公开(公告)号：CN101052917A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200580036565.4

申请日：2005-09-08

Applicant: 信越化学工业株式会社 ,  凸版印刷株式会社

Inventor： 吉川博树 ,  稻月判臣 ,  冈崎智 ,  原口崇 ,  岩片政秀 ,  高木干夫 ,  福岛祐一 ,  佐贺匡

IPC: G03F1/08

CPC classification number: G03F1/46 ,  G03F1/58 ,  G03F1/68

Abstract: 本发明涉及一种光掩模坯料及光掩模，其是形成在透明基板上设置了具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模的原材料，是在透明基板上，经过或不经过其它的膜(A)形成1层或2层以上的遮光膜，构成上述遮光膜的层的至少1层(B)作为主要成分含有硅和过渡金属，而且硅和过渡金属的摩尔比是硅∶金属＝4～15∶1(原子比)的光掩模坯料及使用该光掩模坯料在透明基板上形成具有对曝光光透明的区域和实效上不透明的区域的掩模图案的光掩模。