公开(公告)号：CN102310675A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201110187670.5

申请日：2011-06-29

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 千场达夫 ,  鹤崎毅 ,  浅川浩 ,  仲田有佳

IPC: B41M5/50

CPC classification number: B41M5/508 ,  D21H19/82

Abstract: 喷墨记录介质，其在基材上包括墨接受层，其中MD/CD，即MD方向上的纤维取向与CD方向上的纤维取向之比为1.65以上，并且水中浸渍开始后600秒CD方向上的水中伸长率为1.75％以下。

公开(公告)号：CN102267301A

公开(公告)日：2011-12-07

申请号：CN201110143531.2

申请日：2011-05-31

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 田中考利 ,  浅川浩 ,  永岛齐 ,  浅尾昌也

IPC: B41M5/50

CPC classification number: B41M5/00

Abstract: 本发明提供记录介质，其能够抑制转移不足的发生、降低记录介质的最外表面上的划痕的可见性并且抑制进行记录时斑点图案的发生。该记录介质具有基材和设置在该基材上的墨接受层，其中该记录介质的最外表面的由JIS B 0601：2001规定的算术平均粗糙度Ra为1.1μm-2.5μm，并且该记录介质的最外表面的由JIS B 0601：2001规定的粗糙度曲线的偏度Rsk为0.1以下。

公开(公告)号：CN102189861A

公开(公告)日：2011-09-21

申请号：CN201110060007.9

申请日：2011-03-03

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 田中考利 ,  浅川浩 ,  永岛齐

IPC: B41M5/00

CPC classification number: B41M5/502 ,  B41M2205/42

Abstract: 记录介质，其包括基材和在该基材上设置的至少两个多孔墨接受层，其中，作为第二位远离该基材的层，下层配置在上层的基材侧，该上层最远离该基材。该上层和下层的孔分布曲线分别具有一个峰和两个峰。将给出该一个峰和该两个峰的孔半径分别记为R1以及R2、R3，其中R2小于R3时，R1为8nm-11nm，R2为5nm以上，R2小于R1，R1与R2之间的差为2nm以上，R3不小于R1，R3与R1之间的差为3nm以下。孔半径R2和R3时的孔容积分别为VR2和VR3时，比例VR2/VR3为0.8-2.4。

公开(公告)号：CN100532114C

公开(公告)日：2009-08-26

申请号：CN200410058900.8

申请日：2004-08-04

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 永岛齐 ,  三东刚 ,  佐藤元昭 ,  浅川浩 ,  砂田宗克 ,  角本聪子

IPC: B41M5/00 ,  C01F7/36 ,  B01F3/12

CPC classification number: B41M5/52 ,  B41M5/508 ,  B41M5/5218 ,  B41M5/5227 ,  B41M5/5254 ,  B41M2205/12

Abstract: 本发明目的在于提供兼具更长期的图像保存性与记录特性的记录介质和提供可确保实现该特性的制造方法。是通过将溶剂中溶解有防色料劣化剂的涂布液涂布在油墨接受层上，其中，前述防色料劣化剂为气体防劣化剂，前述油墨接受层的干燥涂布量是30g/m2以上，并且在相对于距前述油墨接受层的记录面深度方向到15μm的深度方向具有前述气体防劣化剂的浓度相对于沿记录面深度方向存在减少的浓度分布。