具有内隔离结构的半导体器件及其制作方法

    公开(公告)号:CN113921615B

    公开(公告)日:2022-03-22

    申请号:CN202111521843.2

    申请日:2021-12-14

    Abstract: 本申请公开了一种具有内隔离结构的半导体器件及其制作方法,所述半导体器件包括:半导体衬底;设置在所述半导体衬底一侧表面上的外延层,所述外延层具有相对的第一表面和第二表面;所述第一表面包括在第一方向上依次排布的元胞区、过渡区和终端区;所述第一方向平行于所述半导体衬底;设置在所述第一表面上的氧化层,所述氧化层位于所述过渡区;所述氧化层包括在所述第一方向上依次设置的第一栅氧化层和场氧化层;设置在所述第一表面内的主结区,所述主结区包括第一主结区和第二主结区,所述第一主结区和所述第二主结区之间具有隔离结构。可以降低在开关过程中第一栅氧化层附近的分布压降,从而提高器件对高开关速度或高dV/dt的耐受能力。

    一种利用沉积物表面微曝气促使形成根表铁膜加快沉积物污染物去除的方法

    公开(公告)号:CN112028249A

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN202010853936.4

    申请日:2020-08-24

    Applicant: 复旦大学

    Abstract: 本发明涉及水污染环境治理技术领域,具体涉及一种利用沉积物表面微曝气促使形成根表铁膜加快沉积物污染物去除的方法,主要为采集受抗生素污染的污泥,加入微生物液体培养基用以富集污染底泥中的相关微生物,再将富集微生物的培养基加入沉水植物预培养水体中,并添加FeSO4,共处理48-72小时,用以在沉水植物的根系表面形成根表铁膜,最终将预培养好的植物种植于受污染养殖塘底,并在沉积物表面再次添加FeSO4并进行微曝气,用以促进形成根表铁膜并加快污染物去除。该方法在原位,不需要移动沉积物和破坏自然生态系统的基础上去处沉积物中的抗生素类污染物,该方法简单,操作灵活、环境友好、且运行成本低廉。

    基于图像块稀疏系数的快速光声成像图像重建方法

    公开(公告)号:CN104586363A

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201510018526.7

    申请日:2015-01-14

    Applicant: 复旦大学

    Inventor: 汪源源 张晨 王近

    Abstract: 本发明属于光声成像技术领域,具体为一种基于图像块稀疏系数的快速光声成像的图像重建方法。本发明首先通过离散余弦变换优化采样矩阵,随后计算图像的块稀疏系数,对图像进行迭代修正,随后再根据迭代过的图像重新计算上述参数,进行反复迭代直至达到结束条件,最后输出重建的光声图像。本发明能有效地降低迭代算法的复杂度,同时还具有较好的重建质量,对于光声成像的图像重建具有实际意义。

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