5倍的方式进行单轴拉伸；在前述第2交联拉伸步骤中，在包含1~5质量%的硼酸的60~70℃的水溶液中，以该步骤中的拉伸倍率达到1.8~3.0倍且总拉伸倍率达到6~8倍的方式进行单轴拉伸。由此，能够制造具有优异的偏振性能、而且收缩应力低的偏振膜。
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