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公开(公告)号:CN103090161B
公开(公告)日:2015-04-22
申请号:CN201210571965.7
申请日:2012-12-19
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F16F15/02 , F16F15/023 , F16M11/04 , F16M11/18
Abstract: 基于空气弹簧零位基准和激光自准直测量的气磁隔振平台属于超精密测量与超精密加工装备,该装置采用3个或3个以上静压气磁结构的隔振器支撑气磁隔振平台台体及其负载,采用分光棱镜和光电检测器实现平台六自由度姿态监测,并在隔振器与台体之间垂向位移执行器,实现台体三自由度姿态调整;该装置中由空气弹簧式减振器支撑的零位基准装置有效隔离地面的振动对参考光束检测的影响,提高了激光束零位基准的稳定性;采用光电检测器检测参考光束的平漂和角漂,并用一对可调整相对位置间距和角度的楔角棱镜实时调整参考光束的平漂和角漂,实现参考光束校准,可显著提高平台隔振性能。
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公开(公告)号:CN103075617B
公开(公告)日:2015-03-25
申请号:CN201210571997.7
申请日:2012-12-19
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F16M11/04 , F16M11/18 , F16F15/023 , F16F15/03 , F16F15/02
Abstract: 基于磁浮零位基准和激光自准直测量的空气弹簧隔振平台属于超精密测量与超精密加工装备,该装置采用3个或3个以上静压空气弹簧结构的隔振器支撑空气弹簧隔振平台台体及其负载,采用分光棱镜和光电检测器实现平台六自由度姿态监测,并在隔振器与台体之间垂向位移执行器,实现台体三自由度姿态调整;该装置中由磁浮式减振器支撑的零位基准装置有效隔离地面的振动对参考光束检测的影响,提高了激光束零位基准的稳定性;采用光电检测器检测参考光束的平漂和角漂,并用一对可调整相对位置间距和角度的楔角棱镜实时调整参考光束的平漂和角漂,实现参考光束校准,可显著提高平台隔振性能。
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公开(公告)号:CN102866596B
公开(公告)日:2014-07-16
申请号:CN201210385289.4
申请日:2012-09-26
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种配装波纹管垂向解耦重力补偿器的微动台属于半导体制造装备技术领域,该微动台在重力补偿器顶部配置有波纹管实现垂向解耦,在垂向音圈电机动子磁钢顶部相对于轴心对称配置有由三个相同的片簧构成的支撑簧片,在基座与垂向音圈电机定子线圈之间设置有水冷环形腔,并配备有冷却水和压缩空气的均温装置,本微动台具有结构简单、易加工、可释放电机动子热膨胀应力、带走电机产热、抑制温升的特点,同时可均化冷却水和压缩空气温度,消除气路与电缆并行铺设由线缆发热带来的压缩空气温升,有利于抑制微动台微环境下的温度波动,保证微动台严苛的恒温外部环境。
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公开(公告)号:CN103075617A
公开(公告)日:2013-05-01
申请号:CN201210571997.7
申请日:2012-12-19
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F16M11/04 , F16M11/18 , F16F15/023 , F16F15/03 , F16F15/02
Abstract: 基于磁浮零位基准和激光自准直测量的空气弹簧隔振平台属于超精密测量与超精密加工装备,该装置采用3个或3个以上静压空气弹簧结构的隔振器支撑空气弹簧隔振平台台体及其负载,采用分光棱镜和光电检测器实现平台六自由度姿态监测,并在隔振器与台体之间垂向位移执行器,实现台体三自由度姿态调整;该装置中由磁浮式减振器支撑的零位基准装置有效隔离地面的振动对参考光束检测的影响,提高了激光束零位基准的稳定性;采用光电检测器检测参考光束的平漂和角漂,并用一对可调整相对位置间距和角度的楔角棱镜实时调整参考光束的平漂和角漂,实现参考光束校准,可显著提高平台隔振性能。
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公开(公告)号:CN103019046A
公开(公告)日:2013-04-03
申请号:CN201210574176.9
申请日:2012-12-19
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 基于多组独立驱动解耦控制的六自由度磁浮微动台属于半导体制造装备;该装置包括微动台底座、载物台以及在二者之间呈等边三角形布置的三组相同结构的独立驱动装置;每组独立驱动均可以产生水平和垂向驱动力且具有永磁体磁浮重力补偿功能;在微动台底座和载物台中心位置处对应固装平面光栅读数头和平面光栅尺,在微动台底座边缘处布置三个或多个电容传感器,实现六自由度的解耦测量;该装置具有结构紧凑,易于加工装配、发热量小,水平驱动力大的优点,适用于光刻机工件台水平高速高加速运动的工作需求和严苛的恒温环境需求。
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公开(公告)号:CN102734379A
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN201210201284.1
申请日:2012-06-09
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: F16F15/03 , F16F15/023
CPC classification number: F16F15/023 , F16F15/022 , F16F15/0232 , F16F15/03
Abstract: 基于电磁与静压气浮复合支撑的主动隔振装置属于超精密测量与超精密加工装备,该装置包括隔离平台、中间套筒和基座;隔离平台支撑负载对象,中间套筒支撑隔离平台,基座支撑中间套筒,基座放置在固定基础上,各部分之间采用磁浮与静压气浮复合作用的支撑方式;本发明利用静压气浮的大承载以及磁浮的负刚度特点,通过速度闭环控制方法使该隔振装置机构刚度的调节实现自动化,且对来自外界环境振动与负载扰动产生的内部振动有抑制作用。
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公开(公告)号:CN102495531A
公开(公告)日:2012-06-13
申请号:CN201110377988.X
申请日:2011-11-12
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G03F7/20 , H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 一种基于自主同步调向的双工件台回转交换方法与装置属于半导体制造装备;该装置包含一个由回转换台电机定子、回转换台电机动子以及旋转连接件构成的回转换台装置,工件台均设置有自旋装置,该自旋装置包括自旋电机定子、自旋电机动子、自旋电机动子转接件,回转换台装置与自旋电机动子转接件对接带动工件台绕基台中心旋转实现位置交换;本装置解决了现有回转换台存在的工件台相位反转、线缆缠绕以及激光干涉仪目标丢失等问题,具有转动惯量小、在相同转矩条件下换台时间短、工件台的运行效率高和光刻机产率高的特点。
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公开(公告)号:CN101963763A
公开(公告)日:2011-02-02
申请号:CN201010244148.1
申请日:2010-08-03
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种基于双驱双桥换台工位的双工件台高精度交换装置属于半导体制造装备技术,该装置增加了一个具有双驱双桥结构的换台工位,两组双驱桥式结构分别由两根U型槽式直线电机定子和静压气浮导轨对称配置构成;双驱双桥换台工位结构,使X方向和Y方向气浮导轨均变成短导轨形式,可明显减小被驱动体的体积和惯量,有利于提高起、停驱动速度,缩短响应时间和定位稳定时间;硅片台的长行程直线运动单元在X方向和Y方向上都采用了严格平行对称布置的双直线电机同步驱动形式,驱动力过硅片台质心,有效减小了硅片台的惯性转矩扰动,提高了系统稳定性和可靠性,为实现系统的动态和静态定位精度提供了可靠的保障。
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公开(公告)号:CN105549331A
公开(公告)日:2016-05-04
申请号:CN201610023018.2
申请日:2016-01-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F7/70716 , H02N15/00
Abstract: 基于主动平衡质量动线圈气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术,该装置包括支撑框架、平衡质量块、气磁结合气浮工件台、工件台测量装置、工件台驱动装置,两个工件台工作于测量位和曝光位之间,采用平面光栅对工件台位置进行测量,采用双电机曲柄摇杆机构组成的主动补偿结构对平衡质量块进行运动补偿,工件台采用气悬浮和平面电机驱动,采用双层水冷散热降温,双工件台交换过程中,采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台;本发明解决了现有换台方案节拍多、轨迹长、起停环节多、稳定时间长等问题,减少换台环节,缩短了换台时间,提高了光刻机的产率。
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公开(公告)号:CN105425552A
公开(公告)日:2016-03-23
申请号:CN201610023019.7
申请日:2016-01-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70733 , G03F7/70716
Abstract: 基于平面光栅测量动磁钢气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置属于半导体制造装备技术,该装置包括支撑框架、平衡质量块、气磁结合气浮工件台、工件台测量装置、工件台驱动装置、传感器信号传输装置,两个工件台工作于测量位和曝光位之间,采用平面光栅对工件台位置进行测量,采用平面片簧和电磁阻尼器组成的被动补偿结构对平衡质量块进行运动补偿,工件台采用气悬浮和平面电机驱动,双工件台交换过程中,采用平面电机驱动两个工件台实现单节拍弧线快速换台;本发明解决了现有换台方案节拍多、轨迹长、起停环节多、稳定时间长等问题,减少换台环节,缩短了换台时间,提高了光刻机的产率。
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