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公开(公告)号：CN103170376B
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：CN201310120021.2
申请日：2013-04-08
Applicant: 南通大学
Abstract: 本发明涉及一种双层流净化工作台，包括进气系统、排气系统，进气系统下方设有散流板，散流板下方为工作腔体，散流板前侧沿横向开设大孔，散流板其余部位沿横向开设小孔，排气系统包括位于工作腔体内且竖直放置的集流板，集流板的开孔从上至下逐渐增大，集流板的外侧装有集流罩，集流罩下部通过排气管与排气装置相连，工作腔体内的气流水平地通过集流板后被集流罩收集，然后经排气管被排气装置排出。本发明散流板采用突变孔形式，使工作腔体形成两个正压区域，其中靠近工作人员一侧气压大于内侧气压；排气系统放置在工作腔体内侧，采用渐变孔形式，使工作腔体内的气流水平地通过集流板后被集流罩收集，避免工作腔体下方出现的气流反弹现象。
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公开(公告)号：CN112536248B
公开(公告)日：2021-11-09
申请号：CN202011248874.0
申请日：2020-11-10
Applicant: 南通大学
Abstract: 本发明提供了一种电脑一体机显示器除尘装置，属于计算机除尘领域。其技术方案为：包括底板，底板上设置旋转机构，旋转机构上设置电脑一体机，旋转机构两侧对称设置定位机构，底板一端设置有移动机构，移动机构上固定设置有除尘机构，除尘机构沿电脑一体机显示器的宽度方向移动，除尘机构上设置有擦除组件，擦除组件沿电脑一体机显示器的高度方向升降，擦除组件升降到合适位置后，擦除组件向垂直于电脑一体机显示器的方向延伸。本发明的有益效果为：可以对电脑一体机显示器进行正面以及背面除尘，防止电脑在除尘的过程中发生旋转，防止作用力作用在显示屏上造成显示屏破裂，防止在电脑显示器屏幕上产生单向方向上的除尘痕迹。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112536248A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN202011248874.0
申请日：2020-11-10
Applicant: 南通大学
Abstract: 本发明提供了一种电脑一体机显示器除尘装置，属于计算机除尘领域。其技术方案为：包括底板，底板上设置旋转机构，旋转机构上设置电脑一体机，旋转机构两侧对称设置定位机构，底板一端设置有移动机构，移动机构上固定设置有除尘机构，除尘机构沿电脑一体机显示器的宽度方向移动，除尘机构上设置有擦除组件，擦除组件沿电脑一体机显示器的高度方向升降，擦除组件升降到合适位置后，擦除组件向垂直于电脑一体机显示器的方向延伸。本发明的有益效果为：可以对电脑一体机显示器进行正面以及背面除尘，防止电脑在除尘的过程中发生旋转，防止作用力作用在显示屏上造成显示屏破裂，防止在电脑显示器屏幕上产生单向方向上的除尘痕迹。
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公开(公告)号：CN103691633B
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：CN201310685395.9
申请日：2013-12-16
Applicant: 南通大学
Abstract: 本发明公开了一种匀胶机托盘，包括：硅片承片台和真空吸片管，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，所述硅片承载平面为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面的圆心向内开设有一储胶槽，并在所述储胶槽的中间设有一个圆台形凸台；所述真空吸片管包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述圆台形凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。通过上述方式，本发明能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞，同时避免了损伤匀胶台。
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公开(公告)号：CN103714331A
公开(公告)日：2014-04-09
申请号：CN201410010908.0
申请日：2014-01-10
Applicant: 南通大学
Abstract: 本发明公开了一种基于点分布模型面部表情特征的提取方法，具体步骤包括：通过标记人体面部图像面部特征点的坐标建立起人体面部的形状模型；选取相对较为理想形状向量作为初始样本，其他的向量与初始样本进行形状上的相互对应直到相邻两次的平均形状向量差别小于某一特定值;通过使用Gabor小波核函数的计算并采样从而获得一组不同的频率和相位的特征点的面部特征点的精细定位。通过上述方式，本发明一种基于点分布模型面部表情特征的提取方法利用Gabor小波变换系数进行人脸识别的弹性图匹配，得到了不受样本影响的理想的面部表情特征，在提取对不相关变形保持不变、噪声不敏感，类别区分度大的特征具有明显优势。
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公开(公告)号：CN103557827A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310496422.8
申请日：2013-10-21
Applicant: 南通大学
IPC: G01B21/18
Abstract: 本发明涉及一种基于激光氧化法的P型硅太阳能电池PN结结深测量方法，利用激光能量高，局部加热效果好的特点，在纯氧环境下，对硅表面进行加热氧化，然后逐层去除氧化层，达到逐层剥离表层硅材料的目的；由于激光加热在纯氧环境下进行，形成的氧化物固定了表层的杂质，减少了表层杂质的挥发；并且本发明利用磷元素易在氧化层/硅界面富集的原理，针对通过热扩散所形成的扩散区表面浓度大，体内浓度小的特点，使得磷元素由于热作用而导致的杂质浓度降低的现象受到抑制，从而降低杂质产生再分布对测量精度的干扰。实验证明，本发明测深测量方法简单易行，测量精确，测量成本低。
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公开(公告)号：CN203725337U
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201320826273.2
申请日：2013-12-16
Applicant: 南通大学
Abstract: 本实用新型公开了一种匀胶机托盘，包括：硅片承片台和真空吸片管，所述硅片承片台的顶端有一硅片承载平面，所述硅片承载平面为一圆形水平面，沿着所述硅片承载平面的圆心向内开设有一储胶槽，并在所述储胶槽的中间设有一个圆台形凸台；所述真空吸片管包括：上端和真空吸片口，所述上端位于所述圆台形凸台内，所述真空吸片口位于所述上端的顶部，并且所述真空吸片口与所述硅片承载平面间的垂直距离大于3mm。通过上述方式，本实用新型能够有效地阻挡光刻胶被吸入真空吸片口内，避免了真空吸片口因吸入光刻胶而导致的吸力不足或堵塞，同时避免了损伤匀胶台。
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