公开(公告)号：CN109715711B

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201780056721.6

申请日：2017-09-25

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 村上俊秀

IPC: C08J5/18 ,  B29C55/08 ,  B32B27/00 ,  B29K86/00 ,  B29L7/00

Abstract: 本发明提供一种树脂膜，由包含聚合物的树脂形成，上述聚合物含有脂环式结构且具有结晶性，上述聚合物的晶化度为30％以上，并且，上述树脂膜的由式(1)表示的厚度不均Tv为5％以下。其中，上述式(1)为Tv[％]＝[(Tmax‑Tmin)/Tave]×100，该式(1)中，Tmax为上述树脂膜的厚度的最大值，Tmin为上述树脂膜的厚度的最小值，并且Tave为上述树脂膜的厚度的平均值。

公开(公告)号：CN108139529B

公开(公告)日：2021-02-02

申请号：CN201680058906.6

申请日：2016-10-13

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 村上俊秀

IPC: G02B5/30 ,  B42D25/328 ,  B42D25/364 ,  G02B5/18 ,  G02B5/32

Abstract: 本发明涉及相位差膜及其制造方法，上述相位差膜由包含具有结晶性的聚合物的树脂形成，NZ系数小于1，上述制造方法包含以下工序：贴合工序，其为在第1膜的一面或两面贴合第2膜而得到第3膜的工序，上述第1膜由包含具有结晶性的聚合物、玻璃化转变温度为Tg(℃)、熔点为Tm(℃)的树脂形成，上述第2膜的(Tg+30)℃时的至少一个方向的收缩率为5～50％；收缩工序，将上述第3膜加热到Tg℃～(Tg+30)℃，使其沿着至少一个方向收缩，使其面积收缩5～50％而得到第4膜；以及二次加热工序，将上述第4膜加热到(Tg+50)℃～(Tm‑40)℃。

公开(公告)号：CN109414919A

公开(公告)日：2019-03-01

申请号：CN201780038948.8

申请日：2017-07-14

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 村上俊秀

IPC: B32B27/32 ,  B32B7/02 ,  B32B27/00 ,  C08J7/04

Abstract: 一种导电性膜，为具有基材膜和设置在上述基材膜上的有机导电层的导电性膜，上述基材膜由树脂形成，上述树脂包含具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物，上述基材膜的厚度为5μm以上且50μm以下，上述具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物的晶化度为30％以上。上述具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物优选为双环戊二烯的开环聚合物的加氢物。

公开(公告)号：CN107075150A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580057037.0

申请日：2015-10-09

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 村上俊秀 ,  山田圣 ,  井伊泰规

IPC: C08J5/18 ,  B32B27/00 ,  C08G61/08 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

CPC classification number: C08J5/18 ,  B32B27/00 ,  C08G61/08 ,  C08G2261/418 ,  C08J7/06 ,  C08J2365/00 ,  H01B5/14 ,  H01B13/00

Abstract: 本发明提供一种高温环境下的尺寸稳定性优异的树脂膜。一种树脂膜，由包含具有结晶性的含有脂环式结构的聚合物的树脂形成，在150℃加热了1小时的情况下的热尺寸变化率的绝对值在膜面内的任意的方向上为1％以下。含有脂环式结构的聚合物优选为双环戊二烯的开环聚合物的氢化物。本发明还提供一种树脂膜的制造方法，其包含一边维持结晶膜平坦、一边缓和结晶膜的张紧的工序。

公开(公告)号：CN101185013B

公开(公告)日：2010-10-06

申请号：CN200680018662.5

申请日：2006-05-29

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 上岛贡 ,  村上俊秀 ,  涩谷明庆 ,  藤田惠美 ,  林昌彦 ,  荒川公平

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种长带状的栅格偏振膜，其包括：长带状的树脂膜和设置在该树脂膜的表面和/或内部的相互大致平行延伸的多条栅格线，该栅格线由复折射率(N1＝n1-iκ1)的实部n1和虚部κ1之差的绝对值为1.0以上的材料G构成，上述树脂膜的表面上形成相互大致平行延伸的多条沟槽，上述栅格线由叠层在沟槽的底面上和/或位于相邻沟槽间的垄的顶面上的材料G的薄膜构成。还提供一种包含该长带状栅格偏振膜和其他长带状偏振光学膜的长带状光学叠层体。

公开(公告)号：CN101185013A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200680018662.5

申请日：2006-05-29

Applicant: 日本瑞翁株式会社

Inventor： 上岛贡 ,  村上俊秀 ,  涩谷明庆 ,  藤田惠美 ,  林昌彦 ,  荒川公平

IPC: G02B5/30 ,  G02F1/1335

Abstract: 本发明提供一种长带状的栅格偏振膜，其包括：长带状的树脂膜和设置在该树脂膜的表面和/或内部的相互大致平行延伸的多条栅格线，该栅格线由双折射率(N1＝n1－iκ1)的实部n1和虚部κ1之差的绝对值为1.0以上的材料G构成，上述树脂膜的表面上形成相互大致平行延伸的多条沟槽，上述栅格线由叠层在沟槽的底面上和/或位于相邻沟槽间的垄的顶面上的材料G的薄膜构成。还提供一种包含该长带状栅格偏振膜和其他长带状偏振光学膜的长带状光学叠层体。