公开(公告)号：CN114318524A

公开(公告)日：2022-04-12

申请号：CN202111629561.4

申请日：2021-12-28

Applicant: 北京大学东莞光电研究院

Inventor： 谢胜杰 ,  刘南柳 ,  姜永京 ,  陈俊成 ,  王琦 ,  张国义

IPC: C30B25/08 ,  C30B25/10 ,  C30B25/16 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明涉及一种用于调控晶圆外延生长均匀性的装置及方法，该用于调控晶圆外延生长均匀性的装置包括加热炉、托盘、支撑杆、温度传感器、引线及温度控制模块，托盘与支撑杆均安装于加热炉内，托盘用于放置生长晶圆或测温晶圆，支撑杆连接托盘，支撑杆用于驱动托盘转动；温度传感器安装于托盘上，引线的一端连接温度传感器，另一端连接温度控制模块，引线穿设支撑杆，并用粘接剂密封；工作时，生长晶圆或测温晶圆用于放置于温度传感器上。本装置通过温度传感器实时监测生长晶圆或测温晶圆的表面温度，且将监测的温度在线反馈至温度控制模块进行控温，测温和控温精确，确保调控晶圆外延生长的均匀性，实现大尺寸晶圆生长的一致性。

公开(公告)号：CN217869190U

公开(公告)日：2022-11-22

申请号：CN202222244009.X

申请日：2022-08-25

Applicant: 北京大学东莞光电研究院

Inventor： 谢胜杰 ,  陈垦宇 ,  刘南柳 ,  王琦 ,  张国义

IPC: C30B25/12 ,  C30B25/14 ,  C23C16/458 ,  C23C16/455

Abstract: 本实用新型公开了一种提高多片机晶圆生长均匀性的装置，包括支撑杆和设置于所述支撑杆上的载盘，所述支撑杆受驱旋转时，所述载盘随之旋转，所述载盘上设有用于放置晶圆的托盘，所述载盘和所述托盘之间设有导气盘，借由所述导气盘向所述托盘提供气流驱动所述托盘转动。通过支撑杆带动载盘进行公转，通过导气盘向托盘提供倾斜气流驱动托盘自转，进而实现卫星旋转，最终实现晶圆厚度成环状均匀分布，且晶圆中心与边缘厚度也均匀分布。