公开(公告)号：CN1196504A

公开(公告)日：1998-10-21

申请号：CN98106915.0

申请日：1998-04-14

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 青木诚 ,  植田重教 ,  桥爪淳一郎

IPC: G03G5/00

CPC classification number: G03G5/14773 ,  G03G5/0433 ,  G03G5/08285

Abstract: 为了改善光敏部件表面上色调剂的释放性能和滑溜性,由具有低自旋密度和短的自旋松驰时间且至少包括氢原子的非单晶碳膜形成光敏部件的表面层,从而提供能形成很精密和高质量的图象且有很长的寿命,并提供一种光敏部件,它有高灵敏度,可不引起因泄放造成的有任何缺陷的图象,并能够随时间无任何变化、稳定地获得无重影、高质量的图象。

公开(公告)号：CN1168489A

公开(公告)日：1997-12-24

申请号：CN97103146.0

申请日：1997-01-17

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 桥爪淳一郎 ,  植田重教 ,  青木诚

IPC: G03G5/082 ,  G03G5/10 ,  G03G5/147

CPC classification number: C23C16/56 ,  C23C16/26 ,  G03G5/0433 ,  G03G5/08221 ,  G03G5/08285 ,  G03G5/14704

Abstract: 一种光接收元件，包括导电衬底，光电导层，和由含氢原子的非单晶碳材料组成的表面保护层，其中表面保护层的20埃或更厚的表面侧层区域，用以50MHz到450MHz振荡频率的甚高频能(VHF)分解含氟的气产生的含氟等离子体，以0.1到50埃/秒的刻蚀速度刻蚀，使表面保护层具有100埃到10000埃的厚度的淀积了氟原子的刻蚀表面，以覆盖刻蚀表面。和一种生产上述光接收元件的方法。

公开(公告)号：CN1161476A

公开(公告)日：1997-10-08

申请号：CN96105669.X

申请日：1996-04-26

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 植田重教 ,  桥爪淳一郎 ,  青木诚 ,  土田伸史

IPC: G03G15/00

CPC classification number: C23C16/44 ,  G03G5/08235 ,  G03G5/08264 ,  G03G5/08278

Abstract: 用于生产包括表层的光接收部件的一种工艺，该工艺包括形成包含碳原子、氧原子与氮原子之中至少一种的非单晶材料层，并以含氟原子的气体蚀刻该层，其中形成与蚀刻在一个能够减少其内部压力的反应器中交替地重复进行多次以便在一个衬底上形成表层；以及应用这种光接收部件的电子照相装置和应用这种光接收部件的电子照相方法。