公开(公告)号：CN1326702C

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200410081989.X

申请日：2004-12-15

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 牛岛隆志 ,  山崎刚生 ,  照井真 ,  早川和宏

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1603 ,  B41J2/14145 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1634 ,  B41J2/1642 ,  B41J2/1643 ,  B41J2/1646 ,  Y10T428/24331 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/24562 ,  Y10T428/2457 ,  Y10T428/24612

Abstract: 一种梁，该梁具有一个由单晶硅制成的基底材料和至少一个凸起，凸起被一体制成，凸起的至少一端受到支撑，凸起包括两个具有定向平面(111)的表面，该梁包括：一个底面，该底面位于一个与基底材料共面的平面内；一个沟槽，该沟槽从底面贯穿到凸起的顶部；和一个保护部件，该保护部件对各向异性晶体蚀刻液体具有耐受性并覆盖着沟槽的一个内壁。

公开(公告)号：CN101362397A

公开(公告)日：2009-02-11

申请号：CN200810144085.5

申请日：2008-08-06

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 照井真 ,  金杉勇一郎 ,  宇山刚矢 ,  原田浩司

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1404 ,  B41J2/14137 ,  B41J2/14145 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1631 ,  B41J2/1632 ,  B41J2/1642

Abstract: 本发明提供一种液体排出头及其制造方法。该液体排出头包括：基板；流路壁形成层，其与基板结合，以在基板与流路壁形成层之间形成液体用流路，该流路与被构造成排出液体的排出口连通；被构造成产生用于从排出口排出液体的能量并设置在流路壁形成层上的元件；金属层，其设置有与所述元件对应的排出口；以及突出部，其由金属制成，并且该突出部从金属层延伸穿过流路壁形成层，并且向基板的方向突出。

公开(公告)号：CN100427311C

公开(公告)日：2008-10-22

申请号：CN200510124604.8

申请日：2005-11-09

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 照井真

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16

Abstract: 本发明提供一种具有优异的排放能力的喷墨记录头及其制造方法，使用最小的需要量的耐墨水保护膜覆盖墨水供应孔的侧壁。其中通过蚀刻基片的暴露部分，涂覆基片的蚀刻部分，并且交替地重复蚀刻和涂覆步骤，直至蚀刻的部分变成与液体流动通路相连接为止，从而形成墨水供应孔；并且对于凹陷部分的深度a和相邻凸起部分的距离b，当深度a是1μm或者更小，并且距离b是5μm或者更小的时候，a和b满足如下关系：b/a≥1.7。

公开(公告)号：CN1772487A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：CN200510124604.8

申请日：2005-11-09

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 照井真

IPC: B41J2/14 ,  B41J2/16

CPC classification number: B41J2/1626 ,  B41J2/1603

Abstract: 本发明提供一种具有优异的排放能力的喷墨记录头及其制造方法，使用最小的需要量的耐墨水保护膜覆盖墨水供应孔的侧壁。其中通过蚀刻基片的暴露部分，涂覆基片的蚀刻部分，并且交替地重复蚀刻和涂覆步骤，直至蚀刻的部分变成与液体流动通路相连接为止，从而形成墨水供应孔；并且对于凹陷部分的深度a和相邻凸起部分的距离b，当深度a是1μm或者更小，并且距离b是5μm或者更小的时候，a和b满足如下关系：b/a≥1.7。

公开(公告)号：CN1693080A

公开(公告)日：2005-11-09

申请号：CN200510069706.4

申请日：2005-05-08

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 小室博和 ,  尾崎照夫 ,  小山修司 ,  久保康祐 ,  照井真 ,  早川和宏 ,  柬理亮二 ,  加藤雅隆

IPC: B41J2/16 ,  B41J2/135

Abstract: 提供一种喷墨记录头用基体的制造方法和记录头的制造方法，用来形成更均匀的发热电阻层。该喷墨记录头用基体具有：表面上有绝缘层的支撑体、配置在该支撑体的上述表面上的一对电极层、以及连续地覆盖该一对电极层和它们之间的发热电阻层，其制造方法包括：在上述支撑体上形成电极层的工序；以及通过刻蚀上述电极层，形成上述一对电极层的工序，在形成上述一对电极层的工序中，对位于上述绝缘层的上述一对电极层之间的表面部分进行刻蚀，在上述绝缘层的该部分上形成凹部。

公开(公告)号：CN1636730A

公开(公告)日：2005-07-13

申请号：CN200410011499.2

申请日：2004-12-24

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 照井真

IPC: B41J2/135 ,  B41J2/16

CPC classification number: B41J2/14129 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1628 ,  Y10T29/42 ,  Y10T29/49083 ,  Y10T29/49155

Abstract: 一种具有喷出墨水的喷出口的喷墨记录头的制造方法，其特征在于：在具有通过对形成该喷出口的喷出口形成部件进行干法刻蚀而形成喷出口的工序的喷墨记录头的制造方法中，上述喷出口形成部件由含Si树脂形成；并且上述干法刻蚀工序，是使用以氧和氯为必需成分的刻蚀气体进行的。