一种基于飞秒直写氟铟基玻璃低损耗波导的制备方法

    公开(公告)号:CN116224493A

    公开(公告)日:2023-06-06

    申请号:CN202310226442.7

    申请日:2023-03-10

    Abstract: 本发明公开了一种基于飞秒直写氟铟基玻璃低损耗波导的制备方法,涉及光电技术领域,利用飞秒激光直写技术对稀土掺杂的氟化铟玻璃进行单线刻写、多次扫描的方法,根据光学特性确定波导形成需要的飞秒激光脉冲能量和刻写速度的参数范围,最终制备氟铟基玻璃低损耗波导。本发明提出一种基于飞秒激光直接写入技术在氟化铟衬底上制备通道波导的方案,找到了获得低损耗波导形成的参数,并从模式廓线、波导损耗和有源特性等方面对其进行了描述,在氟铟基玻璃材料上制备低损耗波导是一种出色发展中红外集成光学器件的候选方案,对中红外波导集成光学器件的发展具有特殊意义。

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