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发明公开
用于反射掩模坯料的带膜衬底、反射掩模坯料和制造反射掩模的方法审中-实审

公开(公告)号：CN115933303A

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202211212404.8

申请日：2022-09-29

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 高坂卓郎 , 生越大河

IPC: G03F1/24

Abstract: 本发明涉及一种用于反射掩模坯料的带膜衬底、反射掩模坯料和制造反射掩模的方法。所述用于反射掩模坯料的带膜衬底包括衬底、在与衬底接触侧处的具有一种组成且在最远离衬底侧的不同组成具有不同组成的多层反射膜和背面导电膜。与衬底接触侧处的组成包含硅和氮作为主要组成，而最远离衬底侧处的组成含有钽作为主要组成，以及选自硅、锗和铝中的至少一种元素。

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