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公开(公告)号：CN104086791A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：CN201410292533.1
申请日：2014-06-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C08J5/18 , C08L25/14 , C08L33/08 , C08F220/18 , C08F212/08
Abstract: 本发明公开了一种光学特性可控的形状记忆聚合物薄膜及其制备方法。所述的形状记忆聚合物薄膜是将一定比例配制的苯乙烯基形状记忆聚合物溶液为原材料，采用微光刻硅基模板和匀胶旋涂技术制备了多种形状记忆聚合物微图案结构薄膜。该制备方法操作简单，成本低，薄膜厚度可控，薄膜表面微纳结构可根据应用需求进行预先设计，可适用于微光学领域多种应用需求。所述的苯乙烯基形状记忆聚合物薄膜具有优异的形状记忆性能，可在热激励下实现结构薄膜表面压印消失的结构快速回复的过程。结合材料本身的形状记忆特性，可实现结构薄膜的光学特性可控，并在可调谐微光学器件，颜色调控智能建筑、显示器和传感器等领域具有广泛的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107686134A
公开(公告)日：2018-02-13
申请号：CN201711056725.2
申请日：2017-11-01
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: C01G53/00 , C03C17/22 , B01J23/755
CPC classification number: C01G53/006 , B01J23/002 , B01J23/755 , B01J35/065 , B01J2523/00 , C01P2004/03 , C01P2006/40 , C03C17/22 , C03C2217/28 , C03C2218/116 , B01J2523/842 , B01J2523/845 , B01J2523/847
Abstract: 一种光学透明的导电玻璃负载的铁钴镍羟基氧化物薄膜的制备方法及其应用，属于清洁能源制备技术领域。选择导电玻璃作为基底，是因为其具有优异的导电性，并可以提供刚性支撑并用作高效的集流器。通过溶胶凝胶法合成FeCoNiOOH凝胶，再将FeCoNiOOH凝胶分散在二甲基甲酰胺中用于旋涂。将分散好的FeCoNiOOH凝胶旋涂在导电玻璃上，便成功制成了光学透明的导电玻璃负载的铁钴镍羟基氧化物薄膜。本方法步骤简易、成本低廉、环境友好，过程可控制，适合工业大规模化生产制造；本方法涉及的原材料无毒环保，廉价易得，储量丰富；所得产品性能优异，功能稳定。
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公开(公告)号：CN104834134B
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201510262915.4
申请日：2015-05-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G02F1/1343 , G02F1/1345
Abstract: 本发明涉及一种电致变色玻璃；该电致变色玻璃，包括上玻璃板(1)和下玻璃板(2)，设置在上玻璃板(1)和下玻璃板(2)中间，由填充胶(3)封闭的双稳态液晶(4)；所述上玻璃板(1)的下表面和下玻璃板(2)的上表面均设置有连通金属网络导电层(5)，所述的连通金属网络导电层(5)包括电极和引线，所述的电极和引线均为连通金属网络；本发明电致变色玻璃，由于电极具有良好的透光性能和导电性能，因此玻璃的电致变色性能更优越。
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公开(公告)号：CN104822249B
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201510262998.7
申请日：2015-05-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种电磁屏蔽光学窗的制作方法属于光学窗技术领域；该方法首先在平板衬底的上表面滴涂含有水性丙烯酸树脂的裂纹甲油，然后采用旋涂法将其均匀涂覆在衬底表面，形成掩模层薄膜；再在特定温度和湿度范围下，将掩模层薄膜自然干燥，形成裂纹模板；然后在裂纹模板的表面沉积导电金属层；最后溶解去除裂纹模板，得到电磁屏蔽光学窗；本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题，而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能，还给出能够解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件，使本发明方法制作出的电磁屏蔽光学窗，不仅具有良好的电磁屏蔽性能，而且具有良好的光学性能。
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公开(公告)号：CN104950365A
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201510262958.2
申请日：2015-05-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种光学透明频率选择表面结构及制作方法属于光学窗技术领域；所述频率选择表面结构包括衬底，分布在衬底上的表面具有周期开孔阵列的透明网栅膜；制作方法首先在衬底上表面涂覆掩模液，并在特定条件下，将掩模液自然干燥形成裂纹模板；接着在裂纹模板表面沉积导电金属层；然后去除裂纹模板，得到连续的透明网栅膜；再在透明网栅膜上制作开孔阵列掩模结构或其互补结构；并去除掩模结构未覆盖的透明网栅膜；最后去除掩模结构，得到光学透明频率选择表面结构；本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题，而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能，还给出了解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件。
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公开(公告)号：CN104834040A
公开(公告)日：2015-08-12
申请号：CN201510262957.8
申请日：2015-05-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
CPC classification number: G02B5/18 , G02B5/1847 , H01P1/20
Abstract: 一种金属网栅频率选择表面结构及制作方法属于光学窗技术领域；所述频率选择表面结构包括衬底，分布在衬底上的表面具有周期开孔阵列的透明网栅膜；制作方法首先在衬底上表面制作频率选择表面谐振单元掩模结构；并采用旋涂法涂覆含有水性丙烯酸树脂的裂纹甲油，形成掩模层薄膜；然后在特定条件下，将掩模液自然干燥形成裂纹模板；再在裂纹模板的表面沉积导电金属层；最后依次溶解裂纹模板、去除频率选择表面谐振单元掩模结构，得到金属网栅频率选择表面结构；本发明不仅避免因金属线宽增加而降低光学窗透光性能的问题，而且避免传统机械摩擦方式同时降低光学窗的透光性能和电磁屏蔽性能，还给出了解决高级次衍射能量分布不均匀问题的具体加工条件。
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