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公开(公告)号：CN103376676B
公开(公告)日：2015-09-09
申请号：CN201310133333.7
申请日：2013-04-17
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/00 , B29C59/005 , B29C59/02 , G03G5/04 , G03G5/0525 , G03G5/147
Abstract: 本发明涉及电子照相感光构件的表面加工方法和电子照相感光构件的生产方法。在垂直于电子照相感光构件旋转轴的截面中，当作为截面与接触面(电子照相感光构件和成型构件接触的面)的交线的弧由弧AB表示，电子照相感光构件的截面的圆的中心由中心O表示以及在成型构件加压接触方向的直线中通过中心O的直线与弧AB的交点由交点C表示时，以使∠AOC和∠BOC分别满足下式(1)和(2)的方式将成型构件表面上的凹凸结构转印到电子照相感光构件的表面：0.5°≤∠AOC≤45°(1)，和0.5°≤∠BOC≤45°(2)。
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公开(公告)号：CN103229107A
公开(公告)日：2013-07-31
申请号：CN201180057032.X
申请日：2011-11-18
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/00
CPC classification number: B29C59/021 , G03G5/147 , G03G5/14704 , G03G5/14708 , G03G5/14713 , G03G5/14726 , G03G5/14756 , G03G5/14795
Abstract: 在凹凸结构形成于筒状电子照相感光构件的表面的情况下，为了即使在连续加工大量的筒状电子照相感光构件时也能够减小各个筒状电子照相感光构件之间的凹凸结构的变化，插入件被插入到包括筒状基体和表面层的筒状电子照相感光构件的内部，成型构件的表面凹凸结构被转印并形成于感光构件的表面层的表面。插入件包括具有能够抵接于基体的内周面的外周面的抵接部、位于抵接部的径向内侧的连接部和位于连接部的径向内侧的轴部。
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公开(公告)号：CN101258380B
公开(公告)日：2011-05-04
申请号：CN200680032573.6
申请日：2006-02-28
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G01B21/20
CPC classification number: G01B21/20
Abstract: 本发明的目的在于提供一种在圆筒尺寸测定尤其在圆周表面的测定中使测定工作量小、使各测定值极其准确、以及有效地减少测定点的数量的测定方法。在垂直于圆筒轴线的截面圆形状的测定方法中，本发明的特征在于具有如下步骤：基于通过转动圆筒，截面圆的圆周上的至少三个预定点到设于截面圆中的基准点的距离的变化来计算基准点与圆周上的点之间的距离，并确定截面圆的形状。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102640059B
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN200980162708.4
申请日：2009-12-04
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/043 , G03G5/04 , G03G5/0525 , G03G5/10 , G03G5/147
Abstract: 提供清洁性能优异的电子照相感光构件和具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相装置。在所述电子照相感光构件外周面上，交替地形成各自具有宽度e(μm)为0.1≤e≤25的多个平坦部和各自具有宽度w(μm)为0.1≤w≤25和深度d(μm)为0.1≤d≤3.0的多个凹槽部，从而相对于电子照相感光构件的轴向形成80≤θ≤100的角度θ(°)。基于轴向上每100μm外周面的宽度，平坦部的宽度e的总和esum(μm)满足5≤esum≤75，和在平坦部的宽度e的平均值由eAv(μm)表示和其标准偏差由eσ表示的情况中，eσ/eAv满足eσ/eAv≤0.46。
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公开(公告)号：CN102483593B
公开(公告)日：2013-08-28
申请号：CN201080038122.X
申请日：2010-08-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03G15/751 , G03G5/04 , G03G5/043 , G03G5/0542 , G03G5/0564 , G03G5/0614 , G03G5/0696 , G03G5/147 , G03G5/14756
Abstract: 提供一种电子照相设备，其包括：包括表面保护层的电子照相感光构件和曝光装置，所述曝光装置用曝光光束照射所述电子照相感光构件的表面，从而在所述电子照相感光构件表面上形成静电潜像，其中所述表面保护层包括不具有提供电荷输送性能的结构的材料并具有从表面保护层正面侧至电荷输送层侧贯通的多个通孔，以及所述表面保护层的厚度为0.1μm以上至1.5μm以下，和其中当将所述电子照相感光构件表面用所述曝光光束照射时，2个以上的所述通孔包括在曝光光束光斑中。
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公开(公告)号：CN102640059A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN200980162708.4
申请日：2009-12-04
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/147
CPC classification number: G03G5/043 , G03G5/04 , G03G5/0525 , G03G5/10 , G03G5/147
Abstract: 提供清洁性能优异的电子照相感光构件和具有所述电子照相感光构件的处理盒和电子照相装置。在所述电子照相感光构件外周面上，交替地形成各自具有宽度e(μm)为0.1≤e≤25的多个平坦部和各自具有宽度w(μm)为0.1≤w≤25和深度d(μm)为0.1≤d≤3.0的多个凹槽部，从而相对于电子照相感光构件的轴向形成80≤θ≤100的角度θ(°)。基于轴向上每100μm外周面的宽度，平坦部的宽度e的总和esum(μm)满足5≤esum≤75，和在平坦部的宽度e的平均值由eAv(μm)表示和其标准偏差由eσ表示的情况中，eσ/eAv满足eσ/eAv≤0.46。
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公开(公告)号：CN101673063B
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN200910169901.2
申请日：2009-09-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/00
CPC classification number: B05C3/10 , B05C3/09 , B05D1/18 , G03G5/0525 , G03G5/0675 , G03G5/0696 , G03G5/144
Abstract: 本发明涉及用于生产电子照相感光构件的设备和方法。本发明提供用于生产电子照相感光构件的设备，所述设备具有涂布机、输送保持构件，并具有多个伸缩罩，所述涂布机用于在涂布槽中的涂布液中浸渍多个被涂布构件，然后提起被涂布构件以在各所述多个被涂布构件表面上形成涂膜，所述输送保持构件用于保持和输送被涂布构件，当涂布机提起多个被涂布构件时，所述多个伸缩罩能够分别覆盖多个被涂布构件的各侧面并能够与多个被涂布构件的运动相关联地延伸，从而分别覆盖多个被涂布构件的各侧面，其中所述多个伸缩罩在所述罩的下部彼此连接。
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公开(公告)号：CN101673063A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910169901.2
申请日：2009-09-08
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03G5/00
CPC classification number: B05C3/10 , B05C3/09 , B05D1/18 , G03G5/0525 , G03G5/0675 , G03G5/0696 , G03G5/144
Abstract: 本发明涉及用于生产电子照相感光构件的设备和方法。本发明提供用于生产电子照相感光构件的设备，所述设备具有涂布机、输送保持构件，并具有多个伸缩罩，所述涂布机用于在涂布槽中的涂布液中浸渍多个被涂布构件，然后提起被涂布构件以在各所述多个被涂布构件表面上形成涂膜，所述输送保持构件用于保持和输送被涂布构件，当涂布机提起多个被涂布构件时，所述多个伸缩罩能够分别覆盖多个被涂布构件的各侧面并能够与多个被涂布构件的运动相关联地延伸，从而分别覆盖多个被涂布构件的各侧面，其中所述多个伸缩罩在所述罩的下部彼此连接。
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