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公开(公告)号：CN106413359A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201510448954.3
申请日：2015-07-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 多层石墨烯网栅/金属网栅层叠结构的双向吸波强电磁屏蔽光窗属于光学透明件电磁屏蔽技术领域，该电磁屏蔽光窗利用石墨烯网栅薄膜具有不同的网孔单元开孔面积比时表现出的不同透光和微波屏蔽特性，将石墨烯网栅薄膜的低反射和部分吸收微波特性与高透光双层金属网栅的强电磁反射特性有机结合，将多层石墨烯网栅薄膜置于双层金属网栅两侧构成多层结构：用被石墨烯网栅薄膜分隔的双层金属网栅作为透明反射层，用被透明介质分隔的石墨烯网栅薄膜作为透明吸收层；该结构可同时使光窗两侧的射频辐射多次穿过吸收层被强吸收，实现双向的强屏蔽和低反射特性，可见光仅透过层叠结构一次而具有高透光率；该电磁屏蔽光窗解决了现有透明电磁屏蔽方法双向低电磁反射、强电磁屏蔽和高透光不能兼顾的问题。
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公开(公告)号：CN103763902B
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201410051545.5
申请日：2014-02-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 基于四外切正交圆环及子圆环单元的电磁屏蔽光窗属于电磁屏蔽技术领域，由相同直径的金属圆环作为基本圆环组成四外切正交圆环单元并按二维正交排列密接排布构成金属网栅；四外切正交圆环单元由四个基本圆环按二维正交排列且外切连通组成，其基本圆环圆心连线方向与四外切正交圆环单元二维正交排列的阵列方向夹角为15°或75°，相邻四外切正交圆环单元的相邻基本圆环外切连通，基本圆环内设有与其内切连通的子圆环；在圆环相切连通的连接处，通过线条交叠或设置保证金属环切点间可靠电联接的金属，确保所有圆环相互导电。本发明的金属网栅结构可显著的降低网栅高级次衍射光强分布的不均匀性，使衍射造成的杂散光分布更加均匀，对成像影响更小。
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公开(公告)号：CN103763896B
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201410051496.5
申请日：2014-02-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 双层交错多周期金属圆环嵌套阵列的电磁屏蔽光窗属于电磁屏蔽技术领域，电磁屏蔽光窗由两层金属网栅旋转交错排列加载于光窗透明基片或衬底两侧构成，每层金属网栅均由一组同心金属圆环对和另一不同直径金属圆环分别按等边三角形排列密接排布构成并交叉分布加载于光窗透明基片或衬底表面，同一直径相邻圆环外切连通；同心圆环对中外圆环作为基本圆环其内部含有与其内切连通、金属的子圆环。在圆环相切连通的连接处，通过线条交叠或设置保证金属环切点间可靠电联接的金属，确保所有圆环相互导电。通过双层网栅交错角的选取，本发明的金属网栅结构可显著降低网栅高级衍射光强分布的不均匀性，使衍射造成的杂散光分布更加均匀，对成像影响更小。
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公开(公告)号：CN103813702A
公开(公告)日：2014-05-21
申请号：CN201410052268.X
申请日：2014-02-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 双层交错正交相切圆环及内切子圆环阵列电磁屏蔽光学窗属于电磁屏蔽技术领域，电磁屏蔽光学窗由两层金属网栅旋转交错排列加载于光窗两侧构成，每层金属网栅均由相同直径外切连通的金属圆环按正交排列分布密接排布构成，每个圆环内具有与该圆环内切连通的子圆环；邻基本圆环连接处和基本圆环与其内切连通子圆环连接处，通过线条交叠或设置保证金属环切点间可靠电联接的金属，确保所有圆环相互连通导电。通过双层网栅交错角的选取，本发明的金属网栅结构可显著的降低网栅高级衍射光强分布的不均匀性，使衍射造成的杂散光分布更加均匀，对成像影响更小；选取合适的基片厚度，可获得良好的电磁屏蔽效率。
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公开(公告)号：CN103763896A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201410051496.5
申请日：2014-02-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 双层交错多周期金属圆环嵌套阵列的电磁屏蔽光窗属于电磁屏蔽技术领域，电磁屏蔽光窗由两层金属网栅旋转交错排列加载于光窗透明基片或衬底两侧构成，每层金属网栅均由一组同心金属圆环对和另一不同直径金属圆环分别按等边三角形排列密接排布构成并交叉分布加载于光窗透明基片或衬底表面，同一直径相邻圆环外切连通；同心圆环对中外圆环作为基本圆环其内部含有与其内切连通、金属的子圆环。在圆环相切连通的连接处，通过线条交叠或设置保证金属环切点间可靠电联接的金属，确保所有圆环相互导电。通过双层网栅交错角的选取，本发明的金属网栅结构可显著降低网栅高级衍射光强分布的不均匀性，使衍射造成的杂散光分布更加均匀，对成像影响更小。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119663200A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202510179797.4
申请日：2025-02-19
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 本申请涉及镀膜技术领域，公开一种基于全向散布定域堆积模型的曲面超薄金属共掺杂镀膜装置，装置包括水冷循环系统、真空泵组、模式切换电机控制系统、旋转载物台、溅射头组和溅射头公转支撑臂，具备灵活的机械自由度和多种工作模式，通过全向散布定域堆积模型，结合溅射角度调控和环带拼接沉积，显著提升镀膜厚度的均匀性和掺杂材料的分布精度。装置可实现单溅射和共溅射模式切换，适用于球面、抛物面等曲率复杂的回转曲面，在5–35nm厚度范围内制备均匀的共掺杂金属薄膜。本申请能够有效降低沉积过程中的时间和成本，并克服现有方法在材料多样性、膜层连续性以及曲面适配性方面的局限性。
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公开(公告)号：CN119125206A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411290279.1
申请日：2024-09-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01N23/207 , G01N23/2055 , G01N21/47 , G01N21/84
Abstract: 一种金属网栅高级次衍射相对强度测量方法，属于微纳结构光电特性检测领域，该测量方法引入标准金属网栅衍射参考量构建测量传递链，基于双网栅衍射光强测量和比较实现衍射参考量的逐级传递。通过选取双网栅衍射图像当中与衍射参考量相对应的高级次衍射光强，取两者的比值，能够得到相邻级别衍射参考量的比值，实现了不同网栅之间衍射相对强度的之间的量值比较。该测量方法突破了传统光强传感器测量能力的限制，有效地提升了对金属网栅高级次衍射极低相对强度的测量能力，为金属网栅衍射特性的测试提供了可靠的手段。
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公开(公告)号：CN115151121B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202210731684.7
申请日：2022-06-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 宽波段光学透明小型化频率选择光窗属于光学透明电磁屏蔽及微波通信领域，该光窗表面的频率选择表面阵列由基于两种金属网栅的小型化频率选择表面单元按二维正交排列方式密接排布构成。每个单元中的贴片型频率选择表面以十字贴片为基础，将每个十字臂N等分，十字臂图案的顶端部分以及四个十字臂的等分点向垂直十字臂的两侧突出成延伸臂。本发明解决了现有光学透明频率选择表面工作频率收到单元尺寸限制很难在有限区域内使用的问题，可以在有限区域同时实现特定探测波段电磁波的传输、干扰波段的强电磁屏蔽以及宽波段的光学透明，扩展了频率选择表面的应用领域。
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公开(公告)号：CN113056183B
公开(公告)日：2022-10-28
申请号：CN202110061247.4
申请日：2021-01-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H05K9/00
Abstract: 一种基于介质‑超薄掺杂金属‑介质的网栅结构电磁屏蔽光学窗属于光学透明件电磁屏蔽领域。该光学窗利用共掺杂沉积方法在超薄厚度条件下得到表面连续、粗糙度极低的高质量掺杂金属膜。并进一步利用透明导电的介质‑超薄掺杂金属‑介质取代传统的金属材料制作网栅结构，大幅提升可见光波段的透光率，并相对于金属网栅结构，抑制了其可见光波段的强光学衍射效应，解决高级次衍射能量分布集中带来成像质量退化的问题。同时开孔状的网栅结构增强了红外波段金属薄膜的通透性，扩展了金属薄膜在红外波段应用的范围。
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公开(公告)号：CN106413362B
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201510449150.5
申请日：2015-07-28
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 基于石墨烯网栅与透明导电薄膜的双向吸波透明电磁屏蔽器件属于光学透明件电磁屏蔽技术领域，该电磁屏蔽器件利用石墨烯网栅薄膜具有不同的网孔单元开孔面积比时表现出的不同透光和微波屏蔽特性，将石墨烯网栅薄膜的低反射和部分吸收微波特性与高透光导电薄膜的强电磁反射特性有机结合，将石墨烯网栅薄膜置于透明导电薄膜两侧构成多层结构：用透明导电薄膜作为透明反射层，用N层被透明介质分隔的石墨烯薄膜作为透明吸收层；该结构可同时使来自其两侧的射频辐射多次穿过透明吸收层而被强吸收，实现强屏蔽和低反射特性，可见光仅透过多层结构一次而具有高透光率；该电磁屏蔽光窗解决了现有透明电磁屏蔽方法双向低电磁反射、强电磁屏蔽和高透光不能兼顾的问题。
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