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公开(公告)号：CN100532103C
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN03822767.3
申请日：2003-09-22
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B41J2/14209 , B05B5/0255 , B05B17/0607 , B41J2/04576 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/1433 , B41J2/16 , B41J2/162 , B41J2/1623 , B41J2/1631 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2002/14395
Abstract: 首先，经由涂覆步骤、照相平版印刷步骤和蚀刻步骤，在基板(141)上形成多个电极(142，142...)。接着，在基板(141)上形成一种抗蚀剂层(143b)以覆盖所有电极(142，142...)，且通过对该抗蚀剂层(143b)进行曝光和显影，形成一种具有超微小直径且相对于该基板(141)竖立的喷嘴(103)，以使该抗蚀剂层(143b)对应于每个电极(142)，然后在每个喷嘴(103)内形成喷嘴内通道。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1684834A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN03822767.3
申请日：2003-09-22
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社 , 夏普株式会社 , 独立行政法人产业技术综合研究所
CPC classification number: B41J2/14209 , B05B5/0255 , B05B17/0607 , B41J2/04576 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/1433 , B41J2/16 , B41J2/162 , B41J2/1623 , B41J2/1631 , B41J2/1642 , B41J2/1643 , B41J2002/14395
Abstract: 首先，经由涂覆步骤、照相平版印刷步骤和蚀刻步骤，在基板141上形成多个电极142，142…。接着，在基板141上形成一种抗蚀剂层143b以覆盖所有电极142，142…，且通过对该抗蚀剂层143b进行曝光和显影，形成一种具有超微小直径且相对于该基板141竖立的喷嘴103，以使该抗蚀剂层143b对应于每个电极142，然后在每个喷嘴103内形成喷嘴内通道。
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公开(公告)号：CN1988963B
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200580024953.0
申请日：2005-07-20
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社
CPC classification number: B05B5/0255 , B41J2/04576 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/14233 , B41J2/1433 , B41J2002/14475
Abstract: 本发明的液体排出装置(20)将带电溶液的液滴排出到基材(K)；其中：具有液体排出头(26)、溶液供给单元(29)、及排出电压施加单元(25)；该液体排出头(26)从内径100μm以下的喷嘴(21)的前端部(21a)排出液滴；该溶液供给单元(29)将溶液供给到喷嘴(21)内；该排出电压施加单元(25)将排出电压施加到喷嘴(21)内的溶液。在液体排出装置(20)中，喷嘴(21)从与基材对置的喷嘴板(26c)上的喷嘴面(26e)朝液滴的排出方向突出；喷嘴(21)的高度在30μm以下。
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公开(公告)号：CN1988963A
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200580024953.0
申请日：2005-07-20
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社
CPC classification number: B05B5/0255 , B41J2/04576 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/14233 , B41J2/1433 , B41J2002/14475
Abstract: 本发明的液体排出装置(20)将带电溶液的液滴排出到基材(K)；其中：具有液体排出头(26)、溶液供给单元(29)、及排出电压施加单元(25)；该液体排出头(26)从内径100μm以下的喷嘴(21)的前端部(21a)排出液滴；该溶液供给单元(29)将溶液供给到喷嘴(21)内；该排出电压施加单元(25)将排出电压施加到喷嘴(21)内的溶液。在液体排出装置(20)中，喷嘴(21)从与基材对置的喷嘴板(26c)上的喷嘴面(26e)朝液滴的排出方向突出；喷嘴(21)的高度在30μm以下。
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公开(公告)号：CN101080324A
公开(公告)日：2007-11-28
申请号：CN200580043262.5
申请日：2005-12-07
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社
IPC: B41J2/06
CPC classification number: B41J2/04576 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/14233 , B41J2002/14475
Abstract: 本发明涉及一种喷液头，其特征为，具备：喷嘴：喷出液体；和扁平喷嘴板：其上设置有上述喷嘴；和腔：贮藏从上述喷嘴的喷出孔所喷出的液体；和压力产生部：对上述喷嘴内的液体产生压力，而在上述喷嘴的喷出孔上形成液体的弯液面；和静电电压施加部：在上述喷嘴及上述腔内的液体与基材间，施加静电电压，而产生静电引力；和工作控制部：控制上述静电电压施加部所为的上述静电电压的施加、以及驱动上述压力产生部的驱动电压的施加；并且，上述喷嘴板的体积电阻率在1015Ωm以上。
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公开(公告)号：CN100503249C
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：CN200580043262.5
申请日：2005-12-07
Applicant: 柯尼卡美能达控股株式会社
IPC: B41J2/06
CPC classification number: B41J2/04576 , B41J2/04581 , B41J2/04588 , B41J2/06 , B41J2/14233 , B41J2002/14475
Abstract: 本发明涉及一种喷液头，其特征为，具备：喷嘴：喷出液体；和扁平喷嘴板：其上设置有上述喷嘴；和腔：贮藏从上述喷嘴的喷出孔所喷出的液体；和压力产生部：对上述喷嘴内的液体产生压力，而在上述喷嘴的喷出孔上形成液体的弯液面；和静电电压施加部：在上述喷嘴及上述腔内的液体与基材间，施加静电电压，而产生静电引力；和工作控制部：控制上述静电电压施加部所为的上述静电电压的施加、以及驱动上述压力产生部的驱动电压的施加；并且，上述喷嘴板的体积电阻率在1015Ωm以上。
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