一种单相铁电薄膜、制备方法及有效电阻调控方式

    公开(公告)号:CN102157682B

    公开(公告)日:2014-08-20

    申请号:CN201010559251.5

    申请日:2010-11-25

    Abstract: 本发明公开了一种通过铁电极化可以调控有效电阻的单相铁电薄膜、制备方法及有效电阻调控方式。本发明的单相铁电薄膜包括B位掺杂的锆钛酸钡Ba1-xSrxTi1-yByO3、铁酸铅Pb(Fe1-yBy)O3、钴酸铅Pb(Co1-yBy)O3、锆钛酸铅(Pb1-xAx)(ZryTi1-y)O3、A位掺杂的锰酸钇Y1-xAxMnO3、铁酸铋Bi1-xAxFeO3、钛酸铋Bi4-xAxTi3O12;本发明利用脉冲激光沉积、激光分子束外延、磁控溅射的薄膜制备方法制备单相铁电薄膜;制得的铁电薄膜的厚度在0.4-1000纳米,并且具有较大的电导和漏电流,同时具备铁电性和半导体性能;本发明提供了一种提高单相铁电薄膜抗疲劳性能的方法,其铁电极化翻转次数可以提高到x=102~1010次,通过翻转铁电极化,可以调控单相铁电薄膜的有效电阻。

    一种单相铁电薄膜、制备方法及有效电阻调控方式

    公开(公告)号:CN102157682A

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN201010559251.5

    申请日:2010-11-25

    Abstract: 本发明公开了一种通过铁电极化可以调控有效电阻的单相铁电薄膜、制备方法及有效电阻调控方式。本发明的单相铁电薄膜包括B位掺杂的锆钛酸钡Ba1-xSrxTi1-yByO3、铁酸铅Pb(Fe1-yBy)O3、钴酸铅Pb(Co1-yBy)O3、锆钛酸铅(Pb1-xAx)(ZryTi1-y)O3、A位掺杂的锰酸钇Y1-xAxMnO3、铁酸铋Bi1-xAxFeO3、钛酸铋Bi4-xAxTi3O12;本发明利用脉冲激光沉积、激光分子束外延、磁控溅射的薄膜制备方法制备单相铁电薄膜;制得的铁电薄膜的厚度在0.4-1000纳米,并且具有较大的电导和漏电流,同时具备铁电性和半导体性能;本发明提供了一种提高单相铁电薄膜抗疲劳性能的方法,其铁电极化翻转次数可以提高到x=102~1010次,通过翻转铁电极化,可以调控单相铁电薄膜的有效电阻。

    高精度直线导轨副静刚度综合测量装置

    公开(公告)号:CN208736640U

    公开(公告)日:2019-04-12

    申请号:CN201820856749.X

    申请日:2018-06-01

    Abstract: 本实用新型公开了一种高精度直线导轨副静刚度综合测量装置,本实用新型装置固定座固定在水平的台面板上,导轨副、基准板固定在固定座上,用于测量导轨副变形量的位移传感器组安装在滑动块上;压力传感器与压块连接;加载装置带动压块下降,分别通过圆柱体在滑动块上施加线载荷F1与F2;本实用新型测量装置将载荷F1与F2分解为四个方向的等效载荷,位移传感器组测得的变形量亦换算为四个方向的等效变形量。本实用新型在保证高效测量滚动直线导轨副静刚度的同时,大大提高了测量结果的准确性与可靠性,对导轨副综合静刚度的测评具有重要意义。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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