一种倒八棱台形图形化硅衬底的制备方法

    公开(公告)号:CN109545894A

    公开(公告)日:2019-03-29

    申请号:CN201811386272.4

    申请日:2018-11-20

    Abstract: 一种倒八棱台形图形化硅衬底的制备方法,本发明涉及一种倒八棱台形图形化硅衬底的制备方法。本发明的目的是为了解决目前干法蚀刻无法制备棱锥、棱台形图形化硅衬底以及难以蚀刻制备具有高指数晶面图形化硅衬底的问题,方法为:周期性二氧化硅掩膜制备、湿法蚀刻和去除二氧化硅掩膜;本发明具有高指数晶面,高指数晶面的均方根粗糙度比低指数晶面粗糙度高约10倍,比(100)晶面的粗糙度高约4倍。而粗糙的表面可以对入射光进行多次反射并增加光程,进而降低表面对光的反射率,因此倒八棱台图形化硅衬底相比于仅有低指数晶面的倒金字塔结构具有更优的光捕获能力。本发明应用于图形化硅衬底的制备领域。

    六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法

    公开(公告)号:CN105177718B

    公开(公告)日:2018-07-03

    申请号:CN201510354323.5

    申请日:2015-06-24

    Abstract: 六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法,它涉及一种蓝宝石的制备方法。本发明是为了解决干法刻蚀在蓝宝石表面难以制作六边角锥体的问题。本方法如下:将预处理后的圆锥形图形化蓝宝石片置于石英花篮中,将石英烧杯中混合溶液A高温湿法刻蚀,然后用去离子水冲洗圆锥形图形化蓝宝石片,再氮气吹干,即得六边角锥体图形化蓝宝石。本发明的六边角锥体图形化蓝宝石的制备方法能有效地将圆锥形图形化蓝宝石转化为六边角锥体图形化蓝宝石,且生成的六边角锥体图形化蓝宝石规则有序,重复性好。且采用的设备简单,操作方便,易于掌握,过程安全、无污染。本发明属于蓝宝石的制备领域。

    检测锂离子电池电极润湿程度的方法

    公开(公告)号:CN115144428B

    公开(公告)日:2024-09-24

    申请号:CN202210782733.X

    申请日:2022-06-29

    Inventor: 张丹 范丽萍 甘阳

    Abstract: 检测锂离子电池电极润湿程度的方法,它属于锂离子电池领域。它解决了现有技术存在的问题。方法:一、组装电沉积体系;二、电解液中加入金属盐Ⅰ并混匀,得溶液A;三、向电沉积体系中注入溶液A,进行电沉积;四、电沉积后取出电极,洗净并干燥,选取电极三个不同高度位置处的样品进行电镜及能谱表征,收集数据进行分析,即完成。本发明中在锂离子电池的电解液中加入少量待沉积金属盐,通过电沉积的方法将金属颗粒沉积在电极空隙内部,通过表征电极不同位置沉积金属量判断该处润湿情况;本发明提高了润湿表征的分辨率,从毫米级提高到了亚微米级;检测装置容易搭建,表征手段简单且易操作,降低成本。本发明适用于检测锂离子电池电极润湿程度。

    对称六角星形图形化蓝宝石的制备方法

    公开(公告)号:CN105420816A

    公开(公告)日:2016-03-23

    申请号:CN201510990151.0

    申请日:2015-12-24

    Inventor: 申健 张丹 甘阳

    CPC classification number: C30B33/10 C30B29/20 H01L33/22

    Abstract: 对称六角星形图形化蓝宝石的制备方法,它涉及一种蓝宝石的制备方法。本发明是为了解决干法刻蚀在蓝宝石表面难以制作具备多种晶面的图形化蓝宝石衬底的问题。本方法如下:将预处理后的圆锥形图形化蓝宝石片置于石英花篮中,将石英烧杯中混合溶液A高温湿法刻蚀,然后用去离子水冲洗圆锥形图形化蓝宝石片,再氮气吹干,即得对称六角星形图形化蓝宝石。本发明的对称六角星形图形化蓝宝石的制备方法能有效地将圆锥形图形化蓝宝石转化为对称六角星形图形化蓝宝石,且生成的对称六角星形图形化蓝宝石规则有序,重复性好。采用的设备简单,操作方便,易于掌握,过程安全、无污染。本发明属于蓝宝石的制备领域。

    采用AFM金刚石探针对陶瓷材料进行纳米条纹阵列加工的方法

    公开(公告)号:CN106316468B

    公开(公告)日:2019-02-19

    申请号:CN201610629882.7

    申请日:2016-08-03

    Abstract: 采用AFM金刚石探针对陶瓷材料进行纳米条纹阵列加工的方法,它涉及一种对超硬陶瓷材料局部进行超细纳米条纹阵列结构加工的方法。本发明是为了解决超硬陶瓷材料化学惰性高、硬度大,难加工的技术问题。本方法如下:一、制备AFM金刚石针尖;二、AFM金刚石针尖对超硬陶瓷材料(SiC单晶)表面刻划。本发明是一种对超硬陶瓷材料进行超细纳米条纹阵列结构加工的方法,能直观地观察金刚石晶体对超硬陶瓷材料的刻划情况,在超硬陶瓷材料表面刻划出超细纳米条纹阵列(条纹宽度低至15nm),具有重复性好、效率高等优点。本发明属于对超硬陶瓷材料进行超细纳米条纹阵列结构加工的领域。

    采用青蒿素晶体对陶瓷材料局部抛光的方法

    公开(公告)号:CN105619185B

    公开(公告)日:2018-06-22

    申请号:CN201511027840.8

    申请日:2015-12-30

    Abstract: 采用青蒿素晶体对陶瓷材料局部抛光的方法,它涉及一种对SiC单晶进行抛光的方法。本发明是为了解决采用金刚石加工SiC,会造成表面损伤,很难达到亚纳米表面粗糙度的技术问题。本方法如下:一、将青蒿素晶体均匀分散在解理的云母表面,将无针尖的原子力显微镜探针在紫外固化灯下辐照30分钟后装针,进针直到无针尖的原子力显微镜探针接触青蒿素晶体,再次将无针尖的原子力显微镜探针在紫外固化灯下辐照30分钟;二、预处理;三、刻划;四、观察刻划区域深度。本发明是一种微区模拟的方法,能直观地观察青蒿素晶体对SiC材料的去除情况,且刻划区域明显,重复性好。本发明属于对陶瓷材料局部抛光的领域。

    α-Al2O3单晶表面SiO2掩膜的制作方法

    公开(公告)号:CN104992900B

    公开(公告)日:2018-01-30

    申请号:CN201510354321.6

    申请日:2015-06-24

    Abstract: α‑Al2O3单晶表面SiO2掩膜的制作方法,它涉及一种单晶表面SiO2掩膜的制作方法。本发明是要解决光刻工艺制备SiO2掩膜步骤复杂,成本高,导致现有α‑Al2O3单晶表面SiO2掩膜难以在α‑Al2O3上制备的问题。方法:一、预处理;二、将分散了SiO2球的无水乙醇滴加于α‑Al2O3单晶表面;三、将经步骤二处理后的α‑Al2O3单晶置于室温下5min,然后放置于管式炉中处理,即完成α‑Al2O3单晶表面SiO2掩膜的制作。本发明的能简单地在α‑Al2O3单晶表面制备SiO2掩膜,且可得到微米级六边形SiO2掩膜和纳米级半球形SiO2掩膜,该制备方法重复性好。制备的SiO2掩膜设备简单,操作方便,易于掌握,过程安全、无污染。本发明属于掩膜的制备领域。

    对称六角星形图形化蓝宝石的制备方法

    公开(公告)号:CN105420816B

    公开(公告)日:2017-10-03

    申请号:CN201510990151.0

    申请日:2015-12-24

    Inventor: 申健 张丹 甘阳

    Abstract: 对称六角星形图形化蓝宝石的制备方法,它涉及一种蓝宝石的制备方法。本发明是为了解决干法刻蚀在蓝宝石表面难以制作具备多种晶面的图形化蓝宝石衬底的问题。本方法如下:将预处理后的圆锥形图形化蓝宝石片置于石英花篮中,将石英烧杯中混合溶液A高温湿法刻蚀,然后用去离子水冲洗圆锥形图形化蓝宝石片,再氮气吹干,即得对称六角星形图形化蓝宝石。本发明的对称六角星形图形化蓝宝石的制备方法能有效地将圆锥形图形化蓝宝石转化为对称六角星形图形化蓝宝石,且生成的对称六角星形图形化蓝宝石规则有序,重复性好。采用的设备简单,操作方便,易于掌握,过程安全、无污染。本发明属于蓝宝石的制备领域。

    采用青蒿素晶体对陶瓷材料局部抛光的方法

    公开(公告)号:CN105619185A

    公开(公告)日:2016-06-01

    申请号:CN201511027840.8

    申请日:2015-12-30

    CPC classification number: B24B1/00

    Abstract: 采用青蒿素晶体对陶瓷材料局部抛光的方法,它涉及一种对SiC单晶进行抛光的方法。本发明是为了解决采用金刚石加工SiC,会造成表面损伤,很难达到亚纳米表面粗糙度的技术问题。本方法如下:一、将青蒿素晶体均匀分散在解理的云母表面,将无针尖的原子力显微镜探针在紫外固化灯下辐照30分钟后装针,进针直到无针尖的原子力显微镜探针接触青蒿素晶体,再次将无针尖的原子力显微镜探针在紫外固化灯下辐照30分钟;二、预处理;三、刻划;四、观察刻划区域深度。本发明是一种微区模拟的方法,能直观地观察青蒿素晶体对SiC材料的去除情况,且刻划区域明显,重复性好。本发明属于对陶瓷材料局部抛光的领域。

    无间距三角锥图形化蓝宝石的制备方法

    公开(公告)号:CN105552177A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201510990029.3

    申请日:2015-12-24

    Inventor: 申健 张丹 甘阳

    CPC classification number: H01L33/005

    Abstract: 无间距三角锥图形化蓝宝石的制备方法,它涉及一种蓝宝石的制备方法。本发明是为了解决干法刻蚀在蓝宝石表面难以制作超高占位比三角锥的问题。本方法如下:将预处理后的圆锥形图形化蓝宝石片置于石英花篮中,将石英烧杯中混合溶液A高温湿法刻蚀,然后用去离子水冲洗圆锥形图形化蓝宝石片,再氮气吹干,即得超高占位比三角锥图形化蓝宝石。本发明的超高占位比三角锥图形化蓝宝石的制备方法能有效地将圆锥形图形化蓝宝石转化为超高占位比三角锥图形化蓝宝石,且生成的超高占位比三角锥图形化蓝宝石规则有序,重复性好。采用的设备简单,操作方便,易于掌握,过程安全、无污染。本发明属于蓝宝石的制备领域。

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