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公开(公告)号：CN210666225U
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201921591582.X
申请日：2019-09-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: G02B27/42
Abstract: 本实用新型公开了一种透射式衍射光学元件的光学成像系统，属于光场调控领域，包括：光源和透射式衍射光学元件；光源与衍射光学元件放置于同一光轴上，且透射式衍射光学元件位于光源出射光的方向；光源用于提供入射光；复合相位信息用于调节透射式衍射光学表面浮雕结构的高度和宽度以获取与零级光在光轴不同位置聚焦的目标光场；其中，复合相位信息包括调制相位信息和聚焦相位信息；调制相位信息用于使入射光通过透射式衍射光学元件后生成目标光场；聚焦相位信息用于使目标光场和零级光在光轴上不同位置聚焦。本实用新型采用聚焦相位使得目标光场和零级光在光轴不同位置聚焦，即使存在零级光也不影响目标光场的成像效果。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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