公开(公告)号：CN104460099A

公开(公告)日：2015-03-25

申请号：CN201410466265.0

申请日：2014-09-12

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 阿部浩幸 ,  川合涉史 ,  小盐智 ,  小柳德英 ,  芝田祥司 ,  由良友和 ,  张兆冈 ,  林大钧

IPC: G02F1/1335 ,  B32B38/10

Abstract: 本发明提供一种剥离辅助构件、剥离装置及剥离方法。该剥离辅助构件用于形成从具有基板和粘接在该基板中的一个面上的偏光板的层叠体将上述偏光板剥离时的剥离起点，其特征在于，该剥离辅助构件包括：底面部，其沿着上述层叠体的靠上述偏光板侧的面配置；及顶端部，其具有曲面，该曲面用于使正在剥离的上述偏光板沿着该曲面弯曲。

公开(公告)号：CN101039759A

公开(公告)日：2007-09-19

申请号：CN200680000997.4

申请日：2006-08-23

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 近藤诚司 ,  吉田健太郎 ,  长竹涉 ,  芝田祥司

IPC: B05D7/04 ,  C08J5/18 ,  B05D1/26 ,  G02B5/30 ,  B05D7/24

CPC classification number: G02B5/3033 ,  C08J5/18 ,  C08J2379/08 ,  Y10T428/265

Abstract: 本发明提供一种光学功能薄膜的制造方法，其是具备聚酰亚胺层的光学功能薄膜的制造方法，其特征在于，包括：利用具有上游侧模唇和下游侧模唇的模涂机，将含有聚酰亚胺且粘度γ为100＜γ＜3000mPa·s的涂敷液涂敷在基材薄膜上而在该基材薄膜上形成聚酰亚胺层的涂敷工序；当设所述上游侧模唇的前端和所述基材薄膜的距离为D1，所述下游侧模唇的前端和所述基材薄膜的距离为D2时，D2≥50μm，且0＜D1－D2≤200μm。

公开(公告)号：CN204203585U

公开(公告)日：2015-03-11

申请号：CN201420527092.4

申请日：2014-09-12

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 阿部浩幸 ,  川合涉史 ,  小盐智 ,  小柳德英 ,  芝田祥司 ,  由良友和 ,  张兆冈 ,  林大钧

IPC: G02F1/1335 ,  B32B38/10

Abstract: 本实用新型提供一种能够容易地将偏光板从基板上剥离的剥离辅助构件和剥离装置。该剥离辅助构件用于形成从具有基板和粘接在该基板中的一个面上的偏光板的层叠体将上述偏光板剥离时的剥离起点，其特征在于，该剥离辅助构件包括：底面部，其沿着上述层叠体的靠上述偏光板侧的面配置；及顶端部，其具有曲面，该曲面用于使正在剥离的上述偏光板沿着该曲面弯曲。

公开(公告)号：CN204322543U

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201420060216.2

申请日：2014-02-10

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 井川博登 ,  铃木秀仁 ,  芝田祥司

IPC: B29D11/00

Abstract: 本实用新型提供一种用于制造偏光片的染色拉伸装置，其至少依次具备染色处理浴、交联处理浴、拉伸处理浴及调整处理浴。通过采用本实用新型的染色拉伸装置，能够制造偏光性能良好的偏光片。

公开(公告)号：CN204142989U

公开(公告)日：2015-02-04

申请号：CN201420549206.5

申请日：2014-09-23

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 桑木清和 ,  宫崎真 ,  芝田祥司

IPC: G02B5/30

Abstract: 本实用新型提供一种能够使原料膜的拉伸稳定化的偏光膜的制造装置。沿原料膜输送方向在实施拉伸处理的浴槽外设置有第一夹持辊和第二夹持辊，该第一和第二夹持辊旋转速度不同；沿原料膜输送方向在实施拉伸处理的浴槽内设置有第三夹持辊和第四夹持辊，该第三和第四夹持辊旋转速度不同。第三与第一夹持辊旋转速度相同，第四夹持辊的旋转速度大于第三夹持辊的旋转速度，第二夹持辊的旋转速度大于或等于第四夹持辊的旋转速度，原料膜由驱动辊驱动，在实施拉伸处理的浴槽中，经由第一至第四夹持辊，通过第三和第四夹持辊的速度差而被拉伸、输送，将第三和第四夹持辊设置在实施拉伸处理的浴槽中距液面相同距离的位置，且使原料膜在第三和第四夹持辊之间在水平方向被拉伸、输送。

公开(公告)号：CN203919938U

公开(公告)日：2014-11-05

申请号：CN201420300671.5

申请日：2014-06-06

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 芝田祥司 ,  笠井政庆

IPC: B32B37/10 ,  B08B1/04

Abstract: 本实用新型提供一种贴合装置(6)，该贴合装置包括：贴合部，其具有一对贴合辊，一对所述贴合辊的轴线方向彼此平行，且一对所述贴合辊能够彼此压接而形成辊隙；清洁部，其具有与所述贴合辊的外周面接触而清洁该外周面的清洁件；所述清洁件与所述贴合辊以能够相互接近/远离以彼此压接/分离的方式设置。在清洁时，能够通过使清洁件接触贴合辊而除去贴合辊上的异物，因此能够避免操作人员接近贴合辊时带入其他异物。另外，在维护时，通过使清洁件远离清洁辊，能够防止清洁件和贴合辊中的一方相对于另一方成为阻碍，能够容易地进行维护作业。

公开(公告)号：CN204331210U

公开(公告)日：2015-05-13

申请号：CN201420842891.0

申请日：2014-12-25

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 由良友和 ,  大泽曜彰 ,  小栁德英 ,  芝田祥司

IPC: G02F1/13

Abstract: 本实用新型涉及一种光学显示面板生产线。该生产线依次具备：清洗基板的清洗装置；干燥基板的干燥装置；在所述基板移动的同时检查其表面状态的基板表面检查装置；将光学膜贴合在进行了表面检查的基板上的贴合装置；基板表面检查装置具备：光源，其向基板射出光束；光接收部件，其配置在与光源形成正反射关系的位置上，接收来自光源的光束被所述基板反射后的反射光。根据本实用新型，能够在将基板干燥的状态下利用光的反射检查来检测基板表面的异物，无论油分的多少，都能够利用简单的结构切实地检查基板的表面状态。

公开(公告)号：CN204079458U

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201420066506.8

申请日：2014-02-14

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 芝田祥司 ,  神丸刚 ,  藤井裕己

IPC: B67D7/02 ,  B67D7/06

Abstract: 本实用新型提供一种浓度调整装置，其特征在于，设有：自动供给装置、混合槽、以及处理浴，所述处理浴中的处理液被输送至混合槽，并通过自动供给装置向混合槽中供给原料，使其与混合槽中的处理液混合，并将经过调整的处理液送回至处理浴。本实用新型提供的浓度调整装置能够使处理浴中的处理液浓度保持一定。