面向增材制造的蒙皮点阵结构及结构的内支撑设计方法

    公开(公告)号:CN115495952A

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202211188474.4

    申请日:2022-09-27

    Abstract: 本发明涉及轻量化结构技术领域,尤其涉及一种面向增材制造的蒙皮点阵结构及结构的内支撑设计方法。该方法利用设计好并按尺寸装配的模型为设计基础,通过对蒙皮进行离散,确定支撑点位,得到的内支撑满足打印支撑,保障了上蒙皮与点阵芯层之间的载荷传递的同时尽量减少了对点阵芯层力学性能分布的影响。并且,由于在建模过程中对蒙皮几何进行了空间离散,提取节点的空间坐标,可以方便地转化为有限元模型进行计算或用于制备,为产品的设计及仿真计算带来了便利,具有十分重要的工程应用价值。蒙皮点阵结构具有合理内支撑结构的蒙皮点阵结构,保障了上蒙皮与点阵芯层之间的载荷传递,减少了对点阵芯层力学性能分布的影响,在打印完成后无需去除。

Patent Agency Ranking