成膜方法和成膜装置
    17.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101978097B

    公开(公告)日:2013-02-13

    申请号:CN200880023545.7

    申请日:2008-07-22

    CPC classification number: C23C24/04

    Abstract: 本发明的成膜方法包括下述工序:通过向保持了原料粉体(7)的第1室(8)间歇地导入输送气体(5),将原料粉体(7)和输送气体(5)混合从而生成第1气溶胶;通过向第2室(9)导入第1气溶胶从而生成第2气溶胶;以及通过向第3室(13)喷射第2气溶胶从而形成原料粉体(7)的膜。

    制造导电高分子的方法及设备

    公开(公告)号:CN100335529C

    公开(公告)日:2007-09-05

    申请号:CN200480001583.4

    申请日:2004-05-17

    Inventor: 吉田雅宪

    Abstract: 一种制造本发明导电高分子的方法,其是通过使至少一种单体和一种氧化剂由化学聚合反应方法进行反应而制得导电高分子,该方法包括:使该单体和该氧化剂至少在含有过饱和蒸汽气氛的聚合反应容器中进行反应。由该方法,可制得呈平面状的导电高分子(10)。因此,本发明可提供制备导电高分子的方法和设备,其中该导电高分子可结合固态电解电容器中的低ESR和大容量,实现低损耗并具有低漏电流。

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