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公开(公告)号：CN101195178A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200710144867.4
申请日：2007-12-19
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 龙门式超精密飞切铣床，它涉及一种铣床。本发明解决了现有技术中没能提供用于平面超精密加工的专用设备来加工非线性光学领域所急需的KDP晶体等功能材料的问题。所述主轴套(38)套装在气体静压主轴(35)上，飞刀盘(34)安装在气体静压主轴(35)的下端上，上溜板(41)的两端通过两个中间溜板(45)与两个下溜板(46)分别固接并形成凹槽(62)，所述导轨(42)的上端安装在凹槽(62)内，真空吸盘(57)安装在上溜板(41)上，丝母(58)套装在丝杠(11)上，丝杠(11)的两端安装在导轨(42)的上端。本发明实现了高精度的直线进给运动和刀盘的回转运动，而且导轨和主轴均采用了空气静压的控制方式，具有精度高、无污染等优点。
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公开(公告)号：CN1559752A
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：CN200410013586.1
申请日：2004-02-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 微机械零件三维加工装置，它属于纳米加工装置。现有的基于扫描探针显微镜的加工还只局限于平面二维微图形，没有形成一整套类似于超精密金刚石车削加工的加工机理与相关技术。本发明包括机械台体(1)、设置在机械台体(1)上的三维粗动工作台(2)，在机械台体(1)上设有加工头部件(3)和光学系统(4)，在三维粗动工作台(2)上设有主轴系统(5)，所述三维粗动工作台(2)、加工头部件(3)、光学系统(4)、主轴系统(5)都与控制系统(6)相连。本发明产品具有精度高、效果好的优点。
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公开(公告)号：CN102303224A
公开(公告)日：2012-01-04
申请号：CN201110145033.1
申请日：2011-05-31
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种光学零件加工与检测一体化制造装置及制造方法，属于光学零件加工领域，本发明为解决现有光学零件加工大多采用离线测量方式，加工效率低；现有的光学零件加工设备无法满足在线测量的要求的问题。本发明的工件主轴、刀具主轴和剪切干涉仪安装在加工机床的工作台面上，工件主轴上安装工件，刀具主轴通过摆臂及刀架安装刀具，数控系统驱动刀具主轴旋转，带动刀具对工件进行加工，剪切干涉仪发出的检测光束的光轴与工件主轴的中心线在同一直线上，剪切干涉仪发出检测光束至工件，剪切干涉仪采集检测光束返回的图像信息发送给测量信息处理系统，测量信息处理系统根据获取工件表面的面形误差信息，并发送给数控系统，数控系统对工件进行补偿加工。
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公开(公告)号：CN101195178B
公开(公告)日：2010-04-14
申请号：CN200710144867.4
申请日：2007-12-19
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 龙门式超精密飞切铣床，它涉及一种铣床。本发明解决了现有技术中没能提供用于平面超精密加工的专用设备来加工非线性光学领域所急需的KDP晶体等功能材料的问题。所述主轴套(38)套装在气体静压主轴(35)上，飞刀盘(34)安装在气体静压主轴(35)的下端上，上溜板(41)的两端通过两个中间溜板(45)与两个下溜板(46)分别固接并形成凹槽(62)，所述导轨(42)的上端安装在凹槽(62)内，真空吸盘(57)安装在上溜板(41)上，丝母(58)套装在丝杠(11)上，丝杠(11)的两端安装在导轨(42)的上端。本发明实现了高精度的直线进给运动和刀盘的回转运动，而且导轨和主轴均采用了空气静压的控制方式，具有精度高、无污染等优点。
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公开(公告)号：CN101285747A
公开(公告)日：2008-10-15
申请号：CN200810064383.3
申请日：2008-04-25
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 原位纳米拉伸实验测量检测装置，它涉及一种拉伸实验测量检测装置。本发明解决了现有的机械性能的测量及微观形貌的检测是独立的、分离的两个过程的问题。本发明的步进电机(1)的输出轴与联轴器(2)固接，机架底板(4)上固装有导轨(7)，导轨(7)上安装有左车架组(42)和右车架组(43)，左右旋丝杠(8)的两端分别与联轴器(2)和轴承座(21)连接，力传感器(18)的左右端面分别与右夹具连接块(14)和力传感器保持架(19)固接，读数装置(44)安装在机架底板(4)上，拉伸测量装置(41)固装在检测装置的工作台(46)上。本发明促进了需要对样品在受力状态下微观形貌变化进行动态观察的研究领域的进一步发展，对纳米复合功能材料的机械性能的测量及微观形貌的检测具有重要的理论意义和良好的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101249612A
公开(公告)日：2008-08-27
申请号：CN200810064006.X
申请日：2008-02-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B23Q1/01
Abstract: 超精密近零摩擦导轨，本发明涉及一种导轨。本发明是为解决现有机床导轨本体与溜板之间存在摩擦力及驱动系统影响到溜板和导轨本体间的直线运动精度的问题，本发明的溜板由上溜板、两个下溜板和两个侧溜板组成，定子设置在凹槽内并通过连接座固定在导轨本体上，齿条的上端与上溜板的下端面固定连接，齿条与转子啮合，上溜板上与导轨本体对应处设有上节流孔，侧溜板上与导轨本体对应处设有侧节流孔，下溜板上与导轨本体对应处设有下节流孔。本发明采用了直线电机作为驱动本体直接驱动溜板，溜板的直线运动精度可以达到纳米量级，导轨本体与溜板之间没有直接接触，导轨本体与溜板之间的摩擦力接近于零，从而消除了导轨本体与溜板之间摩擦力。
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公开(公告)号：CN101032802A
公开(公告)日：2007-09-12
申请号：CN200710072022.9
申请日：2007-04-11
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 常压等离子体抛光方法，它涉及一种抛光方法。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法存在的不足及在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、易产生表层及亚表层损伤、表面清洗困难等问题。本发明的方法主要是，等离子体气体与反应气体的体积比为4∶1～1000∶1；启动射频电源，逐步施加功率，控制反射功率为零，初始有效功率为180～240瓦，常用功率为400～1200瓦，最高功率可加至1500瓦。本发明可在常压下通过等离子体化学反应实现超光滑表面加工，不需要真空室，可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的十倍，并且无表面损伤、无亚表层损伤、无表面污染，抛光工件的表面粗糙度小于1nm Ra。
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公开(公告)号：CN1876320A
公开(公告)日：2006-12-13
申请号：CN200610010296.0
申请日：2006-07-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 常压等离子体抛光装置，它涉及一种抛光装置。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法存在的不足及在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、易产生表层及亚表层损伤、表面清洗困难等问题。本发明的主要部件包括：密封工作舱(51)、等离子体炬(53)、第一联动系统(52)、第二联动系统(57)、第一流量控制器(60)、第二流量控制器(65)、反应气体瓶(61)、等离子体气体瓶(62)、气体回收处理装置(63)，等离子体炬(53)安装在第一联动系统(52)上。本发明可在常压下通过等离子体化学反应实现超光滑表面加工，不需要真空室，可降低设备成本并扩大其使用范围。加工效率是传统抛光方法的十倍，并且无表面损伤、无亚表层损伤、无表面污染。
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公开(公告)号：CN1864921A
公开(公告)日：2006-11-22
申请号：CN200610010156.3
申请日：2006-06-14
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 用于超光滑表面加工的电容耦合式射频常压等离子体炬，它涉及一种等离子体抛光设备。本发明的目的是为解决常规的机械式研抛方法在碳化硅等硬脆性难加工材料的超光滑表面加工中存在的效率低、容易产生表层及亚表层损伤和现有的平行板式等离子体抛光方法中存在的加工痕迹难以消除，以及感应耦合式等离子体炬存在的内炬管易腐蚀，成本高，系统的维护性不好等问题。本发明阴极(6)的外壁与外套(9)的内壁之间形成水冷环形空间(13)，阳极水冷导管(1)设置在阳极(5)的内腔(16)内。本发明不需要真空室，本发明加工效率约是传统抛光方法的10倍。不会像真空等离子体那样对超光滑表面造成表面损伤、亚表层损伤和表面污染，实现了光学零件的高效率高质量加工。
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公开(公告)号：CN115368579B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202210790708.6
申请日：2022-07-05
Abstract: 本发明公开了一种以锰卟啉为金属有机骨架纳米酶的制备方法，仅需要用三水合硝酸铜、中‑四（4‑羧基苯基）卟吩和氯化锰，通过两步即可合成一种具有类SOD和CAT活性的纳米材料，同时能够在体内外实验中成功缓解急性心肌梗死及缺血‑再灌注损伤。本发明的方法合成步骤简单、成本低、且具有较好生物相容性，具有较好的应用前景。
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