公开(公告)号：CN103838089A

公开(公告)日：2014-06-04

申请号：CN201310593722.8

申请日：2013-11-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 三上晃司

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/36

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G03F1/70 ,  G03F7/70616

Abstract: 本发明涉及确定掩模图案和曝光条件的方法以及计算机。一种确定方法包括如下步骤：设定用于定义掩模的多个图案元素的形状的第一参数；设定用于定义有效光源分布的第二参数；以及在改变第一参数和第二参数的值的同时重复掩模图案的图像的计算以及评价项目的值的计算的过程，由此确定有效光源分布以及掩模图案，其中通过使用表示邻近效应的指标的值将图案元素的参数设定作为一个参数。

公开(公告)号：CN103488043A

公开(公告)日：2014-01-01

申请号：CN201310226984.0

申请日：2013-06-08

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 三上晃司 ,  荒井祯 ,  石井弘之

IPC: G03F1/36 ,  G03F7/20

CPC classification number: G06F17/50 ,  G03F1/36 ,  G03F1/70

Abstract: 一种图案生成方法，用于使用计算机来生成用于生成掩模的图案的单元的图案，包括：获得单元的图案的数据；通过重复改变当具有单元的图案的掩模受照射以将单元的图案的图像投影到基板上以使基板曝光时的曝光条件的参数值、以及单元的图案的参数值来计算单元的图案的图像以获得图像的评价值；以及确定当评价值满足预定的评价标准时的单元的图案的参数值。

公开(公告)号：CN1900828A

公开(公告)日：2007-01-24

申请号：CN200610105988.3

申请日：2006-07-21

Applicant: 佳能株式会社

Inventor： 高桥和弘 ,  三上晃司 ,  河野道生

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70091 ,  G03F7/70566

Abstract: 提供一种分辨力良好的曝光方法和装置。曝光装置使用来自光源的光和光学系统将标线片图形曝光到被曝光体；其特征在于：具有测量部分和控制部分；该测量部分对通过上述光学系统的上述光的偏振信息进行测量；该控制部分根据上述测量部分的测量结果对上述光源和上述光学系统中的至少一个的曝光参数进行控制；上述偏振光信息包含与光轴平行的相互直交的二方向的偏振光强度、偏振光强度比、偏振度、及相位差中至少一个。